JPS597123A - 4−置換−{4′−〔トランス−4″−(トランス−4′″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕シクロヘキセン−1′−イル}ベンゼン - Google Patents
4−置換−{4′−〔トランス−4″−(トランス−4′″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕シクロヘキセン−1′−イル}ベンゼンInfo
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- JPS597123A JPS597123A JP11518282A JP11518282A JPS597123A JP S597123 A JPS597123 A JP S597123A JP 11518282 A JP11518282 A JP 11518282A JP 11518282 A JP11518282 A JP 11518282A JP S597123 A JPS597123 A JP S597123A
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は広い温度範囲で液晶相を示す低粘性な液晶物質
に関する。
に関する。
液晶表示素子は液晶物質が有する光学異方性及び誘電異
方性を利用したものであるが、その表示方式にはTN型
、DS型、ゲスト・ホスト型、DAP型、ホワイト・テ
ィラー型など各種の方式があり、それぞれの方式により
使用される液晶物質に要求される性質も異る。例えば表
示素子の種類によって、液晶物質として誘電異方性Δε
が正のものを必要としたり、負のものを必要としたヤ、
或はその中間的な値のものが適したりする。しかしいず
れにしても使用される液晶物質はできるだけ広い温度範
囲で液晶相を示し、又水分、熱、空気、光などに対して
安定である必要がある。現在のところ単、−化合物でこ
の様な条件をすべて満たすものはなく、数種の液晶化合
物や非液晶化合物を混合して一応実用に耐えるものを得
ているのが現状である。
方性を利用したものであるが、その表示方式にはTN型
、DS型、ゲスト・ホスト型、DAP型、ホワイト・テ
ィラー型など各種の方式があり、それぞれの方式により
使用される液晶物質に要求される性質も異る。例えば表
示素子の種類によって、液晶物質として誘電異方性Δε
が正のものを必要としたり、負のものを必要としたヤ、
或はその中間的な値のものが適したりする。しかしいず
れにしても使用される液晶物質はできるだけ広い温度範
囲で液晶相を示し、又水分、熱、空気、光などに対して
安定である必要がある。現在のところ単、−化合物でこ
の様な条件をすべて満たすものはなく、数種の液晶化合
物や非液晶化合物を混合して一応実用に耐えるものを得
ているのが現状である。
近年広い温度範囲、即ち一80°Cから90℃位まで動
作する液晶表示素子が要求されて来ている。この様な要
求を満九すために、よシ広い温度範囲で液晶相を示し、
かつ低粘性な液晶化合物が必要とされている。
作する液晶表示素子が要求されて来ている。この様な要
求を満九すために、よシ広い温度範囲で液晶相を示し、
かつ低粘性な液晶化合物が必要とされている。
本発明の化合物は広い温度範囲で液晶相を示し低粘性で
あシ、二重結合を有するため、シス・トランスの分離操
作がなく製造が容易である。
あシ、二重結合を有するため、シス・トランスの分離操
作がなく製造が容易である。
即ち本発明は一般式
(上式中RとR′は水素原子又は炭素数1〜10を有す
るアルキル基又はアルコキシ基を示す) で表わされる4−置換−(4’−()ランス−4″−(
):7ンスー4#′−アルキルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシルコシクロヘキセン−1′−イル)ベンゼンであ
る。
るアルキル基又はアルコキシ基を示す) で表わされる4−置換−(4’−()ランス−4″−(
):7ンスー4#′−アルキルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシルコシクロヘキセン−1′−イル)ベンゼンであ
る。
本発明の化合物、例えば4−メチル−(4′−()ラン
ス−4“−(トランス−4#−エチルシフ四ヘキシル)
シフ目ヘキシル〕シクロヘキセン−1’−イル)ベンゼ
ンは結晶−スメクチック点59、4 ’C、スメクチッ
ク−ネマチック点り84℃、ネマチック−透明点284
°Cと広い温度範囲で液晶相を示し、少量の添加で液晶
温度範囲の広い低粘性なネマチック液晶組成物をりくる
のに適した物質である。
ス−4“−(トランス−4#−エチルシフ四ヘキシル)
シフ目ヘキシル〕シクロヘキセン−1’−イル)ベンゼ
ンは結晶−スメクチック点59、4 ’C、スメクチッ
ク−ネマチック点り84℃、ネマチック−透明点284
°Cと広い温度範囲で液晶相を示し、少量の添加で液晶
温度範囲の広い低粘性なネマチック液晶組成物をりくる
のに適した物質である。
つぎに本発明の製造法を示す。4−メトキシプ四モベン
ゼンにマグネシウムを作用させ4−メトキシベンゼンマ
グネシウムプpミトトシ、−ttLK4−()ランス−
4′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキサノンを反
応させ4−メトキシ−(4’−()ランス−4〃−アル
キルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−オール1
ベンゼン(1)を得る。これを脱水して4−メトキシ−
(4’−()ランx−4“−アルキルシクロヘキシル)
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン(I’Iを得る
。これをラネーNiを触媒として還元し再結晶して4−
メトキシ−(トランス−4′−()ランス−1−フルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン(vI)
を得る。これを臭化水素酸で脱メチル反応を行ない4−
ヒドロキシ−〔トランス−4’−()ランス−4″−ア
ルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼンα)
を得る。つぎにこれをRu/Cを触媒として150°C
160kq/ciで接触還元を行ない4−(トランス−
4’−()ランス−4“−フルキルシクロヘキシル)シ
フ四ヘキシル〕シクロヘキサーノールa)が得られる。
ゼンにマグネシウムを作用させ4−メトキシベンゼンマ
グネシウムプpミトトシ、−ttLK4−()ランス−
4′−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキサノンを反
応させ4−メトキシ−(4’−()ランス−4〃−アル
キルシクロヘキシル)シクロヘキセン−1′−オール1
ベンゼン(1)を得る。これを脱水して4−メトキシ−
(4’−()ランx−4“−アルキルシクロヘキシル)
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン(I’Iを得る
。これをラネーNiを触媒として還元し再結晶して4−
メトキシ−(トランス−4′−()ランス−1−フルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン(vI)
を得る。これを臭化水素酸で脱メチル反応を行ない4−
ヒドロキシ−〔トランス−4’−()ランス−4″−ア
ルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼンα)
を得る。つぎにこれをRu/Cを触媒として150°C
160kq/ciで接触還元を行ない4−(トランス−
4’−()ランス−4“−フルキルシクロヘキシル)シ
フ四ヘキシル〕シクロヘキサーノールa)が得られる。
これをアセトン中、クロム酸−硫酸混液で酸化反応を行
ない4−(トランス−4’−()ランス−4“−アルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキサノン
ON)を得る。つぎに4−置換−ブpモベンゼンをマグ
ネシウムと反応させグリニヤール試薬としたものに(資
)を滴下し、4−置換−(4’−()ランス−4”−(
)ランス−4#−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
シルコシクロヘキサン−1′−オール1ベンゼン(1)
を得る。これを脱水すると4−置換−(4’−(トラン
ス−4“−(トランス−4#−アルキルシクロヘキシル
)シクロヘキシルコシクロヘキセン−1′−イル)ベン
ゼン中カ得られる。
ない4−(トランス−4’−()ランス−4“−アルキ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキサノン
ON)を得る。つぎに4−置換−ブpモベンゼンをマグ
ネシウムと反応させグリニヤール試薬としたものに(資
)を滴下し、4−置換−(4’−()ランス−4”−(
)ランス−4#−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキ
シルコシクロヘキサン−1′−オール1ベンゼン(1)
を得る。これを脱水すると4−置換−(4’−(トラン
ス−4“−(トランス−4#−アルキルシクロヘキシル
)シクロヘキシルコシクロヘキセン−1′−イル)ベン
ゼン中カ得られる。
以上を化学式で示すと次のようになる。
R−0(壜> OCH3■
R30CI(M @
R−QCイJan (V)
ReOH(IV)
CrOs/Hz80<
R−O(X〉O(I)
以下、実施例により本発明の化合物につきさらに詳細に
説明する。
説明する。
実施例1(4−メチル−(4’−()ランス−4″−(
)ランス−47−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ルコシクロヘキセン−r−イル)ベンゼンの製造〕 マグネシウム切片1.2f(0,049モル)を8つロ
フラスコに入れ、4−ブロモアニソール9.2f(0,
049モル)をテトラヒドロフラフに溶かした溶液80
−を、窒素気流中で反応温度を80〜86℃に保ち、攪
拌しなからゆつくシ滴下して行くと反応して8時間でマ
グネシウムは溶けて均一になシ4−メトキシフェニルマ
グネシウムプロミドを生ずる。これに4−(トランス−
4′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキサノンの10
.2F(0,049モル)をテトラヒドロフラフに溶か
して501F/としたものを、反応温度を5〜10℃に
保ちつつなるべく速かに滴下する。滴下後、85°Cま
で昇温し80分間攪拌し、ついで8N塩酸60m+/を
加える。反応液を分液漏斗にとp 200 mlのトル
エンで8回抽出後、合わせたトルエン層を水で洗液が中
性になるまで洗浄してからトルエンを減圧留去する。残
留した油状物L4−メトキシ−(l′−ヒドロキシ−4
’−()ランス−4“−エチルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル〕ベンゼン:cある。
)ランス−47−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシ
ルコシクロヘキセン−r−イル)ベンゼンの製造〕 マグネシウム切片1.2f(0,049モル)を8つロ
フラスコに入れ、4−ブロモアニソール9.2f(0,
049モル)をテトラヒドロフラフに溶かした溶液80
−を、窒素気流中で反応温度を80〜86℃に保ち、攪
拌しなからゆつくシ滴下して行くと反応して8時間でマ
グネシウムは溶けて均一になシ4−メトキシフェニルマ
グネシウムプロミドを生ずる。これに4−(トランス−
4′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキサノンの10
.2F(0,049モル)をテトラヒドロフラフに溶か
して501F/としたものを、反応温度を5〜10℃に
保ちつつなるべく速かに滴下する。滴下後、85°Cま
で昇温し80分間攪拌し、ついで8N塩酸60m+/を
加える。反応液を分液漏斗にとp 200 mlのトル
エンで8回抽出後、合わせたトルエン層を水で洗液が中
性になるまで洗浄してからトルエンを減圧留去する。残
留した油状物L4−メトキシ−(l′−ヒドロキシ−4
’−()ランス−4“−エチルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル〕ベンゼン:cある。
これに硫酸水素カリウム6fを加え窒素気流中160℃
で2時間脱水する。冷却後200 mlのトルエンを加
えてから硫酸水素カリウムを戸別し、トルエン層を洗液
が中性になるまで水洗する。次いでトルエンを減圧留去
し、残る゛油状物をエタノールで再結晶して得られるの
が目的の4−メトキシ−(4’−()ランス−4”−エ
チルシクロベキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベ
ンゼンである。このもの70Fをラネーニッケル触媒1
.Ofと共にエタノール120胃jに溶かし常圧50℃
で接触還元を行ない、水素500 tyrlを吸収させ
た。触媒を炉別し、そのまま再結晶させる。得られたも
のはシス体とトランス体の混合物なので、さらにエタノ
ールで再結晶をくり返し、トランス体を単離する。得ら
れた4−メトキシ−(トランス−4’−()ランス−4
//−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼ
ン80Fを酢酸450 yglに溶かし臭化水素酸(4
7%)450sjを加え80時間還流する。反応後冷却
して結晶を析出炉別し、濾過物をエタノールで再結晶さ
せ4−ヒドロキシ−(トランス−4’−()ランス−4
“−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン
を得る。
で2時間脱水する。冷却後200 mlのトルエンを加
えてから硫酸水素カリウムを戸別し、トルエン層を洗液
が中性になるまで水洗する。次いでトルエンを減圧留去
し、残る゛油状物をエタノールで再結晶して得られるの
が目的の4−メトキシ−(4’−()ランス−4”−エ
チルシクロベキシル)シクロヘキセン−1′−イル〕ベ
ンゼンである。このもの70Fをラネーニッケル触媒1
.Ofと共にエタノール120胃jに溶かし常圧50℃
で接触還元を行ない、水素500 tyrlを吸収させ
た。触媒を炉別し、そのまま再結晶させる。得られたも
のはシス体とトランス体の混合物なので、さらにエタノ
ールで再結晶をくり返し、トランス体を単離する。得ら
れた4−メトキシ−(トランス−4’−()ランス−4
//−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼ
ン80Fを酢酸450 yglに溶かし臭化水素酸(4
7%)450sjを加え80時間還流する。反応後冷却
して結晶を析出炉別し、濾過物をエタノールで再結晶さ
せ4−ヒドロキシ−(トランス−4’−()ランス−4
“−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕ベンゼン
を得る。
このもの20fをオートクレーブに入れエタノール40
0ttlを加えRu/C8fを加え180°C50に9
/dで接触還元を行なう。触媒を炉別し溶媒を減圧留去
し4−(トランス−4’−()ランス−4“−エチルシ
クロヘキシル)シクロヘキシル)シクロヘキサノールを
得る。これにアセトン81を加え、O′C〜8°Cに保
ちながら、そこへ無水クロム酸14.5Fと濃硫酸28
.6Fに水を加えて60ゴにしたものを2時間で滴下す
る。反応終了後、過剰の酸化剤をイソプロピルアルコー
ルを加えて分解し、更に炭酸水素ナトリウムを加えて中
性にし、沈殿物を戸別し、濾過物をアセトンで洗う。ろ
液と洗液を合わせアセトンを減圧留去し、トルエン50
0耐で8回抽出する。合わせたトルエン層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、トルエンを減圧留去し、新しいトルエン
50m1で再結晶する。得られた4−(ト’)ンX−4
’ −()ランス−47−エチルシクロヘキシル)シク
Uヘキシル〕シクロヘキサノンを加熱真空乾燥する。こ
のもの11.6Fをテトラヒドロフラン10(1w/に
溶かした液を、窒素気流中Mg片1.2fとp−ブロモ
トルエン゛と反応させて4−メチルベンゼンマグネシウ
ムプロミドとした液に速かに滴下していく。8時間還流
させた後冷却し、8N−塩酸を加え、トルエン800
wtiで抽出し洗液が中性になる首で水洗をくり返す。
0ttlを加えRu/C8fを加え180°C50に9
/dで接触還元を行なう。触媒を炉別し溶媒を減圧留去
し4−(トランス−4’−()ランス−4“−エチルシ
クロヘキシル)シクロヘキシル)シクロヘキサノールを
得る。これにアセトン81を加え、O′C〜8°Cに保
ちながら、そこへ無水クロム酸14.5Fと濃硫酸28
.6Fに水を加えて60ゴにしたものを2時間で滴下す
る。反応終了後、過剰の酸化剤をイソプロピルアルコー
ルを加えて分解し、更に炭酸水素ナトリウムを加えて中
性にし、沈殿物を戸別し、濾過物をアセトンで洗う。ろ
液と洗液を合わせアセトンを減圧留去し、トルエン50
0耐で8回抽出する。合わせたトルエン層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、トルエンを減圧留去し、新しいトルエン
50m1で再結晶する。得られた4−(ト’)ンX−4
’ −()ランス−47−エチルシクロヘキシル)シク
Uヘキシル〕シクロヘキサノンを加熱真空乾燥する。こ
のもの11.6Fをテトラヒドロフラン10(1w/に
溶かした液を、窒素気流中Mg片1.2fとp−ブロモ
トルエン゛と反応させて4−メチルベンゼンマグネシウ
ムプロミドとした液に速かに滴下していく。8時間還流
させた後冷却し、8N−塩酸を加え、トルエン800
wtiで抽出し洗液が中性になる首で水洗をくり返す。
溶媒を減圧留去し残った油状物に硫酸水素カリウム4f
を加え、160°Cで2時間窒素雰囲気下で脱水する。
を加え、160°Cで2時間窒素雰囲気下で脱水する。
冷却後、硫酸水素カリウムtys別しトルエン800
mlを加え水洗する。溶媒を減圧留去し、新しいトルエ
ン’lO鰐1で再結晶して得られためが目的の4−メチ
ル−(4’−()ランス−4“−(トランス−4′″−
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)シクロヘキセ
ン−1′−イル)ベンゼンである。収J14.6f、収
率45%。その結晶−スメクチック点は59.4°C,
スメクチック−ネマチック点は284°C,ネマチック
−透明点は284 ”Cであった。
mlを加え水洗する。溶媒を減圧留去し、新しいトルエ
ン’lO鰐1で再結晶して得られためが目的の4−メチ
ル−(4’−()ランス−4“−(トランス−4′″−
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)シクロヘキセ
ン−1′−イル)ベンゼンである。収J14.6f、収
率45%。その結晶−スメクチック点は59.4°C,
スメクチック−ネマチック点は284°C,ネマチック
−透明点は284 ”Cであった。
以下同様にして次のものが製造できる。
1’4’−()ランス−4’−()ランス−4/l/−
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
4−エチル−(4’−()ランス−4”−(トランス−
4“′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)シク
ロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4“′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)シク
ロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−プロピル−(4’−()ランス・−4″−()ラン
ス−4“′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
ス−4“′−エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
(4’−(トランス−4”−(トランス−4″−プロピ
ルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセン−
t’−イル〕ベンゼン。
ルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセン−
t’−イル〕ベンゼン。
4−メチル−(4’−()ランス−4“−(トランス−
4′′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4′′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−エチル−(4’−()ランス−4“−(トランス−
4“′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4“′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−プロピル−(4’−(トランス−4“−(トランス
−4#′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルj
シクロヘキセン−1’ −イル〕ベンゼン。
−4#′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシルj
シクロヘキセン−1’ −イル〕ベンゼン。
4−ブチル−(4’−()ランス−4“−(ト“ランス
−4″′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキフル〕
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
−4″′−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキフル〕
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−メトキシ−(4’−(トランス−4″−()ランス
−4“′−グロビルシクロヘキシル〕シクロ−\キシル
〕シクロヘキ・七ンー1’−1ル〕ベンゼン。
−4“′−グロビルシクロヘキシル〕シクロ−\キシル
〕シクロヘキ・七ンー1’−1ル〕ベンゼン。
(4’−()ランス−4″−(1−ランス−4“′−)
゛チルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
゛チルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
4−メチル−(4’−(トランス−4”−(+−ランス
−4”′−ブチルシクロー)キシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
−4”′−ブチルシクロー)キシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−エチル−(4’−()ランス−4′−(トランス−
4“′−ブチルシクロヘキシル)シクロへ・■ンル〕シ
クロヘキセンー1′−イル〕ベンゼン。
4“′−ブチルシクロヘキシル)シクロへ・■ンル〕シ
クロヘキセンー1′−イル〕ベンゼン。
4−プロピル−(4’−()ランス−4″−()ランス
−45′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1フーイル〕ベンゼン。
−45′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1フーイル〕ベンゼン。
4−ブチル−(4’−(トランス−4″−()ランス−
4″′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシク
ロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4″′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシク
ロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−ペンチル−(4’−()ランスーイ′−(トランス
−4#′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−11−イル〕ベンゼン。
−4#′−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−11−イル〕ベンゼン。
4−メトキシ−(4’−()ランス−4”−()ランス
−4“′−ノチルシクロヘキシノi)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕−qン七ン。
−4“′−ノチルシクロヘキシノi)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕−qン七ン。
(4’−()ランス−47/−(トランス−4″′−ペ
ンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
ンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼン。
4−メチル−(4’−(トランス−4”−()ランス−
4″′−ペンチルシクロヘキシ/I/)シクロヘキシル
コシクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4″′−ペンチルシクロヘキシ/I/)シクロヘキシル
コシクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−エチル−(4’−()ランス−4”−()ランス−
4″′−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4″′−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシ
クロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−プロピル−(4’−〔トランス−4”−()ランス
−4nt−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
−4nt−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
4−ブチル−(4’−()ランス−4”−(トランス−
、ur−ペンチルシクロヘキシル)シグロヘキシル〕シ
クロヘキセン−11−イル〕ペンセン。
、ur−ペンチルシクロヘキシル)シグロヘキシル〕シ
クロヘキセン−11−イル〕ペンセン。
4−メトキシ−(4’−()ランス−4“−(トランス
−4”′−ヘンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
−4”′−ヘンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコ
シクロヘキセン−1′−イル〕ベンゼン。
実施例2(使用例)
トランス−4−プロピル−(4′〜シアノフエニル)シ
クロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へグチル−(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 80% なる組成の液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一8
〜62°Cである。この液晶組成物をセル厚10μmの
TNセル(ねじれネマチックセル)に封入したものの動
作しきい電圧は1.58V、飽和電圧は2.12Vであ
った。又粘度は20°Cで28 cpであった。
クロヘキサン 28% トランス−4−ペンチル−(4′−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 42% トランス−4−へグチル−(4’−シアノフェニル)シ
クロヘキサン 80% なる組成の液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一8
〜62°Cである。この液晶組成物をセル厚10μmの
TNセル(ねじれネマチックセル)に封入したものの動
作しきい電圧は1.58V、飽和電圧は2.12Vであ
った。又粘度は20°Cで28 cpであった。
上記の液晶組成物95部に本発明の実施例1の4−メチ
ル−(4’−()ランス〜4“−(トランス−4“′−
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼンを5部を加えた液晶組成物の
ネマチック温度範囲は−8〜61.9°Cに広が9上記
セルに封入した動作しきい電圧は1.6V、飽和電圧は
2.2■になった。又20℃の粘度は25 cpであシ
、低粘性で広いネマチックレンジをもつ液晶組成物を実
現できた。
ル−(4’−()ランス〜4“−(トランス−4“′−
エチルシクロヘキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル〕ベンゼンを5部を加えた液晶組成物の
ネマチック温度範囲は−8〜61.9°Cに広が9上記
セルに封入した動作しきい電圧は1.6V、飽和電圧は
2.2■になった。又20℃の粘度は25 cpであシ
、低粘性で広いネマチックレンジをもつ液晶組成物を実
現できた。
以上
Claims (2)
- (1)一般式 (上式中RとR′は水素原子又は炭素数1〜10のアル
キル基又はアルコキシ基を示す)で表わさ゛れる4−置
換−(4’−()ランス−4“−(トランス−4“′−
アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル)シクロヘキ
セン−1′−イル1ベンゼン。 - (2)一般式 %式%( (上式中RとR′は水素原子又は炭素it〜10のアル
キル基又はアルコキシ基を示す)で表わされる4−置換
−(4’−()ランス−4“−(トランス−4“′−ア
ルキルシクロへキシル)シクロヘキシルコシクロヘキセ
ン−1′−イル1ベンゼンを少なくとも一種含有するこ
とを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11518282A JPS597123A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 4−置換−{4′−〔トランス−4″−(トランス−4′″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕シクロヘキセン−1′−イル}ベンゼン |
| US06/460,071 US4477369A (en) | 1982-01-22 | 1983-01-21 | New high temperature liquid-crystalline substances consisting of 4 or 5 six-member-rings and liquid-crystalline compositions containing same |
| DE8383300354T DE3362745D1 (en) | 1982-01-22 | 1983-01-24 | Carbocyclic compounds with liquid-crystal properties |
| EP19830300354 EP0084974B1 (en) | 1982-01-22 | 1983-01-24 | Carbocyclic compounds with liquid-crystal properties |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11518282A JPS597123A (ja) | 1982-07-02 | 1982-07-02 | 4−置換−{4′−〔トランス−4″−(トランス−4′″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕シクロヘキセン−1′−イル}ベンゼン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS597123A true JPS597123A (ja) | 1984-01-14 |
Family
ID=14656381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11518282A Pending JPS597123A (ja) | 1982-01-22 | 1982-07-02 | 4−置換−{4′−〔トランス−4″−(トランス−4′″−アルキルシクロヘキシル)シクロヘキシル〕シクロヘキセン−1′−イル}ベンゼン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS597123A (ja) |
-
1982
- 1982-07-02 JP JP11518282A patent/JPS597123A/ja active Pending
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