JPS59144752A - ベンジルチオ−ルカ−バメイト誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 〔式中、ｋは低級アルキル基を表わし、Ｘは炭素数２以
上の低級アルキレン基を表わし、Ｙは水素原子、メチル
基、メトキシ基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるベンジルチオールカーバメイト誘導体（以下
、本発明化合物と記す。）、その製造法およびそれを有
効成分とする除草剤に関するものである。

（４） ある種のチオールカーバメイト誘導体は、例えば、Ｓ−
（β−フェニルエチル）−Ｎ、Ｎ−ジ（ｎ−プロピル）
チオールカーバメイトやＳ−エチル−Ｎ−ベンジル−Ｎ
−メチルチオールカーバメイトが、除草剤の有効成分と
して用いうろことは、特開昭５２−１３０９１４号公報
や特公昭５２−２０５３０　号公報に記載されている。

しかしながら、これらの化合物は、除草剤の有効成分と
して必ずしも常に充分なものであるとはいえない。

本発明化合物は、水田において問題となる種々の雑草、
例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、アゼナ、キカシグ
サ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマガヤツリ、ホタルイ
、マツバイ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ等の水田雑
草に対して除草効力を有し、しかもイネに対しては問題
となるような薬害を示さない。

従って、本発明化合物は、水田等の除草剤の有効成分と
して用いることができる。

本発明化合物は、一般式 ） 〔式中、ＫおよびＸは、前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアミン類と一般式 〔式中、Ｙは前記と同じ意味を表わす。〕で示されるベ
ンジルチオクロロホーメート誘導体とを溶媒中、脱塩化
水素剤の存在下または非存在下、０℃〜１２０℃、０．
５時間〜６時間反応させることによって製造することが
できる。

反応に供される試剤の量は、アミン類〔■〕１当量に対
して、ベンジルチオクロロホーメート誘導体［ＩＩ［）
は０．５〜１．２当量、脱塩化水素剤は１〜１．２当量
である。

溶媒には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、り（６） ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化物
、アセトニトリル、インブチロニトリル等のニトリル類
、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニ
リン、トリブチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第
三級アミン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルボルムアミド等の酸ア
ミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化
合物等あるいは、それらの混合物がある。

脱塩化水素剤には、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎｌ
Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水素化ナトリ（７） ラム等の無機塩基等がある。

反応終了後は、通常の後処理を行い、必要ならば、クロ
マトグラフィー、蒸留、再結晶、等によって精製する。

また、本発明化合物は、一般式 〔式中、ｋおよびＸは、前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるカルバモイルクロリド類と一般式〔式中、Ｙ
は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるベンジルチオ
ール誘導体とを溶媒中、脱塩化水素剤の存在下、０℃〜
１２０℃、０．５時間〜６時間反応させることによって
製造することができる。

反応に供される試剤の量は、カルバモイルク（８） ロリド類〔■〕１当量に対して、ベンジルチオール誘導
体〔■〕は０．８〜１．２当量、脱塩化水素剤は０．８
〜１．２当量である。

溶媒には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素
、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類
、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢
酸ブチル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼ
ン等のニトロ化物、アセトニトリル、インブチロニトリ
ル等のニトリル類、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミン、Ｎ−メチル
モルホリン等の第３級アミン類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、スル
ホラン等の硫黄化合物等あるいは、それらの混合物があ
る。

脱塩化水素剤には、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ、
Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基等がある
。

反応終了後は、通常の後処理を行い、必要ならば、クロ
マトグラフィー、蒸留、再結晶等によって精製する。

次１こ本発明化合物の製造例を示す。

製造例１　　（本発明化合物１の製造）Ｎ−メチル−σ
−フヱニルアミン１．４Ｆとトリエチルアミン１．２７
を５０−のトルエンに溶かし、室温で攪拌下１．９１の
ベンジルクロロチオホーメートを滴下した。滴下終了後
反応混合物を１００℃に３時間加熱した。冷後反応混合
物を水、希塩酸、水、希炭酸水素ナトリウム水溶液、水
で順次洗い、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後
、溶媒を減圧下に留去して２．５２のＳ−ベンジル−Ｎ
−メチルーＮ−（α−フェニルエチル）チオールカーバ
メートを得た。　　ｎｌ）１．５９２３製造例２　　（
本発明化合物７の製造）Ｐ−メチルベンジルメルカプタ
ン１．４２を２０１！のピリジンに溶かし、２．０９の
Ｎ−（β−フェニルエチル）−Ｎ−メチルカルバモイル
クロリドを加えて還流下に５時間加熱した。

冷後、反沁混合物に水を加え、エーテルで抽出した後エ
ーテル層を希塩酸、次いで水で洗い、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧下にエーテルを留去し、５−（ｐ−
メチルベンジル）−Ｎ−メチル−Ｎ（β−フェニルエチ
ル）チオールカーバメート２．４　ｆを得た。

ｎ　Ｄｌ　、５８２８ このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを、第１表に示す。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合は、
通常固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補
助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤
する。

これらの製剤には有効成分として本発明化合物を、重量
比で０．５〜９５％、好ましくは１〜９０％含有する。

固体担体には、カオリンクレー、アッタパルジャイトク
レー、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライト、タ
ルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アンモニ
ウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物があ
り、液体担体には、キシレン、メチルナフタレン等の芳
香族炭化水素類、イソプロパツール、エチレングリコー
ル、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘ
キサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油等
の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水
等がある。

乳化、分散、湿炭等のために用いられる界面活性剤には
、アルキル硫酸エステル塩、アルキル（アリール）スル
ホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩等の
陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポ
リマー、ソルビタン脂肪酸エステＪＬ／、ポリオキシエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性
剤等がある。

製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸
塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、ＣＭＣ（カ
ルボキシメチルセ／ｌｚロース）、ＰＡＰ　（酸性リン
酸イソプロピル）等がある。

次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第１表の化合
物番号で示す。部は重量部を示す。

製剤例１ 本発明化合物５．５０部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部および合成含水酸
化珪素４５部をよく粉砕融合して水和剤を得る。

製剤例２ 本発明化合物１．１０部、ポリオキシエチレンスチリル
フェニルエーテル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム６部、キシレン３０部およびイソホロン４０
部をよく混合して乳剤を得る。

製剤例３ 本発明化合物１．２部、合成含水酸化珪素１部、リグニ
ンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト　３０部お
よびカオリンクレー６５部をよく粉砕混合し、水を加え
てよく練り合せた後、造粒乾燥して粒剤を得る。

製剤例４ 本発明化合物５．２５部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート３部、ＣＭＣ３部、水６９部を混合し
、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤
を得る。

これらの製剤は、そのままであるいは水等で希釈し、土
壌処理、茎葉処理あるいは湛水・処理する。なお、土壌
処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等が含まれ、茎
葉処理には作物と雑草の上方から散布する方法の他に、
薬剤が作物に付着しないよう番こ限定指向して散布する
方法（局部処理）等が含まれる。

また他の除草剤と混合して用いることにより、除草効力
の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線
虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と
混合して用いることもできる。

本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の施装置は、通常１アールあたり１１〜１００２、好ま
しくは、２２〜５０２であり、乳剤、水和剤、懸濁剤等
は、（必要ならば、展着剤等の散布補助剤を添加した）
水で希釈し、１アールあたり１リツトル〜１０リツトル
の割合で施用し、粒剤等は、なんら希釈することなくそ
のまま施用する。

展着剤には、前記の界面活性剤のほか、ポリオキシエチ
レン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビ
エチン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフ
ィン等がある。

次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は、第１表
の化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第２表
の化合物記号で示す。

（１ｑ） また、雑草および作物に対する除草効力は、調査時の供
試植物の発芽および生育阻害の程度を肉眼観察し、化合
物を供試していない場合と全くないしほとんど違いがな
いものをｒＯＪとし、供試植物が枯死ないし生育が完全
番こ阻害されているものを「５」として、０〜５の６段
階に評価し、０．１．２．３．４．５で示す。

試験例　水田土壌処理試験 直径８ｍ、深さ１２備の円筒型プラスチックポットに水
田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草（アゼナ、キカシ
グサ、ミゾハコベ）、ホタルイの種子を１〜２０の深さ
に混ぜ込んだ。湛水して水田状態とした後、２葉期のイ
ネを移植し、温室内で育成した。６日後（各雑草の発生
初期）に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その
所定量を水で希釈し、１ポツトあたり５ミリリツトルの
割合で、水面に滴下した。滴下後２０日間温室内で育成
し、除草効力を調査した。その結果を第３表に示す。

（：２６） 第　　３　　表 （２２完） ＝４７０−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　一般式 〔式中、ｋは低級アルキル基を表わし、Ｘは炭素数２以
   上の低級アルキレン基を表わし、Ｙは水素原子、メチル
   基、メトキシ基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるベンジルチオールカーバメイト誘導体。 （２）　　一般式 〔式中、ｋは低級アルキル基を表わし、Ｘ（１） は炭素数２以上の低級アルキレン基を表わυ 〔式中、Ｙは水素原子、メチル基、メトキシ基またはハ
   ロゲン原子を表わす。〕 で示されるベンジルチオクロロホーメート誘導体とを反
   応させることを特徴とする一般式〔式中、Ｒ，Ｘおよび
   Ｙは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるベンジルチオールカーバメイト誘導体の製造
   法。 （３）　　一般式 （２） 〔式中、ｋは低級アルキル基を表わし、Ｘは炭素数２以
   」二の低級アルキレン基を表わす。〕 で示されるカルバモイルクロリド類と一般式〔式中、■
   は水素原子、メチル基、メトキシ基またはハロゲン原子
   を表わす。〕 で示されるベンジルチオール誘導体とを反応させること
   を特徴とする一般式 〔式中、Ｒ，ＸおよびＹは前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるベンジルチオールカーバメイト誘導体の製造
   法。 （４）　　一般式 （３） 〔式中、ｋは低級アルキル基を表わし、Ｘは炭素数２以
   上の低級アルキレン基を表わし、Ｙは水素原子、メチル
   基、メトキシ基またはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるベンジルチオールカーバメイト誘導体を有効
   成分とすることを特徴とする除草剤。