JPS59217247A - 光磁気記録媒体とその製法 - Google Patents

光磁気記録媒体とその製法

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JPS59217247A
JPS59217247A JP58092067A JP9206783A JPS59217247A JP S59217247 A JPS59217247 A JP S59217247A JP 58092067 A JP58092067 A JP 58092067A JP 9206783 A JP9206783 A JP 9206783A JP S59217247 A JPS59217247 A JP S59217247A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、例えは書き換え11J能な光磁気ディスクに
通用する光磁気記録媒体とその製法に係わる。
背景技術とその問題点 レーザー光、例えば半導体レーザー光による古き込み、
読み出しを行うことができ書き換え可能な光磁気ディス
クとして、希土類金属と遷移金属とのアモルファス(非
晶質)合金によるものが提案されている。このような光
磁気ディスク、すなわち光磁気記録媒体を1−!Iる方
法としては、スパッタリング法がある。この場合のスパ
ッタリンクは、1つのスパッタリング源からなされる。
すなわち、そのスパックリング源、すなわちターゲット
は、遷移金属ターゲット」二に希土類金属のベレット(
lllI片)を載せた構成とし、これら金属を同時に基
体上にスパッタリンクするという方法がとられる。この
ようにして得た光磁気記録媒体の磁化曲線(磁化の強さ
M−磁場の強さ8曲線)は、第1図に示すようにそのヒ
ス′テリシス特性の角型が:小い。したがって、この場
合、何らかの理由で、記録ずみの媒体に外部磁界が与え
られた場合などにおいC媒体上の記録か劣化しS/Nを
低めてしまうなどの欠点がある。また、このような方法
による場合、記録媒体の全域に且つて一様のスパッタリ
ング、したがって一様の磁気特性を有するものがf44
 fffいという欠点がある。
発明の目的 本発明は上述した諸欠点を解消し、各部一様にすぐれた
特性を有する光磁気記録媒体とその製法を提供するもの
である。
発明の4R要 本発明においては、第2図に不ずように、基体(1)、
例えばガラス、或いはアクリル、ポリカーボネイト等よ
り成るディスク基体」二に、Tb、 Gd等の希土類金
属の車体若しくは合金による希土類金属1両(2)と、
 Fe、 Go等の遷移金属の同様に単体若しくは合金
による遷移金属J@ (31とが、夫々1層以上例えば
多層に順次交互に槓1@されるようにすると共に、これ
ら希土類金属層(2)と遷移金属層(3)との間に、こ
れら金属M f21及び(3)の各成分を共に含む中間
層(4)を介在させる。図中(5)は本発明による光磁
気記録媒体を全体としてボす。
また本発明におい°ζは、このような構成を有する光磁
気記録媒体(5)を得るに、特に希土類金属と遷移金属
とを夫々異るスパック−源とし°ζ設け、両スパッター
源から媒体(5)を構成する基体(11に向って同時に
夫々金属をスパックリングする。この場合、両スパンタ
リング椋からの基体に苅Jる主たるスパッタリング位置
が互いに異るように、両スパッタリンク源と基体との位
置関係と、史に両スパッタリング源と基体との間に配置
するマスクを選定する。そして、これり各スパッター源
と基体とを相対的に回転移動させるごとによって基体上
に、希土類金属層と、遷移金属層とを積層し、両金属層
間に希土類金属と遷移金属との両成分を含む中間層を介
在させた光磁気記録層を形成する。
このようにして、基体上に遷移金属1日と希土類金属層
とが積j−された記録層におけるその厚さ方向に関する
各金属の分布は、例えは第3図に夫々遷移金属を実線で
、希土類金属を破線で承ずように、厚さ方向に交互にピ
ークを有し、このピーク【(19では’+?−いに他の
金属を殆んど含まないような分布を生しるようにする。
すなわち遷移金属の分布のピーク部では、希土類金属を
りhんど含まれずに遷移金属のみの単−若しくは合金層
(3)が形成されるようにし、希土類金属の分布のピー
ク部では遷移金属を殆んど含まずに希土類金属のみの単
−若しくは合金1s# (21が形成され、両ピーク部
間におい゛ζ希土類合金及び遷移金属の両金属を含む中
間層(4)が形成されるようにする。
尚、この場合、基体に対するスパックリンクによる各金
属1viの成長速度は、2へ・20人/秒就中5〜10
八/秒となるように基体とスパッタリンク源との相対的
回転速度、そのほかのスパッタリング条件を選定するこ
とが望ましい。すなわち、基体とスパッタリンク源との
相対的回転速度が速すぎζ、その成長速度が2人/秒未
ンS1となると、遷移金属と4i土頬金11・べとが人
々層状に形成され難くなり、また20八/秒を超えると
磁気的特性が低トシ゛Cくるごとが認められた。
実施例 本発明製法を実施するスパッタリンク装置としては、マ
グネトロン型構成をとり得るが、これを特殊の構成とす
る。第4図は本発明製法を実施するスパッタリング装置
の一例の路線的構成をン1〜ずもので、この場合、ヘル
ジャ(図ボせず)内に、軸心0−0′を中心とし゛ζ回
転する基台(6)を設の、これの例えはト面に目的とす
る光磁気記録媒体を構成するガラス扱、樹脂板等より成
る基体txtが配置される。そして、この基体(11に
対向して軸心〇−〇′を中心に等角間隔、すなわち18
0°の角間隔を保持して2個のスパッター源(7)及び
(8)を配置6゛する。これらスパッター源(7)及び
(8)と基台(6)、すなわち基体(1)との間には、
スパッター源(7)及び(8)より人々スパッターされ
る金属のスパッター位置を規制するマスク(9)を配置
する。スパッター源(7)は希土類金属TbO扱状体よ
り成るターゲットαψを有し、スパッター源(8)は、
遷移金属Feの4Iy、状体より成るターゲット (1
1)を有して成る。 (12)及び(13)は、夫々マ
クネットをボす。
マスク(9)は、例えば第5図にボずように、クーケソ
I−QGI及び(11)にス・1間する部分にこれらタ
ーゲット00)及び(11)の中心を通る曲線X方向に
外側に向りζ広がるいIうよう形の:f5(14)及び
(15)が穿設されご成り、基台(6)が停止した状態
では基体(1)の例えは主とし′ζ−半部に一方のター
ゲ・ノド00)からの希土類金属がスパッタリングされ
、主とし°C他半f5J(、に他方のターゲ・ノド(1
1)からの遷移金属がスパックリンクされるようにする
そしC基台(6)を回転させながらターノr・ノドα旬
及び(11)を負極側として直流スバ・ツタリングを行
う。
今この方法によってこの基台(θ)の回転を1回転3秒
間の回転速度をもゲで回転さ・口て6分間、すなわら、
 120回の回転によゲCスバ・ツタリングを1]った
。この場合、基体fll上には、全体として100 (
1人の金属j−か堆イ占被着された。そして、このよう
にし゛ζ形成された金属層は、第2し1で説明したよう
にTb層、ずなわら希土類金属層(2)と、Pe1W1
へ       ”4−なわち遷移金属層(3)と両者
間に両金属の成分を含んで成る中間層(4)が介在され
た積層構造を宿するものとなった。この場合の磁化曲線
は第6図に示ずように、角型比特にlieの向上がめら
れる。
このように角型比の向上がはかられるのは、次の理由に
よるものと思われる。すなわ1つ、抗磁力11cは、磁
気異方性と歪力とに依存するが、本発明による光磁気記
録媒体においては、希+lTi金属層(2)と遷移金属
J−(31と、希土類金属及び遷移金属の両者より成る
中間層(4)とを積層したことによ−JT、主とし′C
C金金属成分含む中間層(4)においCは、両成分の相
互作用によって磁気異方性がIMられるが、上述の37
鋪(21+3+ +41の形成によって主として中間層
(4)と各金属層(2)及び(3)との間に歪力が発生
し、これがHcの改善、ひい′ζは角型の改善に寄りし
ているものと思われる。
尚、上述のスパッタリングは、直流スパッタリングで行
うことが望ましい。第7図及び第8図は、人々商周波ス
パッタリングと直流スパッタリングで夫々形成した媒体
の磁化曲線を示すもので直流スパッタリングによる場合
、よりすぐれた角型特性を示し′Cいる。
面、に述した例においては、各S土10金属Iff (
21と遷移金属層(3)とを夫々単一金属によって構成
した場合であるが、これらの一方若しくは双方を2几以
」−の組成とすることもできる。例えば希土類金属とし
てTbGd合金、X1i!移金属としてPeCo合金を
用い得る。このように希土類金属、或いは(及び)遷移
金属とし°ζZ几以十の金属より構成する場合は、クー
ゲソI−(10)或いは(及び)  (II)として夫
々これらの合金によっ°C構成するか、或いはクーゲソ
) (101或いは(及び)  (11)を部分的に、
特にマスク(9)の窓(■4)或いは(及び)  (1
5)に臨む部分において部分的に人々の金属部分の面積
の比率か、最終的に各金属+* (21或いはく及び)
(3)で得ようとする組成比の割合となるように選定J
るとか、ターゲットα0)或いは(及び)  (11)
として1種の金jホの板体上に他の金属ベレットを載せ
てそのスパッターを行うなどの方法を採り得る。
また、スパッタリンク源は、希土類金属と遷移金属とに
関し、人々異るスパッタリンク源を用いるものであるが
、これらは人々複数個設けることもできる。
発明の効果 上述したように本発明によれは、+1+い抗磁力を有し
、すぐれた角型を有する、したがってS/Nの向い光磁
気記録媒体を得ることかできるものCある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光磁気記録媒体の磁化曲線図、第2図は
本発明による光磁気記録媒体の路線的拡大14Ij i
lu図、第3図はその成分分布図、第4図は本発明製法
を実施するスパッタリング装置の一例の路線的構成図、
第5図はその要部の、sHi血図、第6し1は本発明に
よる光磁気記録媒体の磁化曲線し1、第7図1及び第8
陳1は人々本発明の説明に惧する磁化曲線図である。 (1)は基体、(2)は希土類金属層、(3)は遷移金
属層、(4)は中間層である。 第1図 第6図 第8図 第4図 第5図 第7図 手続補正書 昭和58年 7月2211 1、事件の表示 昭和58年特許願第 92067  号2、発明の名称
  光磁伝記n島体とその製法3、補正をする考 事件との関係   特許出願人 住所 東京部品用区北品用6丁1.17番35号名称(
2]8)  ソニー株式会社 代表取締没 大 賀 興 lJ:11 4、代 理 人 東京都新宿区西着i宿1丁l」8番1
−5月m111ヒIL、i1’EL東jic(03)3
43−5821 (代!、、)(3388)  弁理士
 伊    藤    貞5、油止命令のL1付   
昭和  年  月  116、補止により増加する発明
の赦 する。 (2)  明細書中、第3頁、15行1一層(2)」を
削除する。 (3)  同、同頁、16行〜第4頁1行1−遷移金属
層(3)・ぐ・全体として示す。」を、(−遷移金属と
を含む光磁気記録層(2)を有する光磁気記録媒体(3
)を構成するが、特に本発明においては、この記録N(
2)における上述の希土類金属と遷移金属との組成比が
記録層(2)の厚さ方向に関して周期的に変化するよう
にする。すなわら、第3図A及びBに、希土類金属の含
有量と遷移金属の含有量の記録層(2)の厚さ方向に関
する各分布を対比して示すように、一方が大のとき、他
方が小となるように周期的に変化させる。」と訂正する
。 (4)同、第4頁、3及び5行「媒体(5)」を夫々「
媒体(3)」と訂正する。 (5)同、同頁、13行〜第5頁、9行1−希土類金属
層と、・・・ようにする。」を[希土類金属層(4)と
、遷移金属M(5)とを、NS2図にボずように交互に
且つ相互に混入するように積層し、前述したように、希
土類金属と遷移金属との組成比が膜厚方向に関して周期
的に変化するようにする。この場合、各希土類金属層及
び遷移金属層が、相互にこれより先に堆積形成された遷
移金属層及び希土類金属層にも相互に各金属が少なくと
も拡散するようにして、希土類金属のみ、或いは遷移金
属のみによる層が存在することがないようにすることが
望まれる。」と訂正する。 (6)同、第7頁、下から4行〜第8頁1行「第2図で
説明した・・・ものとなった。」を[第2図及び第3図
で説明したようにTb、すなわち希土類金属と、Peす
なわち遷移金属の両成分を含み、その組成比が周期的に
変化した記録層が形成された。」と訂正する。 (7)同、第8頁、2行【゛角型比特に」を1角型比及
び」と訂正する。 (8)同、同頁、3行1゛角型比の向上」を1角型比及
びllcの向上」と訂正する。 (911ijJ、同頁、6〜12行「においては、希土
類金属層・・・歪力が発生し、」を1−においては、希
土類金属と遷移金属とから成る合金中、両成分の相互作
用によって磁気異方性が得られ、また記録層の膜厚方向
の両成分の組成比の違いによっ°ζ膜内部に歪力が発生
し、」と訂正する。 顛 同、第9頁、1〜2行1−各希土類金属層(2)と
遷移金属層(3)」を1各希土類金属と遷移金属」と訂
正する。 (11)同、同頁、13〜14行「率か、最終・・・組
成比の割合」を[率が、最終的に得ようとする各金属の
組成比の割合」と訂正する。 (12)同、第1O頁、16〜17行「(2)は・・・
である。」を[(2)は光磁気記録層である。」と訂正
する。 (13)図面中、第2図及び第3図を添付図面のように
補正する。 以   上  ・ 特許請求の範囲 ■、基体上に希土類金属と遷移金属とを含む光磁気記録
層が形成され、該光磁気記録層は、上記希土類金属と上
記遷移金属との組成比が厚さ方向に関して周期的に変化
するようになされた光磁気記録媒体。 2、 基体に対してJl、いに分離して設けられた遷移
金属のスパック−源と希土類金属のスバ・ツターIツ(
とから夫々の金属を同時に上記基体に対し夫々の主たる
スパックリング位置が異る位置となるようにスパッタリ
ングすると共に、上記両金属のスパッター源と上記基体
とを相対的に回転移動させることによゲC上記基体」二
に、希土類金属と遷移金属とを含み上記希土類金属と上
記遷移金属との組成比が厚さ方向に関して周期的に変化
する光磁気記録層を形成する光磁気記録媒体の製法。 第2図 八8 含肩量        含儒童 手続補正書 (特許庁審判長            殿)1、事件
の表示 昭和5B年特許願第92067  号 2、発明の名称  光磁気記録媒体とその製法3、補正
をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京部品用区北品用6丁目7番35号名称(21
8)  ソニー株式会社 代表取締役 大 賀 典 雄 5、補正命令の日付   昭和  年  月  日6、
補正により増加する廃明の数 (1)  明細書中、第10頁、6行「ある。」の次に
「尚、本発明に垂直磁化膜、すなわち光磁気記録層の異
方性定数Kuは、従来一般のそれの約1桁高い10’e
rg/ccとなった。すなわち、本発明によれば、抗磁
力Hcが高められ、これによって保存性にすぐれ、熱的
安定性にすぐれ、更に高密度記録化がはかられる。すな
わち、記録ビットの最小径dは、 (Ewは磁壁エネルギー、 Msは飽和磁化)で与えら
れるので、Hcが大となるととKよって記録ビットの径
dを小さくでき、これによって高密度記録化がはかられ
るのである。 また、従来一般の希土類−遷移金属による光磁気記録層
の場合、その飽和磁化Ms一温度温度性特性第9図中破
線図示のような7エリ磁性を示すものであり、その補償
温度Tcomp近傍で用いられるものであるが、本発明
によるMs−’L’IP#性は、第9図中実線図示の特
性を示し、その補償温度Tcompは、0°にないしは
それ以下となるので、特性の安定化がはかられ、これに
伴ってその作製方法も容易となるものである。」を加入
する。 (2)同、第10頁、15行「化曲線図である。」を「
化曲線図、第9図は飽和碍化一温度特性曲線図である。 」と訂正する。 (3)図面中、添付図面第9図を追加する。 以   上 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l、基体上に、希土類金属層と、遷移金属層と、両金属
    jd間に介在された上記希土類金属及び上記遷移金属の
    両成分を含む中間層とが積層されて成る光磁気記録媒体
    。 2、基体に対して互いに分離して設けられた遷移金属の
    スパッター源と希土類金属のスパッター源とから夫々の
    金属を同時に上記基体に対し夫々の主たるスパックリン
    グ源置が異る位置となるようにスパッタリングすると共
    に、上記両金属のスパッター隙と」1記基体とを相対的
    に回転移動させることによって上記基体上に、希土類金
    属1−と、遷移金属層と、両金属層間に介在された上記
    希土類金属及び上記遷移金属の両成分を含む中間層とが
    積!−された光磁気記録媒体の製法。
JP58092067A 1983-05-25 1983-05-25 光磁気記録媒体とその製法 Expired - Lifetime JPH0670858B2 (ja)

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