JPS5986262A - ゲ−トタ−ンオフサイリスタ - Google Patents

ゲ−トタ−ンオフサイリスタ

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Publication number
JPS5986262A
JPS5986262A JP57197205A JP19720582A JPS5986262A JP S5986262 A JPS5986262 A JP S5986262A JP 57197205 A JP57197205 A JP 57197205A JP 19720582 A JP19720582 A JP 19720582A JP S5986262 A JPS5986262 A JP S5986262A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
type
region
emitter
emitter region
current concentration
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57197205A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyasu Hagino
萩野 浩靖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP57197205A priority Critical patent/JPS5986262A/ja
Publication of JPS5986262A publication Critical patent/JPS5986262A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
    • H10D62/10—Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
    • H10D62/13—Semiconductor regions connected to electrodes carrying current to be rectified, amplified or switched, e.g. source or drain regions
    • H10D62/141—Anode or cathode regions of thyristors; Collector or emitter regions of gated bipolar-mode devices, e.g. of IGBTs
    • H10D62/148—Cathode regions of thyristors

Landscapes

  • Thyristors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明はゲートターンオフサイリスクに係シ、特に最
大ターンオフ電流を大きくする改良に関するものである
。
〔従来技術〕
ゲートターンオフサイリスク(以下「GTOJという。
)はゲート逆バイアスによって主電流をオフはせること
が可能であるので、従来の通常のサイリスタにおけるよ
うな転流回路を心安としない。
従って、インバータ、チョッパー装置に用いた場合、装
置の小形化、軽量化が可能であるという大きな利点があ
る。
第1図は従来の大電力用のGTOの構造を示す断面図で
、(1)はn形ベース(n、)領域、(2)および(3
)はそれぞれnB領領域両生面側からP形不純物を拡散
して形成されたp形ベース(PR)領域およびp形エミ
ッタ(p8)領域、(4)はp、領域(2)にn形不純
物を選択的に拡散して形成されたn形エミッタ(nIり
領域、(5) 、 (6) 、 (7)はそれぞれn8
領域(4) 、 p、領域(2)。
p8領域(3)にオーミック接触して形成された陰電極
、ゲート電極、陽電極を示す。
導通しているこのGTOをターンオンさせるには、陰電
極(5)に対してゲート電極(6)に負の電圧を加え、
pB領領域2) 、 nB領領域1)に充満していたキ
ャリアをゲート電極(6)から引抜くことKよって行わ
れる。
このターンオフをさらに細部にみると、GTOの導通領
域はゲート電極(6)に近い領域からn、iJI域(4
)の中心部にしlt Dこまれてゆく。すなわち、n0
領域(4)の中心部に電流が集中する部分ができ、大電
流をオフきせようとする場合、素子の局部で温度上昇が
生じ、しゃ断を失敗し、素子が破壊するという問題があ
った0 このターンオフ特性を改良する一力式として先行技術に
なるGTOの断面図を第2図に示す。図中る部分にp2
短絡n+形領域(8)が設けられている。この構造では
、ターンオフ時の電流集中は第2図にAで示す2つの領
域近傍忙分散されるので、従来り、局部温度上昇の緩和
が十分ではなかった。第3図はこの先行技術になるGT
Oの電流の最終的集中状況を示す部分断面図で、pI短
絡n+形領域(8〕に対向するn8領域(4ンの部分で
もキャリヤの注入が生じるので、集中領域の分散の効果
を十分く出すには短絡n+形領領域8〕の幅Wを十分に
取る必要がある。
キャリヤの拡散長をLとすると、上記短絡♂影領域(8
)の幅Wは少なくとも2Lが必要で、十分な効果を考え
ると3L’−4Lは必要である。たとえば、短絡十分な
電流集中の分散が期待できなくなる。
〔信用の概要〕
この発明は上述のような点を改良することを目的とし、
ゲート側のエミッタ領域をも2分割して、当骸エミッタ
部における電流集中を分割することによってターンオフ
可能電流の大きいGTOを提供するものである。
〔発明の実施例〕
第4図はこの発明の一実施例の断面図で、n、領域は2
つの部分(4K)、(4,7)に分割され、それらの間
にはp形分離領域(9)が基体の陰極側表面に覗いてお
り、その上に絶縁膜QOが形成され、陰電極(5a)は
この絶縁膜θ()をまたいで2つのn。領域部&4X)
。
(4y)を連結している。第5図は1つのn。領域とそ
の周辺のゲート部とからなる1セグメントの平面図で、
クロス状のハツチングを施して示した部分は絶縁膜0I
を示し、その下にFip形分離領域(9)が存在する。
この実施例ではp形分離領域(9)ではキャリヤの注入
がおこらないので、電流の集中I/′i2つのn8領域
部分(4X) 、 (ay)のp形分離領域(9)との
2つの境界領域部分に完全に分離される。第6図はこの
実施例のゲートターンオフ時の最終的電流集中状況を示
す部分断面図で、上述のとおり、p形分離領域(9)で
のキャリヤの注入がないので、例えばp形分離領域(9
)の幅がキャリヤの拡散長り程度であつ示すように1個
所での集中領域が広がることになり、電流集中を緩和さ
せる役割をはたす。
上記説明はpゲートターンオフサイリスクについて行な
ったが、nゲートターンオアサイリスタについても同様
にこの発明は適用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明になるゲートターンオフ
サイリスタではゲート側エミッタ領域の中心部に分離領
域を形成し、しかも上記ゲート側エミッタ領域の中心部
に対向する他方のエミッタ領域の部分に高不純物濃度の
短絡領域を形成したので、ゲートターンオフ時の電流集
中が分散されターンオフ可能電流を大きくすることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の大電力用のGTOの構造を示す断面図、
第2図は先行技術になるGTOの断面図、第3図はこの
先行技術になるGTOの最終的電流集中状況を示す部分
断面図、第4図はこの発明の一実施例を示す断面図、第
5図はこの実施例の1セグメントの平面図、第6図はこ
の実施例のゲートターンオフ時の最終的電流集中状況を
示す部分断面図である。 図において、(1)はn形ベース領域、(2)はp形ペ
ース領域、(J) y (3a)はp形エミッタ領域、
(4)はn形エミッタ領域、(4x) + (4y )
はn形エミッタ領域部分、(5)、 (5FL)は陰電
極、(6)はゲート電極、(7)はVvIi4極、(8
)はn+形領領域(9)は分離領域、Qoは絶縁膜であ
る。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示すO 代理人 葛野信−(外1名) 第1図 第2図   7

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  半導体基体の一方の主面から他方の主面にわ
    たって、p形エミッタ領域、n形ベース領域。 p形ベース領域及びn形エミッタ領域が順次相接して4
    層構造が形成されたゲートターンオフサイリスタにおい
    て、上記半導体基体の上記p形(−1だFin形)エミ
    ッタ領域側の第1の主面部の上記n形(またはp形)エ
    ミッタ領域の中心部分に対向する部分KFi上記P形(
    またFin形)のエミッタ領域を欠き上記n形(または
    p形)ペース領域につながる高不純物濃度のn+形(−
    または■)+形)領域が形成され、この♂形(またはp
    +形)領域は上記第1の主面上に上記p形(またはn形
    )エミッタ領域に接続して形成された陽(または陰)電
    極に接続されるとともに、上記n形(またはp形)エミ
    ッタ領域の中心部分には上記p形(tたはn形)ベース
    領域につながるp形(またはn形)の分離領域が形成さ
    れ、この分離領域の表面に形成された絶縁膜をまたいで
    、上記分離領域の両側の上記n形(またはp形)エミッ
    タ領域の部分を接続するように陰(!iたけ陽)電極が
    形成されたことを特徴とするゲートターンオフブイリス
    ク。
JP57197205A 1982-11-08 1982-11-08 ゲ−トタ−ンオフサイリスタ Pending JPS5986262A (ja)

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JPS5986262A true JPS5986262A (ja) 1984-05-18

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JP (1) JPS5986262A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0166977A3 (de) * 1984-06-30 1987-08-26 BROWN, BOVERI & CIE Aktiengesellschaft Abschaltbarer Thyristor
US5345095A (en) * 1992-05-06 1994-09-06 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Self arc-extinguishing thyristor and method of manufacturing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5150679A (ja) * 1974-10-30 1976-05-04 Hitachi Ltd Handotaisochi
JPS5397785A (en) * 1977-02-07 1978-08-26 Rca Corp Gate controlled semiconductor
JPS5477586A (en) * 1977-10-25 1979-06-21 Gen Electric Semiconductor
JPS5778172A (en) * 1980-11-04 1982-05-15 Hitachi Ltd Gate turn-off thyristor

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