JPS5917192B2 - 真空処理装置 - Google Patents

真空処理装置

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Publication number
JPS5917192B2
JPS5917192B2 JP10677180A JP10677180A JPS5917192B2 JP S5917192 B2 JPS5917192 B2 JP S5917192B2 JP 10677180 A JP10677180 A JP 10677180A JP 10677180 A JP10677180 A JP 10677180A JP S5917192 B2 JPS5917192 B2 JP S5917192B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
machine frame
vacuum processing
vacuum
bottom plate
Prior art date
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Expired
Application number
JP10677180A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5732368A (en
Inventor
清次 宮川
邦彦 松森
宏真 武井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5732368A publication Critical patent/JPS5732368A/ja
Publication of JPS5917192B2 publication Critical patent/JPS5917192B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空蒸着その他の真空処理装置に関する。
従来この種装置として例えば第1図示のように真空タン
クa内にサブストレートを巻取走行する 。
巻取機構その他の作動部材bを出入自在に設ける式のも
のは知られるが、この場合該タンクaは同図示のように
前面を開放する型式から成り、その前方に該前面との重
合によればこれを閉じる前面板cを備え、該作動部材b
をこれに支承させて設 。ける式を一般としたもので、
かゝるものでは該作動部材bは該前面板cに対し片持支
持となるため、充分に強固な支持を得難くかくて例えば
巻取機構の場合、ロール径或はロール回転数等の増大に
よればこれに振動を生じ勝ちとなる不都合を伴う。従来
かゝる不都合を無くすべく、ブラケットその5 他の支
持部材を大型化することは行われたが、これによれば該
タンク内の容積が減少し、かくて全体を大型化する必要
がある等の不都合を伴う。尚図示のものでは該タンクa
を床面d土に固定とし、該前面板cは台車eに取付けて
走行自在と0 した。本発明はかゝる不都合のない装置
を得ることをその目的としたもので、真空タンク内に巻
取機構その他の作動部材を出入自在に設ける式のものに
おいて、該タンクを前面と下面とが開放するフー5 ド
状の枠筐型に構成させると共に、その前方に該前面との
重合によればこれを閉じる前面板と、該下面との重合に
よればこれを閉じる底面板とから成る機枠を備えて該作
動部材を該機枠上に設けることを特徴とする。
o 本発明実施の1例を別紙図面に付説明する。
第2図はその1例を示すもので、1は真空タンク、2は
作動部材を示し、該部材2は合成樹脂フィルムその他の
サブストレートを巻取走行する巻取機構から成るものと
する。5 該タンク1は同図に明示するように前面3と
下面4とが開放するフード状の枠筐型に構成されるもの
とし、その前方に該前面3との重合によればこれを閉じ
る前面板5と、該下面4との重合によればこれを閉じる
底面板6とから成る断面L型の0 機枠Tを用意し、か
くて該タンク1は該機枠、?との結着によればその内部
を気密に閉じられるようにし、更に前記した作動部材2
はこれを該機枠1上に支承させて設けるようにした。
尚図示のものでは該機枠7を床面8上に固定と5 し、
かくてこれを台車型とする従来式のものに比し該部材2
による振動を一層減少させ得るようにし、該タンク1は
これを下面の台車9の車輪9a’りにおいて該床面8上
のレール8a上を走行自在とした。
尚該タンク1は前記したように該機枠7との結着によれ
ば気密に閉じるもので、該タンク1と該機枠7との重合
面の少くとも一方にはゴムその他のシール部材10が予
め施されるものとする。図面で11は該作動部材2の外
端を支承する支持部材を示し、該部材11は該底面板6
上に植立される。図面で12は該前面板5から外方にの
びる排気口を示す。その作動を説明するに、真空タンク
1と機枠7とが図示のように互に開いた状態から、次で
互に閉じれば該タンク1内は気密となると共に作動部材
2はその内部に収容されるもので、かくて該タンタ1内
を排気すると共に該作動部材2を作動させてサブストレ
ートの真空蒸着その他の真空処理を行うことが出来、次
で図示のように互に開いてサブストレートの交換その他
の作業に備えられる。
尚か\る作動に際し、作動部材2は前面板5と底面板6
とから成る機枠7上に支承されるもので、従来の片持支
持の場合に比しその支承が安定且堅牢であり、振動等の
不都合を生じない。更に図示のものでは、該タンク1を
前記した台車9上に左右各側の前後1対のリンク13,
13を介して連結すると共に、その後方にこれを押圧す
る作動シリンダ14を備え、かくて該シリンダ14の作
動によれば該タンク1は前下方に押され、前記・した機
枠7との間の閉じを簡単且確実に得られるようにした。
このように本発明によるときは真空タンクを前面と下面
とが開く型式とし、これと協動する機枠を前面板と底面
板とで構成してこれに作動部材を支承させるもので、該
部材が片持支持となる従来のものの前記した不都合を無
くし得られる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の側面図、第2図は本発明装置の1例の
斜面図である。 1・・・・・・真空タンク、2・・・・・・作動部材、
3・・・・・・前面、4・・・・・・下面、5・・・・
・・前面板、6・・・・・・底面板、7・・・・・・機
枠。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 真空タンク内に巻取機構その他の作動部材を出入自
    在に設ける式のものにおいて、該タンクを前面と下面と
    が開放するフード状の枠筐型に構成させると共に、その
    前方に該前面との重合によればこれを閉じる前面板と、
    該下面との重合によればこれを閉じる底面板とから成る
    機枠を備えて該作動部材を該機枠上に設けることを特徴
    とする真空処理装置。
JP10677180A 1980-08-05 1980-08-05 真空処理装置 Expired JPS5917192B2 (ja)

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JP10677180A JPS5917192B2 (ja) 1980-08-05 1980-08-05 真空処理装置

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JP10677180A JPS5917192B2 (ja) 1980-08-05 1980-08-05 真空処理装置

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JPS5732368A JPS5732368A (en) 1982-02-22
JPS5917192B2 true JPS5917192B2 (ja) 1984-04-19

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ID=14442163

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06240443A (ja) * 1992-12-26 1994-08-30 Sony Corp 真空薄膜製造装置及びこれを用いた磁気記録媒体の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5991360U (ja) * 1982-12-12 1984-06-21 シロキ工業株式会社 反応性蒸着膜形成装置
JPS5991361U (ja) * 1982-12-12 1984-06-21 日東工器株式会社 被膜蒸着装置
JPS6016755U (ja) * 1982-12-12 1985-02-04 白木金属工業株式会社 被膜蒸着装置
JPS59107071A (ja) * 1982-12-12 1984-06-21 Nitto Kohki Co Ltd 被処理物の外表面にスパッタリング膜を形成する装置

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JPS5732368A (en) 1982-02-22

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