JPS5892732U - 軟ｘ線リソグラフイ−用マスク - Google Patents
軟ｘ線リソグラフイ−用マスクInfo
- Publication number
- JPS5892732U JPS5892732U JP18635481U JP18635481U JPS5892732U JP S5892732 U JPS5892732 U JP S5892732U JP 18635481 U JP18635481 U JP 18635481U JP 18635481 U JP18635481 U JP 18635481U JP S5892732 U JPS5892732 U JP S5892732U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- soft
- ray lithography
- lithography mask
- polyethylene terephthalate
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、本考案によるマスクの構成とそれを用いた感
光方法の一例を示す断面図である。 １・・・・・・ポリエチレンテレフタレート膜、２・・
・・・・Ａ１膜、３・・・・・・集積回路基板、４・・
曲感光物質層、５・・・・・・照射光。
光方法の一例を示す断面図である。 １・・・・・・ポリエチレンテレフタレート膜、２・・
・・・・Ａ１膜、３・・・・・・集積回路基板、４・・
曲感光物質層、５・・・・・・照射光。
Claims (1)
- 軌道放射光などをつかった軟Ｘ線リソグラフィー用の集
積回路形成用マスクにおいて、アルミニュームの膜を、
ポリエチレンテレフタレート膜上に回路パターン形状に
形成してなることを特徴とする軟Ｘ線リソグラフィー用
マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18635481U JPS5892732U (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 軟ｘ線リソグラフイ−用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18635481U JPS5892732U (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 軟ｘ線リソグラフイ−用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892732U true JPS5892732U (ja) | 1983-06-23 |
Family
ID=29988226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18635481U Pending JPS5892732U (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 軟ｘ線リソグラフイ−用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892732U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312274A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of mask for x-ray exposure |
| JPS5326113A (en) * | 1976-08-23 | 1978-03-10 | Nippon Gakki Seizo Kk | Electronic musical instrument |
-
1981
- 1981-12-16 JP JP18635481U patent/JPS5892732U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5312274A (en) * | 1976-07-21 | 1978-02-03 | Oki Electric Ind Co Ltd | Production of mask for x-ray exposure |
| JPS5326113A (en) * | 1976-08-23 | 1978-03-10 | Nippon Gakki Seizo Kk | Electronic musical instrument |
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