JPS5864370A - 無電解めつき浴 - Google Patents
無電解めつき浴Info
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- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体の膜厚方向の磁化によってi録
を行う、bわゆる垂直1録に用する磁気記録媒体(磁性
膜)を作製するめっき浴に関するものである。
を行う、bわゆる垂直1録に用する磁気記録媒体(磁性
膜)を作製するめっき浴に関するものである。
従来、一般の磁気ディスク装置などの磁気記録装置にお
hては、基板上く形成された磁気記録媒体にリング型磁
気ヘッドによって水平方向に磁化するととKよシ記練を
行なってbる。
hては、基板上く形成された磁気記録媒体にリング型磁
気ヘッドによって水平方向に磁化するととKよシ記練を
行なってbる。
しかし、水平磁化による記録には記録信号が短波長に9
るに従い、即ち記録密度の増加に従って。
るに従い、即ち記録密度の増加に従って。
媒体内の反磁界が増大して残留磁化の減衰と回転を生じ
、再生出力が著しく減少するという欠点が存在する。そ
こで、この問題点解決のため短波長くなる1反磁界が小
さくなる性質をもつ垂直記録方式が提案され、仁の垂直
記録に適した磁気記録媒体としては、膜厚に垂直な方向
に磁化容易軸を−りCo −Crスパッタ膜が提案され
ている。そして、この垂直磁化記録方式は従来の水平方
向の磁化による記録方式にくらべて高密度記録に優れて
いることが報告さtLテに! (4I#ff152−1
34706号公報参照)。ところがCo −Cr膜をス
パッタ法により作製する場合、真空系内で行うため量産
性に問題がある。
、再生出力が著しく減少するという欠点が存在する。そ
こで、この問題点解決のため短波長くなる1反磁界が小
さくなる性質をもつ垂直記録方式が提案され、仁の垂直
記録に適した磁気記録媒体としては、膜厚に垂直な方向
に磁化容易軸を−りCo −Crスパッタ膜が提案され
ている。そして、この垂直磁化記録方式は従来の水平方
向の磁化による記録方式にくらべて高密度記録に優れて
いることが報告さtLテに! (4I#ff152−1
34706号公報参照)。ところがCo −Cr膜をス
パッタ法により作製する場合、真空系内で行うため量産
性に問題がある。
このためこの様な製造上の問題点を改善して量産性に優
れた無電解めっき法によシ、膜面に垂直な方向に磁化容
易軸をもつ磁気記録媒体(磁性膜)を製造・する無電解
めりき浴が見い出されている(%願昭56−02583
3 、 ’無電解めっき浴′等)。
れた無電解めっき法によシ、膜面に垂直な方向に磁化容
易軸をもつ磁気記録媒体(磁性膜)を製造・する無電解
めりき浴が見い出されている(%願昭56−02583
3 、 ’無電解めっき浴′等)。
ところで、無電解めっき浴においてはiンガン。
タングスデン、鉄等の添加金属の増加によりα−Co六
方晶のC軸(磁化容易軸)を基板に対して面内方向から
垂直方向に変化させるが、C軸の垂直配向性が良好な磁
性膜では膜面に垂直な方向の保磁力(Hc(→)が著し
く増大するという傾向がある。
方晶のC軸(磁化容易軸)を基板に対して面内方向から
垂直方向に変化させるが、C軸の垂直配向性が良好な磁
性膜では膜面に垂直な方向の保磁力(Hc(→)が著し
く増大するという傾向がある。
磁気記録媒体に垂直記録を行なう場合、’Hc(勾の値
は磁気ヘッドの記録磁界の強度により制限を受ける。ヘ
ッド磁場が磁性膜のnc(→を下回ると記録磁化反転が
起きなくなり垂直記録は行われない。通常のリング型ヘ
ッドの場合ギャップ近傍に発生する最大の磁界は300
00e程度であるが、VB気ディスク装置のように磁気
ヘッドが磁気記録体上を微小間−浮上している場合や、
磁゛性膜上に保護膜を有する場合には磁性膜の受ける配
録磁界が減少するためHc(→は11000e程度以下
であることが望ましい。しかるに従来の無電解めっき浴
よシ得られるC軸の垂直配向性の良好な磁性膜のHe(
→は12000e以上であり、路にけ20000e程度
に達する場合があり1通常のリング型ヘッドを用する場
合記録磁界が不足するという、欠点があった。
は磁気ヘッドの記録磁界の強度により制限を受ける。ヘ
ッド磁場が磁性膜のnc(→を下回ると記録磁化反転が
起きなくなり垂直記録は行われない。通常のリング型ヘ
ッドの場合ギャップ近傍に発生する最大の磁界は300
00e程度であるが、VB気ディスク装置のように磁気
ヘッドが磁気記録体上を微小間−浮上している場合や、
磁゛性膜上に保護膜を有する場合には磁性膜の受ける配
録磁界が減少するためHc(→は11000e程度以下
であることが望ましい。しかるに従来の無電解めっき浴
よシ得られるC軸の垂直配向性の良好な磁性膜のHe(
→は12000e以上であり、路にけ20000e程度
に達する場合があり1通常のリング型ヘッドを用する場
合記録磁界が不足するという、欠点があった。
本発明の目的は、この問題を改善してα−C。
六方晶のC軸が膜面に垂直な方向に十分に配向し。
かつ通常のリング型ヘッドを用いて容易に記録磁化反転
を起しうる値の保磁力(He (J−) ) を有す
る磁気記録媒体を製造できる無電解めっき浴を提供する
ことKある。
を起しうる値の保磁力(He (J−) ) を有す
る磁気記録媒体を製造できる無電解めっき浴を提供する
ことKある。
本発明による無電解めっき浴は、コバルトイオ7、tた
aコdル)イオンおよびニッケルイオン。
aコdル)イオンおよびニッケルイオン。
これら金属イオンの還元剤、pH41衡剤、 pH調
節剤並びに添加剤としてマンガンイオンを含む水溶液に
、前記金属イオンの錯化剤としてマロン酸基のはかにコ
ハク酸基が加えられていることを特徴としておシ、これ
Kより膜面に垂直な方向に磁化容易軸が配向した磁気記
録媒体のHeωを通常のリング型ヘッドを用いて容易く
記録磁化反転を起しうる所要の値まで減少させることが
できる。
節剤並びに添加剤としてマンガンイオンを含む水溶液に
、前記金属イオンの錯化剤としてマロン酸基のはかにコ
ハク酸基が加えられていることを特徴としておシ、これ
Kより膜面に垂直な方向に磁化容易軸が配向した磁気記
録媒体のHeωを通常のリング型ヘッドを用いて容易く
記録磁化反転を起しうる所要の値まで減少させることが
できる。
本発明において金属イオンとして周込られるコバルトイ
オン、ニッケルイオンあるいはマンガンイオンとしてけ
、コバルト、ニッケルあるいはマンガンの硫酸塩、塩化
塩、酢酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解す
ることKよって供給される。コバルトイオンの濃度は、
0.01〜2mol / Iの範囲が用いられるが、好
ましくはQJ)3〜0.2 mol / lの範囲であ
る。ニッケルイオンの濃度は、0〜0.5 mol /
lの範囲が用いられるが。
オン、ニッケルイオンあるいはマンガンイオンとしてけ
、コバルト、ニッケルあるいはマンガンの硫酸塩、塩化
塩、酢酸塩などの可溶性塩を無電解めっき浴中に溶解す
ることKよって供給される。コバルトイオンの濃度は、
0.01〜2mol / Iの範囲が用いられるが、好
ましくはQJ)3〜0.2 mol / lの範囲であ
る。ニッケルイオンの濃度は、0〜0.5 mol /
lの範囲が用いられるが。
好ましくは0.002〜0.08 mo I/lの範囲
である。
である。
マンガンイオンの濃度は、0.003〜2 mol /
lの範囲が用いられるが好ましくは0.02〜0.2
mol/1の範囲である。
lの範囲が用いられるが好ましくは0.02〜0.2
mol/1の範囲である。
還元剤としては次亜リン酸塩が普通に用いられるが、ヒ
ドラジン酸類、ホウ水素化物なども用いることができる
。pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸
塩などが便゛用され、0.01〜2 mol / 1の
範囲の濃度が周込られる。pH調節剤としては、 pH
の上昇にはアンモニア、水酸化ナトリウムなどのアルカ
リが用いられ、pHの降下には硫酸、塩酸などの酸が用
いられる。錯化剤としてのマロン酸基は、マロン酸また
はマロン酸の可溶性塩によって供給され、0.1〜2.
5 mol / lの範囲の濃度が用いられる。コハク
酸基はコハク酸の可溶性塩によって供給され、0.1〜
2.0 mol / lの範囲の濃度が用いられる。
ドラジン酸類、ホウ水素化物なども用いることができる
。pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸
塩などが便゛用され、0.01〜2 mol / 1の
範囲の濃度が周込られる。pH調節剤としては、 pH
の上昇にはアンモニア、水酸化ナトリウムなどのアルカ
リが用いられ、pHの降下には硫酸、塩酸などの酸が用
いられる。錯化剤としてのマロン酸基は、マロン酸また
はマロン酸の可溶性塩によって供給され、0.1〜2.
5 mol / lの範囲の濃度が用いられる。コハク
酸基はコハク酸の可溶性塩によって供給され、0.1〜
2.0 mol / lの範囲の濃度が用いられる。
以下2本発明による無電解めっき浴の特長を実施例によ
シ説明する。
シ説明する。
実施例1゜
エタノール脱脂後水洗を行った銅基板に下記条件にて活
性化処理及び促進化処理を施した後、下記のめっき浴組
成及びめっき条件にてその上にC。
性化処理及び促進化処理を施した後、下記のめっき浴組
成及びめっき条件にてその上にC。
−鳩−pl!!(膜厚−w2 am ) を形成した
。
。
活性化処理条件
H8101B (日立化成製)60CC/l、 塩酸3
20Cc/l、II水620cC/1kIM成とf2a
活性?1iK3分間浸漬する。
20Cc/l、II水620cC/1kIM成とf2a
活性?1iK3分間浸漬する。
促進化処理条件
ADP201 (8立化成製)200CC/1.純水5
OOCC/1 を組成とする促進液に3分間浸漬する
。
OOCC/1 を組成とする促進液に3分間浸漬する
。
めっき浴組成
硫酸コバルト−0,10mo I / 1次亜リン酸ナ
トリウム 0.20mol/1硫酸アンモニウ
ム 0.50 mol / 1マロン酸ナト
リウム 0.90 mol / 1硫酸マンガ
10.05mol/1 コハク酸ナトリウム 0〜0.05 mol /
1めっき条件 めっき浴のpHHe、2(室温にてNH40HでpH調
節) めっき浴の温度=85℃ コハク酸ナトリウムの濃度を0から005mo 1/1
まで変化させて得られたCo Mn−p膜の結晶構造
を明らかにするためX線回折を行った結果を次表に′示
す。表中の数字は同一試料における最大強度の回折線の
強さを100とした相対強度を示す。
トリウム 0.20mol/1硫酸アンモニウ
ム 0.50 mol / 1マロン酸ナト
リウム 0.90 mol / 1硫酸マンガ
10.05mol/1 コハク酸ナトリウム 0〜0.05 mol /
1めっき条件 めっき浴のpHHe、2(室温にてNH40HでpH調
節) めっき浴の温度=85℃ コハク酸ナトリウムの濃度を0から005mo 1/1
まで変化させて得られたCo Mn−p膜の結晶構造
を明らかにするためX線回折を行った結果を次表に′示
す。表中の数字は同一試料における最大強度の回折線の
強さを100とした相対強度を示す。
コハク酸ナトリウム濃度を増加しても(100)及び(
101)の強度が0.、(002)の強度が100とな
り、いずれもα−CoのC軸が膜面に垂直な方向に配向
した。
101)の強度が0.、(002)の強度が100とな
り、いずれもα−CoのC軸が膜面に垂直な方向に配向
した。
コハク酸ナトリウム濃度を0から0.50mol/1ま
で変化させてHc K与える効果を調べた結果を第1図
に示す。第1図は横軸にコハク酸ナトリウム濃度をとり
、縦軸にめっきされた磁性膜のHe (1,)をとった
ものである。
で変化させてHc K与える効果を調べた結果を第1図
に示す。第1図は横軸にコハク酸ナトリウム濃度をとり
、縦軸にめっきされた磁性膜のHe (1,)をとった
ものである。
コハク酸ナトリウムを加えない場合のHc (1)は1
610エルステツド(Oe)であるが、コハク酸ナトリ
ウム濃度が0.40 mol / 1では約1090エ
ルステツドとなった。めっき浴にコハク酸ナトリウムを
加えるととKより得られるHe (L)の値を通常のリ
ング型ヘッドを用いて容易に記録磁化反転を起しうる値
まで減少させる仁とができた。゛実施例λ 実施例1.と同様の李順で、下記のめっき浴組成及びめ
っき条件にてCo −Ni −Mn −P膜(膜厚二5
μm)を形成した。
610エルステツド(Oe)であるが、コハク酸ナトリ
ウム濃度が0.40 mol / 1では約1090エ
ルステツドとなった。めっき浴にコハク酸ナトリウムを
加えるととKより得られるHe (L)の値を通常のリ
ング型ヘッドを用いて容易に記録磁化反転を起しうる値
まで減少させる仁とができた。゛実施例λ 実施例1.と同様の李順で、下記のめっき浴組成及びめ
っき条件にてCo −Ni −Mn −P膜(膜厚二5
μm)を形成した。
めっき浴組成
硫酸コバルト 0.025 mol /
1硫酸ニツケル 0.005 mol
/ I次亜リン酸ナトリウム 0.20 m
ol / 1硫酸アンモニウム 0.50
mol / 1−ンーン酸ナトリウム 0.
50 mol/1硫酸77ガy 0
.04 mol/1コハク酸ナトリウム θ〜
0.60 rnol / 1めっき条件 めっき浴のpH”:9.2(室温にてNHa田にてpH
四節) めっき浴の温度ご85℃ コハク酸ナトリウムの濃度を0から0.60 mo +
/1まで変化させて得られたCo −Ni −Mn −
p MlのX線回折結果を次表に示す。
1硫酸ニツケル 0.005 mol
/ I次亜リン酸ナトリウム 0.20 m
ol / 1硫酸アンモニウム 0.50
mol / 1−ンーン酸ナトリウム 0.
50 mol/1硫酸77ガy 0
.04 mol/1コハク酸ナトリウム θ〜
0.60 rnol / 1めっき条件 めっき浴のpH”:9.2(室温にてNHa田にてpH
四節) めっき浴の温度ご85℃ コハク酸ナトリウムの濃度を0から0.60 mo +
/1まで変化させて得られたCo −Ni −Mn −
p MlのX線回折結果を次表に示す。
コハク酸ナトリウム濃度を増加しても(002)面のみ
があられれ、いずれもα−CoのC軸が膜面Ka直な方
向に配向し九。
があられれ、いずれもα−CoのC軸が膜面Ka直な方
向に配向し九。
コハク酸ナトリウムの濃度を0から0.60mol/1
まで変化させてHCGL)K与える効果を調べた結果を
第2IiIlに示す。コハク酸すFリウムを加えない場
合のHe (1)は1970エルステツドであるが、コ
ハク酸ナトリウム濃度増加により減少し、コ/−り酸ナ
トリウム0.60 mol / l においてHc (
−L)は1050エルステツドとなった。めっき浴にコ
ノ〜り酸ナトリウムを加えることKより得られるHe
(L)の値を通常のリング型ヘッドを用いて容易に記録
磁化反転を起こしうる値まで減少させることができた。
まで変化させてHCGL)K与える効果を調べた結果を
第2IiIlに示す。コハク酸すFリウムを加えない場
合のHe (1)は1970エルステツドであるが、コ
ハク酸ナトリウム濃度増加により減少し、コ/−り酸ナ
トリウム0.60 mol / l においてHc (
−L)は1050エルステツドとなった。めっき浴にコ
ノ〜り酸ナトリウムを加えることKより得られるHe
(L)の値を通常のリング型ヘッドを用いて容易に記録
磁化反転を起こしうる値まで減少させることができた。
膜面に垂直な方向に磁化容易軸をもつ磁気記録媒体を用
い、膜面に垂直に磁化する垂直磁化記録方式は、従来一
般の磁気ディスク装置に用いられている水平方向の磁化
による記録方式に比べて高密度記録に優れていることが
’¥tWa@ 52−134706号会報に述べられて
いるが、実施例1.及び2.のめつき浴より得られる磁
性膜はこの垂直磁化記録の磁気記録媒体に用いることが
できる。
い、膜面に垂直に磁化する垂直磁化記録方式は、従来一
般の磁気ディスク装置に用いられている水平方向の磁化
による記録方式に比べて高密度記録に優れていることが
’¥tWa@ 52−134706号会報に述べられて
いるが、実施例1.及び2.のめつき浴より得られる磁
性膜はこの垂直磁化記録の磁気記録媒体に用いることが
できる。
以上、実施例で示された様に本発明によれば、磁性膜を
作製するめっき浴においてコバルトイオン。
作製するめっき浴においてコバルトイオン。
またはコバルトイオンおよびニッケルイオン、これら金
属イオンの還元剤、 pH緩術剤、pH調節剤並びに
添加剤としてマンガンイオンを含む水溶液に、前記金属
イオンの錯化剤として4゛筒ン酸基のほかに、?゛ハク
酸基加えることKよりc軸の垂直配向性に影響を与える
ことなく、磁性膜のHc (1)を通常のリング型ヘッ
ドを用いて容易に記録磁化反転を起しうる所要の値まで
減少させることができる。
属イオンの還元剤、 pH緩術剤、pH調節剤並びに
添加剤としてマンガンイオンを含む水溶液に、前記金属
イオンの錯化剤として4゛筒ン酸基のほかに、?゛ハク
酸基加えることKよりc軸の垂直配向性に影響を与える
ことなく、磁性膜のHc (1)を通常のリング型ヘッ
ドを用いて容易に記録磁化反転を起しうる所要の値まで
減少させることができる。
第1図は実施例1.のめつき浴におけるコノ・り酸ナト
リウム濃度と)4c (1)の関係を示す図、第2図は
実施例2.のめつき浴における同様の関係を示す図であ
る。
リウム濃度と)4c (1)の関係を示す図、第2図は
実施例2.のめつき浴における同様の関係を示す図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 コバルトイオン、またはコバルトイオンおよびニ
ッケルイオン、これら金属イオンの還元剤。 pH緩衝剤、 pH調節剤並びに添加剤としてマンガ
ンイオンを含む水溶液に前記金属イオンの錯化剤として
マロン酸基及びコノ・り酸基を加えることを特徴とする
無電解めっき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16402681A JPS5864370A (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 無電解めつき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16402681A JPS5864370A (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 無電解めつき浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5864370A true JPS5864370A (ja) | 1983-04-16 |
| JPH0362795B2 JPH0362795B2 (ja) | 1991-09-27 |
Family
ID=15785382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16402681A Granted JPS5864370A (ja) | 1981-10-14 | 1981-10-14 | 無電解めつき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5864370A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS494635A (ja) * | 1972-05-10 | 1974-01-16 | ||
| JPS56155705A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of aggregate wood |
| JPS56155706A (en) * | 1980-05-06 | 1981-12-02 | Ai Tadashi | Automatic cutter for small width veneer |
-
1981
- 1981-10-14 JP JP16402681A patent/JPS5864370A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS494635A (ja) * | 1972-05-10 | 1974-01-16 | ||
| JPS56155705A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of aggregate wood |
| JPS56155706A (en) * | 1980-05-06 | 1981-12-02 | Ai Tadashi | Automatic cutter for small width veneer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0362795B2 (ja) | 1991-09-27 |
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