JPS60100571A - ジオキソ−ル誘導体 - Google Patents
ジオキソ−ル誘導体Info
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- JPS60100571A JPS60100571A JP20817683A JP20817683A JPS60100571A JP S60100571 A JPS60100571 A JP S60100571A JP 20817683 A JP20817683 A JP 20817683A JP 20817683 A JP20817683 A JP 20817683A JP S60100571 A JPS60100571 A JP S60100571A
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- JP
- Japan
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- methyl
- compound
- halogen
- dioxolan
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジオキソール誘導体に関する。β−ラクタム
系抗生物質（例えば、ペニシリン類、セファロスポリン
類）は、一般に消化管から吸収されにくいので、注射に
よって投与されるものが多く、また抗癌剤（例えば、５
−フルオロウラシル）は消化管障害を起こし易い。
系抗生物質（例えば、ペニシリン類、セファロスポリン
類）は、一般に消化管から吸収されにくいので、注射に
よって投与されるものが多く、また抗癌剤（例えば、５
−フルオロウラシル）は消化管障害を起こし易い。
そこで、これら化合物を消化管から易吸収性とするため
に、あるいは消化管無障害性とするために、かかる化合
物に式 （式中、Ｂはハロゲン、水酸基、−０３０３−アルキル
、−０５０３−了り−ルなどを示す）で表わされる化合
物を反応させて、所謂プロドラックグとすることが試み
られている（特開昭５７−５６４８２ 参照）。
に、あるいは消化管無障害性とするために、かかる化合
物に式 （式中、Ｂはハロゲン、水酸基、−０３０３−アルキル
、−０５０３−了り−ルなどを示す）で表わされる化合
物を反応させて、所謂プロドラックグとすることが試み
られている（特開昭５７−５６４８２ 参照）。
本発明は、かかる化合物（Ｉ［菅の合成原料として有用
な新規化合物を提イハすることを目的とするものであり
、その要旨は、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ］およびＲ２はそれぞれ水２）二原子又はハ
ロケンを、Ｒ３はハロゲン又は式−〇八で示される基（
たたし、Ａは水素原子、アリールカルボニル、アルキル
カルボニル、ヘンジンオキシカルボニル、アリールスル
ボニル ルまたはポルミルを表わし、これらの基は置換されてい
てもよい）〕で表；ｂされるジオキソール誘導体に関す
る。
な新規化合物を提イハすることを目的とするものであり
、その要旨は、一般式 ％式％ 〔式中、Ｒ］およびＲ２はそれぞれ水２）二原子又はハ
ロケンを、Ｒ３はハロゲン又は式−〇八で示される基（
たたし、Ａは水素原子、アリールカルボニル、アルキル
カルボニル、ヘンジンオキシカルボニル、アリールスル
ボニル ルまたはポルミルを表わし、これらの基は置換されてい
てもよい）〕で表；ｂされるジオキソール誘導体に関す
る。
本明細吉−において、台詞りの定設ないしは例は各々次
の通りである。
の通りである。
ハロゲンとしては、例えばクロル゛、ブロムが例示され
る。
る。
アリールカルボニルとしζは、フェニルカルボニルが好
ましいものとして例示される。
ましいものとして例示される。
アルキルカルボニルにおけるアルキルとしては、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ルなどの炭素数１〜４のものが例示される。
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチ
ルなどの炭素数１〜４のものが例示される。
アリールスルホニルにおけるアリールとしてはフェニル
が好ましく、アリールスルホニルとしては、例えばトシ
ルが時に好ましいものとして例示される。また、アルキ
ルスルホニルにおけるアルキルとしては上記アルキルカ
ルボニルにおけるアルキルと同様のものが例示され、ア
ルキルカルボニルとしては、メシルが特に好ましい。
が好ましく、アリールスルホニルとしては、例えばトシ
ルが時に好ましいものとして例示される。また、アルキ
ルスルホニルにおけるアルキルとしては上記アルキルカ
ルボニルにおけるアルキルと同様のものが例示され、ア
ルキルカルボニルとしては、メシルが特に好ましい。
八で表わされる基は（特にアリール基を含むものはその
アリール基カリ置換されていてもよく、その置換基とし
ては、例えばハロゲン（クロル、ブロムなど）二１・口
、アルコキシ（メトキシ、エトキシなど）、アルキル（
メチル、エチルなど）などがあげられる。
アリール基カリ置換されていてもよく、その置換基とし
ては、例えばハロゲン（クロル、ブロムなど）二１・口
、アルコキシ（メトキシ、エトキシなど）、アルキル（
メチル、エチルなど）などがあげられる。
本発明のジオキソール誘導体は、例えば次のようにして
製造される。
製造される。
一般式
％式％
）
（Ｒ．３は前記と同意義）で表わされる化合物と〔式！
，Ｙはハロゲン原子（特にり【」ル）を、Ｚはハロゲン
またはトリクロロアセチ／ｌへを示す〕で表わされる化
合物す反応させることによっ°ζ、一般式（１）におい
てＲ１＝Ｒ７＝ｌｌの化合物、即ち一般式 （Ｒ３は前記と同意義）で表わされるジオキソール誘導
体が製造される。
，Ｙはハロゲン原子（特にり【」ル）を、Ｚはハロゲン
またはトリクロロアセチ／ｌへを示す〕で表わされる化
合物す反応させることによっ°ζ、一般式（１）におい
てＲ１＝Ｒ７＝ｌｌの化合物、即ち一般式 （Ｒ３は前記と同意義）で表わされるジオキソール誘導
体が製造される。
化合物（ＩＶ）としては、好ましくはホスゲン、トリク
ロルメチルクロルホルメートなどが例示される。
ロルメチルクロルホルメートなどが例示される。
本反応は、自体既知の方法に準じて行うことができ、反
応温度は例えば、−２０〜５ ０ ’ｃ程度である。
応温度は例えば、−２０〜５ ０ ’ｃ程度である。
なお、化合物（■）は実質的に公知の化合物である。
ジオキソール誘導体（１−１）をハロゲン化す（Ｒ”
１およびＲ’ ２はそれぞれ水素原子またはハロゲンを
示し、そのいずれが一方はハロゲンである）で表わされ
るジオキソール誘導体が得られる。
１およびＲ’ ２はそれぞれ水素原子またはハロゲンを
示し、そのいずれが一方はハロゲンである）で表わされ
るジオキソール誘導体が得られる。
このハロゲン化反応は、通常、高圧水銀ランプによる光
照射下で行われ、反応温度は通常、０〜７０℃、好まし
くは２０〜５０°Ｃであり、反応時間は通常１〜１０分
、好ましくは１〜５分である。溶媒としては、反応に不
活性なもの力＋ＩＪｔ、）られ、例えばジクロルエタン
、四塩化炭素、ヘキサノなどが使用される。
照射下で行われ、反応温度は通常、０〜７０℃、好まし
くは２０〜５０°Ｃであり、反応時間は通常１〜１０分
、好ましくは１〜５分である。溶媒としては、反応に不
活性なもの力＋ＩＪｔ、）られ、例えばジクロルエタン
、四塩化炭素、ヘキサノなどが使用される。
一＋ｉ＞式（１）において、Ｒ３がハｌ’ｌゲンエ・ス
外ＶＡが水素原子以外の化合物〔化合物（１−３））は
、自体既知の手段にて加水分解することによって、一般
式（１−］）において八が水素１．！ＩＩ子である化合
物、即ち一般式 ％式％ （Ｒ１およびＲ２は前記と同Ω、表）で表わされるシオ
キソール誘導体とすることができる。
外ＶＡが水素原子以外の化合物〔化合物（１−３））は
、自体既知の手段にて加水分解することによって、一般
式（１−］）において八が水素１．！ＩＩ子である化合
物、即ち一般式 ％式％ （Ｒ１およびＲ２は前記と同Ω、表）で表わされるシオ
キソール誘導体とすることができる。
ジオキソール誘導体（１−４）と一般式％式％（）
（Ａ’ は了り−ル力ルポニル、アルキルカルボニル、
アリールスルホニル、アルキルスルホニルまたはポルミ
ルを、Ｘは水酸基と反応性の基を示す。）で表わされる
化合物を反応させることによって、ジオキソール誘導体
（Ｉ−３）が得られる。
アリールスルホニル、アルキルスルホニルまたはポルミ
ルを、Ｘは水酸基と反応性の基を示す。）で表わされる
化合物を反応させることによって、ジオキソール誘導体
（Ｉ−３）が得られる。
本反応に使用される化合物（Ｖ）は、アシル化剤、ある
いはスルボン化剤として使用しうるちのであればよい。
いはスルボン化剤として使用しうるちのであればよい。
化合物（Ｖ）としては、カルボン酸類、その反応性誘導
体、スルホニルクロリド類などがあげられる。
体、スルホニルクロリド類などがあげられる。
カルボン酸としては、ギ酸、ハロゲン化酢酸（例えば、
トリフルオロ酢酸、トリクロル酢酸、ジクロル酢酸、ク
ロル酢酸）、置換されていてもよい安息香酸（ｐ−二１
・口安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸）などが例示され
る。また、カルボン酸の反応性誘導体としては、上記カ
ルボン酸の塩、酸ハライド、酸無水物、混合酸無水物、
活性アミド、エステルなどが例示される。遊離のカルボ
ン酸を用いる場合には、自体既知の脱水剤を用いること
が好ましい。
トリフルオロ酢酸、トリクロル酢酸、ジクロル酢酸、ク
ロル酢酸）、置換されていてもよい安息香酸（ｐ−二１
・口安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸）などが例示され
る。また、カルボン酸の反応性誘導体としては、上記カ
ルボン酸の塩、酸ハライド、酸無水物、混合酸無水物、
活性アミド、エステルなどが例示される。遊離のカルボ
ン酸を用いる場合には、自体既知の脱水剤を用いること
が好ましい。
スルホニルクロリド類としては、了り−ルスルボニルク
ロリド（例えば、ｐ−トルエンスルボニルクロリド）、
アルキルスルボニルクロリド（例えば、メタンスルボニ
ルクロリド）などが例示される。
ロリド（例えば、ｐ−トルエンスルボニルクロリド）、
アルキルスルボニルクロリド（例えば、メタンスルボニ
ルクロリド）などが例示される。
ジオキソール誘導体（１−１）においζ、Ｒ３に関して
Ａが水素原子である化合物、即ち式をハロゲン化するこ
とによってジオ−１−ソール誘導体（１−１）において
Ｒ３がハロゲンである化合物、即ち一般式 ％式％ で表わされるジオキソール誘導体が得られる。
Ａが水素原子である化合物、即ち式をハロゲン化するこ
とによってジオ−１−ソール誘導体（１−１）において
Ｒ３がハロゲンである化合物、即ち一般式 ％式％ で表わされるジオキソール誘導体が得られる。
当該ハロゲン化はチオニルハライドを反応させることに
よっておこなわれる。当該反応は、通常ピリジンの存在
下に行われ、反応温度は、通常室温程度であり、反応時
間は通常２〜５時間程度である。
よっておこなわれる。当該反応は、通常ピリジンの存在
下に行われ、反応温度は、通常室温程度であり、反応時
間は通常２〜５時間程度である。
ジオキソール誘導体（１，−６）はこれをさらにハロゲ
ン化することによってジオキソール誘導体（Ｉ−２）に
おいてＲ３がハロゲンである化合物、即ち一般式 ％式％ （Ｒ′ １およびＲ’ ２は前記と同意義）で表わされ
るジオキソール誘導体とすることができる。
ン化することによってジオキソール誘導体（Ｉ−２）に
おいてＲ３がハロゲンである化合物、即ち一般式 ％式％ （Ｒ′ １およびＲ’ ２は前記と同意義）で表わされ
るジオキソール誘導体とすることができる。
当該ハロゲン化は、ジオキソール誘導体（Ｉ−１）をジ
オキソール誘導体（１−２）とする場合のハロゲン化と
同様の条件下にて行うことが出来る。
オキソール誘導体（１−２）とする場合のハロゲン化と
同様の条件下にて行うことが出来る。
ジオキソール誘導体（１−７）は、一般式％式％（）
（Ａ’ は前記と同意義、）で表わされる化合物と反応
させることによって一般式 ％式％ （Ｒ’ｌ 、 ＦＺ’２δよびＡ′は前記と同意覆）で
表わされるジオキソール誘導体とすることができる。
させることによって一般式 ％式％ （Ｒ’ｌ 、 ＦＺ’２δよびＡ′は前記と同意覆）で
表わされるジオキソール誘導体とすることができる。
化合物（Ｖｌ ）は、通常その反応性誘導体として本反
応に供される。反応性誘導体としては、たとえばそのア
ルカリ金属塩（例、ナトリウム塩、カリウム塩）、有機
アミン塩（例、トリエチルアミン塩、ピリジン塩）など
が例示される。本反応は一般に反応に不活性な溶媒（例
、ベンゼン、四塩化炭素、二塩化エチレン、ジメチボル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルトリア
ミドホスフェート、アセトン、アセトニトリルなどの有
ｔａ溶媒、水）中にて実施される。反応は好ましくは、
室温〜冷却下にて、無触媒下または既知の相関移動触媒
の存在下にて行われる。
応に供される。反応性誘導体としては、たとえばそのア
ルカリ金属塩（例、ナトリウム塩、カリウム塩）、有機
アミン塩（例、トリエチルアミン塩、ピリジン塩）など
が例示される。本反応は一般に反応に不活性な溶媒（例
、ベンゼン、四塩化炭素、二塩化エチレン、ジメチボル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルトリア
ミドホスフェート、アセトン、アセトニトリルなどの有
ｔａ溶媒、水）中にて実施される。反応は好ましくは、
室温〜冷却下にて、無触媒下または既知の相関移動触媒
の存在下にて行われる。
本発明のジオキソール誘□導体（１）は、Ｒ１、Ｒ２で
表わされるハロゲン、水素原子を水素ガス、ハロゲン化
水素、ハロゲンガスとして脱離せし脱離化剤を用いて５
０〜１５０ ’ｃ程度、１〜５時間程度加熱せしめるこ
とによって行われる。溶媒としては、反応に不活性なも
の、たとえばジオキサンなどが用いられる。
表わされるハロゲン、水素原子を水素ガス、ハロゲン化
水素、ハロゲンガスとして脱離せし脱離化剤を用いて５
０〜１５０ ’ｃ程度、１〜５時間程度加熱せしめるこ
とによって行われる。溶媒としては、反応に不活性なも
の、たとえばジオキサンなどが用いられる。
以下の記載に於いて、φはフェニールを意味する。
実施例１
４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
ラン−２−オンの製造： （ｉ）ブタントリオール２．１２ ｇをピリジン２０ｍ
１に溶かし、−３０℃にて３３％ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド 滴下、−２０〜１０℃にて１時間攪拌後、−３０℃に冷
却し、トリクロルメチルクロルポルメート２、 ９ ６
ｇを滴下し、−２０〜１０℃にて１時間攪拌後、４０
〜５０℃にて３０分攪拌する。反応終了後反応液を冷却
し、２Ｎ塩酸５１ （ｌ ｍｌ及び氷水中に注ぐ。酢酸
エチルにて抽出後、飽和食塩水にて２回洗浄、無水硫酸
ナトリウムに°Ｃ乾燥後、酢酸エチルを減圧留去する。
ラン−２−オンの製造： （ｉ）ブタントリオール２．１２ ｇをピリジン２０ｍ
１に溶かし、−３０℃にて３３％ベンジルオキシカルボ
ニルクロライド 滴下、−２０〜１０℃にて１時間攪拌後、−３０℃に冷
却し、トリクロルメチルクロルポルメート２、 ９ ６
ｇを滴下し、−２０〜１０℃にて１時間攪拌後、４０
〜５０℃にて３０分攪拌する。反応終了後反応液を冷却
し、２Ｎ塩酸５１ （ｌ ｍｌ及び氷水中に注ぐ。酢酸
エチルにて抽出後、飽和食塩水にて２回洗浄、無水硫酸
ナトリウムに°Ｃ乾燥後、酢酸エチルを減圧留去する。
得られた残渣をシリカゲルカラムを用い、ベンゼンとＲ
Ｆｆｌｄエナルの混液（３ ： １）で展開熔出し、２
． ５ ３ ｔｒのメイル状の４−ベンジルオキシカル
ボニルオキシメチル−５−メチル−１．３−ジオキソラ
ン−２−オンを得た。（収率４７％） ＩＲ （Ｎｅａｔ， ｃｍ−’） ：１８００， １７
５ＯＮＭＲ （ＣＤＣ１３， δ値）： １、 ４． ５ （ｄ， Ｊ７６１１ｚ， ３１１，
−Ｃ１１３）４、３ ５ （ｍ， ２１１， −Ｃｌｌ
２− ）４、 ８ ５ （ｎ＋， ２１１， Ｃｌｌ
Ｘ２ ）５、 １ ８ （ｓ， ２１１． −Ｃｌ１２
−φ）７、３ ４ （ｓ， ５Ｈ， −φ） （ｉｉ）４−ベンジルオキシカルボニルオキシメチル−
５−メチル−１．３−ジオキソラン−２−オン２ｇを酢
酸エチル３０ｍｌに溶かし、酸化パラジウム１００ｍｇ
を加え水素化分解した。触媒濾別後、酢酸エチルを減圧
留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムを用いベンゼ
ンと酢酸エチルの混液（１ ： ｌ）で展開溶出し、６
３０Ｂのオイル状の標記化合物を得た。（収率６３％） Ｉ Ｒ （Ｎｅａｔ， ｃｍ−１ ） ： ３ ４ ０
０ 、１ ７ ９ ＯＮＭＲ （ＣＤＣ１３． ６値
） ： １、 ５ ３ （ｄ， Ｊ＝６Ｈｚ， ３Ｈ， −Ｃｌ
ｌ３）２、 ７ ５ （ｂｒ， ０１， −ＯＨ ）３
、 ８ ９ （ｄ， Ｊ＝５１１２， ２ｔｌ， −Ｃ
Ｈ２− ）４、８ ０ （ｍ， ２Ｈ， Ｃｌ ｘ２
）実施例２ ４−クロルメチル−５−メチル−１．３−ジオキソラン
−２−オンの製造： 既知化合物である１−クロル−２，３−ジヒドロキシブ
タン（Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔｅ ｆｕｒ Ｃｈｅｍｉｅ
＋ ６＋ ３４８）を用い、実施例１ （１）と同様の
方法′にて標記化合物を得た。
Ｆｆｌｄエナルの混液（３ ： １）で展開熔出し、２
． ５ ３ ｔｒのメイル状の４−ベンジルオキシカル
ボニルオキシメチル−５−メチル−１．３−ジオキソラ
ン−２−オンを得た。（収率４７％） ＩＲ （Ｎｅａｔ， ｃｍ−’） ：１８００， １７
５ＯＮＭＲ （ＣＤＣ１３， δ値）： １、 ４． ５ （ｄ， Ｊ７６１１ｚ， ３１１，
−Ｃ１１３）４、３ ５ （ｍ， ２１１， −Ｃｌｌ
２− ）４、 ８ ５ （ｎ＋， ２１１， Ｃｌｌ
Ｘ２ ）５、 １ ８ （ｓ， ２１１． −Ｃｌ１２
−φ）７、３ ４ （ｓ， ５Ｈ， −φ） （ｉｉ）４−ベンジルオキシカルボニルオキシメチル−
５−メチル−１．３−ジオキソラン−２−オン２ｇを酢
酸エチル３０ｍｌに溶かし、酸化パラジウム１００ｍｇ
を加え水素化分解した。触媒濾別後、酢酸エチルを減圧
留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムを用いベンゼ
ンと酢酸エチルの混液（１ ： ｌ）で展開溶出し、６
３０Ｂのオイル状の標記化合物を得た。（収率６３％） Ｉ Ｒ （Ｎｅａｔ， ｃｍ−１ ） ： ３ ４ ０
０ 、１ ７ ９ ＯＮＭＲ （ＣＤＣ１３． ６値
） ： １、 ５ ３ （ｄ， Ｊ＝６Ｈｚ， ３Ｈ， −Ｃｌ
ｌ３）２、 ７ ５ （ｂｒ， ０１， −ＯＨ ）３
、 ８ ９ （ｄ， Ｊ＝５１１２， ２ｔｌ， −Ｃ
Ｈ２− ）４、８ ０ （ｍ， ２Ｈ， Ｃｌ ｘ２
）実施例２ ４−クロルメチル−５−メチル−１．３−ジオキソラン
−２−オンの製造： 既知化合物である１−クロル−２，３−ジヒドロキシブ
タン（Ｍｏｎａｔｓｈｅｆｔｅ ｆｕｒ Ｃｈｅｍｉｅ
＋ ６＋ ３４８）を用い、実施例１ （１）と同様の
方法′にて標記化合物を得た。
Ｉ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ−’ ） ： １７９５Ｎ
Ｍ Ｒ（ＣＤ（：Ｉ ３ 、δ値）：１．５１ （ｄ、
Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１．−Ｃｌｌ３）３．７１ （
Ｊ、 Ｊ＝５．４１１ｚ、 ２１１． Ｃｌｌ２）４、
８８ （ｍ、 ２１１． Ｃ１ｌ ｘ２ ）実施例３ ４−ｐ−トルエンスルボニルオキシメーｙ〜ルー５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
ラン−２−オン１．３８ｇをピリジン３ｍｌニ？ｇ Ｗ
Ｅし、水冷下、ｐ−トルエンスルボニルクロライド１．
９８ｇを加え、同温度にて１時間攪拌後反応液を氷水中
に注ぎ、２Ｎ塩酸２０ｍ１を加え、酢酸エチルにて抽出
、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸す１−リウムにて乾
燥する。酢酸−Ｌチルを減圧留去後、得られた残渣をシ
リカゲルカラムにて精製し、０．７ｇの結晶性標記化合
物を得た。（収率２３％） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ、ｃｍ Ｉ） ： １７８ＯＮＭＲ（
Ｃ［１Ｃ１３，δ値） ； １、４４ （ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１． −ｃ１
１３ ）２、４９ （ｓ、 ３ｔｌ、−φ−Ｃ１，’）
４．２０ （ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、 ２１１． Ｃ１ｌ ２
）４．８５ （ｍ、、２１（、Ｃｌｌ Ｘ２ ）７．２
〜７．９（へ２Ｂ２型、 ４＋１．フェニル）実施例４ ４−ホルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソラン−２−オンの製造： ギ酸２８０＋Ｈをジクロルメタン２ｍｌに溶かし、水冷
下ＩＮ−ジシクロへキシルカルボジイミド−ジクロルメ
タン溶液６ｍｌを加え、１ｏ分攪拌後ジクロルメタン４
ｍｌに溶かした４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン５２０ｍｇおよびジメチ
ルアミノピリジン２ｍｇを同温度にて加え１時間攪拌、
反応終了後尿素体を濾別、ジクロルメタンを減圧留去し
、得られた残渣をシリカゲルカラムを用いベンゼンと酢
酸エチルの混液（１： １）で展開溶出し、３８０ｍｇ
のメ′イル状の標記化合物を得た。（収率６１％）ＩＲ
’（Ｎｅａｔ、ｃｍ−１）：１７９５，１７２ＯＮＭＲ
（（：ＤＣＩ３． δイ直）： １．５０ （ｄ、 Ｊ−６１１ｚ、 ３Ｈ，−Ｃｌｌ３
）４、４５ （ｍ、２１１． −Ｃｌｌ２− ）４、９
０ （ｍ、２Ｈ，Ｃｌｌ ｘ２ ）実施例５ ４−ヘンジイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソラン−２−オンの製造：安息香酸を用いて実施例
４と同様の条件で合成した。
Ｍ Ｒ（ＣＤ（：Ｉ ３ 、δ値）：１．５１ （ｄ、
Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１．−Ｃｌｌ３）３．７１ （
Ｊ、 Ｊ＝５．４１１ｚ、 ２１１． Ｃｌｌ２）４、
８８ （ｍ、 ２１１． Ｃ１ｌ ｘ２ ）実施例３ ４−ｐ−トルエンスルボニルオキシメーｙ〜ルー５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
ラン−２−オン１．３８ｇをピリジン３ｍｌニ？ｇ Ｗ
Ｅし、水冷下、ｐ−トルエンスルボニルクロライド１．
９８ｇを加え、同温度にて１時間攪拌後反応液を氷水中
に注ぎ、２Ｎ塩酸２０ｍ１を加え、酢酸エチルにて抽出
、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸す１−リウムにて乾
燥する。酢酸−Ｌチルを減圧留去後、得られた残渣をシ
リカゲルカラムにて精製し、０．７ｇの結晶性標記化合
物を得た。（収率２３％） ＩＲ（Ｎｕｊｏｌ、ｃｍ Ｉ） ： １７８ＯＮＭＲ（
Ｃ［１Ｃ１３，δ値） ； １、４４ （ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１． −ｃ１
１３ ）２、４９ （ｓ、 ３ｔｌ、−φ−Ｃ１，’）
４．２０ （ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、 ２１１． Ｃ１ｌ ２
）４．８５ （ｍ、、２１（、Ｃｌｌ Ｘ２ ）７．２
〜７．９（へ２Ｂ２型、 ４＋１．フェニル）実施例４ ４−ホルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソラン−２−オンの製造： ギ酸２８０＋Ｈをジクロルメタン２ｍｌに溶かし、水冷
下ＩＮ−ジシクロへキシルカルボジイミド−ジクロルメ
タン溶液６ｍｌを加え、１ｏ分攪拌後ジクロルメタン４
ｍｌに溶かした４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン５２０ｍｇおよびジメチ
ルアミノピリジン２ｍｇを同温度にて加え１時間攪拌、
反応終了後尿素体を濾別、ジクロルメタンを減圧留去し
、得られた残渣をシリカゲルカラムを用いベンゼンと酢
酸エチルの混液（１： １）で展開溶出し、３８０ｍｇ
のメ′イル状の標記化合物を得た。（収率６１％）ＩＲ
’（Ｎｅａｔ、ｃｍ−１）：１７９５，１７２ＯＮＭＲ
（（：ＤＣＩ３． δイ直）： １．５０ （ｄ、 Ｊ−６１１ｚ、 ３Ｈ，−Ｃｌｌ３
）４、４５ （ｍ、２１１． −Ｃｌｌ２− ）４、９
０ （ｍ、２Ｈ，Ｃｌｌ ｘ２ ）実施例５ ４−ヘンジイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソラン−２−オンの製造：安息香酸を用いて実施例
４と同様の条件で合成した。
ＩＲ（Ｎｅａｔ、ｃｍｌ）： １７９０，１７（１ＯＮ
ＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： １．５３ （ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１．−（：Ｉ
＋３）４、５５ （ｍ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）５
、００ （ｍ、 ２１１． Ｃ１ｌ ｘ２ ）７、４〜
８．２ （ｍ、 ５１１． フェニル）実施例６ ４．５−ジクロル−４−ホルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソラン−２−オン１．５２ｇを四塩化炭素７５ｍ１に
熔かし、塩素２．５ｇを吹き込み４０°Ｃ２分間光照射
（高圧水銀ランプ）する。四塩化炭素を減圧留去し、残
渣をシリカゲルカラムを用い、ベンゼン：酢酸エチルで
溶出し、１．３３ｇのオイル状標記化合物を得た。（収
率６１％）ＩＲ（Ｎｅａｔ、ｃｍ’ｌ）：１８５５，１
７３５ＮＭＲ（ＣＣＩ７＋、δイ直）二 ２．２７ （ｓ、 ３Ｈ，−Ｃｌｌ３）４、８６ （ｓ
、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）８、０９ （ｓ、 ＬＨ
，ＨＣＯ−） 実施例７ ４．５−ジクロル−４−ベンゾイルオキシメチル−５−
メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソラン−２−オンを用い、実施例６と同様の条件で
合成した。
ＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： １．５３ （ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１．−（：Ｉ
＋３）４、５５ （ｍ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）５
、００ （ｍ、 ２１１． Ｃ１ｌ ｘ２ ）７、４〜
８．２ （ｍ、 ５１１． フェニル）実施例６ ４．５−ジクロル−４−ホルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソラン−２−オン１．５２ｇを四塩化炭素７５ｍ１に
熔かし、塩素２．５ｇを吹き込み４０°Ｃ２分間光照射
（高圧水銀ランプ）する。四塩化炭素を減圧留去し、残
渣をシリカゲルカラムを用い、ベンゼン：酢酸エチルで
溶出し、１．３３ｇのオイル状標記化合物を得た。（収
率６１％）ＩＲ（Ｎｅａｔ、ｃｍ’ｌ）：１８５５，１
７３５ＮＭＲ（ＣＣＩ７＋、δイ直）二 ２．２７ （ｓ、 ３Ｈ，−Ｃｌｌ３）４、８６ （ｓ
、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）８、０９ （ｓ、 ＬＨ
，ＨＣＯ−） 実施例７ ４．５−ジクロル−４−ベンゾイルオキシメチル−５−
メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソラン−２−オンを用い、実施例６と同様の条件で
合成した。
Ｉ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３７容液、ａｍ−Ｉ） ：ｌ１１
４５，１７２ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ２．３１ （ｓ、 ３１１． Ｃｌｌ３）５．０５ （
ｓ、 ２Ｈ，Ｃｌｌ２） ７．４〜８．２ （ｍ、 ５１Ｌフエニル）実施例８ ■４−クロルー５−ベンゾイルオキシメチル−４−メチ
ル−１，３−ジオキソラン−２−オン、及ヒ■４−クロ
ルー４−ヘンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３
−ジオキソラン−２−オンの製造： 等モルの塩素を用い、実施例６と同様の方法により２種
の標記異性体を得た。
４５，１７２ＯＮＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ２．３１ （ｓ、 ３１１． Ｃｌｌ３）５．０５ （
ｓ、 ２Ｈ，Ｃｌｌ２） ７．４〜８．２ （ｍ、 ５１Ｌフエニル）実施例８ ■４−クロルー５−ベンゾイルオキシメチル−４−メチ
ル−１，３−ジオキソラン−２−オン、及ヒ■４−クロ
ルー４−ヘンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３
−ジオキソラン−２−オンの製造： 等モルの塩素を用い、実施例６と同様の方法により２種
の標記異性体を得た。
Ｉ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３’Ｇ液、ｃｍ−’）：１８２５
，１７２５■、■とも ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ■ ２．１５ （ｓ、 ３１Ｌ −Ｃｌｌ３ ）４．６
０ （ｄ、 ２１Ｌ Ｊ−５１１ｚ、Ｃｌｌ２）５、２
０ （ｔ、 ＩＨ，Ｊ＝５１１ｚ、 −Ｃｌｌ−）７、
４〜８．２ （ｍ、 ５１１．フェニル）■ １．６５
（ｄ、３１１． Ｊ＝６１１ｚ、−ＣＤ５）４．８０
（ｓ、２Ｈ，ｃｏ２） ５、２０ （Ｑ、ＩＩＩ、Ｊ＝６１１ｚ、Ｃｌｌ ）７
、５〜８．２ （ｍ、 ５Ｍ、フェニル）実施例９ ４．５−ジクロル−４−クロルメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オンの製造：４−クロルメチ
ル−５−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンを用
い、実施例６と同様の条件で合成した。
，１７２５■、■とも ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ■ ２．１５ （ｓ、 ３１Ｌ −Ｃｌｌ３ ）４．６
０ （ｄ、 ２１Ｌ Ｊ−５１１ｚ、Ｃｌｌ２）５、２
０ （ｔ、 ＩＨ，Ｊ＝５１１ｚ、 −Ｃｌｌ−）７、
４〜８．２ （ｍ、 ５１１．フェニル）■ １．６５
（ｄ、３１１． Ｊ＝６１１ｚ、−ＣＤ５）４．８０
（ｓ、２Ｈ，ｃｏ２） ５、２０ （Ｑ、ＩＩＩ、Ｊ＝６１１ｚ、Ｃｌｌ ）７
、５〜８．２ （ｍ、 ５Ｍ、フェニル）実施例９ ４．５−ジクロル−４−クロルメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オンの製造：４−クロルメチ
ル−５−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンを用
い、実施例６と同様の条件で合成した。
Ｔ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ−１） ： １８５ ＯＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ２、３０ （ｓ、 ３１Ｌ −ＣＩ！３ ）４、１７
（ｄ、 ｌｔｌ、 Ｊ＝１２Ｈｚ）４、３５ （ｄ、
ＩＩＩ、 Ｊ＝１２１１ｚ）実施例１０ ■４−クロルー４−クロルメチルー５−メチル−１，３
−ジオキソラン−２−オン、及び■４−クロルメチルー
５−クロルー５−メチル−１，３−ジオキソラン−２−
オンの型造： ４−クロルメチルー５−メチル−１，３−ジオキソラン
−２−オンを用いて、実施例６と同様の条件で合成した
。
Ｒ（ＣＤＣｌ２． δ値）： ２、３０ （ｓ、 ３１Ｌ −ＣＩ！３ ）４、１７
（ｄ、 ｌｔｌ、 Ｊ＝１２Ｈｚ）４、３５ （ｄ、
ＩＩＩ、 Ｊ＝１２１１ｚ）実施例１０ ■４−クロルー４−クロルメチルー５−メチル−１，３
−ジオキソラン−２−オン、及び■４−クロルメチルー
５−クロルー５−メチル−１，３−ジオキソラン−２−
オンの型造： ４−クロルメチルー５−メチル−１，３−ジオキソラン
−２−オンを用いて、実施例６と同様の条件で合成した
。
ＯＮＭＲ（ＣＣ１１，６値）：
１．６１ （ｄ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ３１１．−Ｃ１１
＋３）３．９８ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌ１２− ）５
、 ＯＯ（ｑ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ＩＩ！、 Ｃｌｌ
）ＯＮＭＲ（ＣＣｌ４． δ値）： ２、１６ （ｓ、 ３１１．−ｃ１１３ ）３、７２
（ｄ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）５、 ＯＯＤ、 Ｊ
＝５１１ｚ、 ＩＩＬ Ｃ１ｌ ）実施例１１ ４−クロルメチル−５−メチル−１，３−ジオキソラン
−２−オンの製造： ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
ラン−２−オン１．３ｇの中に水冷下チオニルクロライ
ド１．３ｇを滴下、次いでピリジン０゜９５ｇを加え、
室温にて６時間攪拌後反応液を減圧留去し、酢酸エチル
に”ζ抽出、冷炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水に
て洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。酢酸エチ
ルを減圧留去後得られた残渣をシリカゲルカラムにて精
製し、４３０ｍｇのオイル状の標記化合物を得た。（収
率２８％） ＩＲ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ−’ ） ： ｌ ７９５ＨＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３，δ値）： １．５１ （ｄ、 Ｊ ＝６１１ｚ、 ３１Ｌ −Ｃｌ
ｌ３）３．７１ （ｄ、 Ｊ＝５．４Ｈｚ、 ２Ｈ，Ｃ
Ｈ２）４、８８ （ｍ、 ２Ｈ，Ｃ１ｌ ｘ２ ）実施
例１２ ４．５−ジクロル−４−ホルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−クロルメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン３０ｍｇをジクロルメタ
ン１ｍｌに溶解し、ギ酸カリウム２０ｍｇ５ヨードテト
ラブチルアンモニウム２ｍｇ及び水Ｉｎ＋１を加え、室
温にて６時間攪拌し反応終了後、酢酸エチルにて抽出、
水洗し、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸すＩ・リウム
にて乾燥、酢酸エチル減圧留去後、得られた残渣をシリ
カゲルカラムにてｌ）：ｉ’ｆ ′Ｍシ、１０ｍ（Ｈの
オイル状の標記化合物をｆｒ７た。（収率３２％） ＩＲ（Ｎｅａｔ、 Ｃｍ−１）：１８５５．１７３５Ｎ
ＭＲ（ＣＣｌ７１． ６値）： ２．２７ （ｓ、 ３ｔｌ、 −Ｃｌ１３）４、８６
（ｓ、 ２１！、 −ＣＩＩ２．− ）８、０９ （ｓ
、 ＩＩＬ ｌＩＣ０−）実施例１３ ４．５−ジクロル−４−ポルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ブロムメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オンを用いて実施例１２と同
様の条件で合成した。
＋３）３．９８ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌ１２− ）５
、 ＯＯ（ｑ、 Ｊ＝６１１ｚ、 ＩＩ！、 Ｃｌｌ
）ＯＮＭＲ（ＣＣｌ４． δ値）： ２、１６ （ｓ、 ３１１．−ｃ１１３ ）３、７２
（ｄ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）５、 ＯＯＤ、 Ｊ
＝５１１ｚ、 ＩＩＬ Ｃ１ｌ ）実施例１１ ４−クロルメチル−５−メチル−１，３−ジオキソラン
−２−オンの製造： ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
ラン−２−オン１．３ｇの中に水冷下チオニルクロライ
ド１．３ｇを滴下、次いでピリジン０゜９５ｇを加え、
室温にて６時間攪拌後反応液を減圧留去し、酢酸エチル
に”ζ抽出、冷炭酸水素ナトリウム水及び飽和食塩水に
て洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。酢酸エチ
ルを減圧留去後得られた残渣をシリカゲルカラムにて精
製し、４３０ｍｇのオイル状の標記化合物を得た。（収
率２８％） ＩＲ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ−’ ） ： ｌ ７９５ＨＭ
Ｒ（ＣＤＣ１３，δ値）： １．５１ （ｄ、 Ｊ ＝６１１ｚ、 ３１Ｌ −Ｃｌ
ｌ３）３．７１ （ｄ、 Ｊ＝５．４Ｈｚ、 ２Ｈ，Ｃ
Ｈ２）４、８８ （ｍ、 ２Ｈ，Ｃ１ｌ ｘ２ ）実施
例１２ ４．５−ジクロル−４−ホルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−クロルメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン３０ｍｇをジクロルメタ
ン１ｍｌに溶解し、ギ酸カリウム２０ｍｇ５ヨードテト
ラブチルアンモニウム２ｍｇ及び水Ｉｎ＋１を加え、室
温にて６時間攪拌し反応終了後、酢酸エチルにて抽出、
水洗し、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸すＩ・リウム
にて乾燥、酢酸エチル減圧留去後、得られた残渣をシリ
カゲルカラムにてｌ）：ｉ’ｆ ′Ｍシ、１０ｍ（Ｈの
オイル状の標記化合物をｆｒ７た。（収率３２％） ＩＲ（Ｎｅａｔ、 Ｃｍ−１）：１８５５．１７３５Ｎ
ＭＲ（ＣＣｌ７１． ６値）： ２．２７ （ｓ、 ３ｔｌ、 −Ｃｌ１３）４、８６
（ｓ、 ２１！、 −ＣＩＩ２．− ）８、０９ （ｓ
、 ＩＩＬ ｌＩＣ０−）実施例１３ ４．５−ジクロル−４−ポルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ブロムメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オンを用いて実施例１２と同
様の条件で合成した。
１Ｒ（Ｎｅａｔ、ｃｍ−１）： １８５５．’ １７３
５ＮＭＲ（ＣＣｌ４． δ値）： ２．２７ （ｓ、 ３１１． ＣＩ！３）４．８６ （
ｓ、 ２１＋、ＣＩ＋２）８、０９ （ｓ、Ｉｌｌ、ｌ
ＩＣ０−、）実施例１４ ４．５−ジクロル−４−ベンゾイルオキシメチル−５−
メチル−３，５−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ブロムメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン１３０ｍｇ及び安息香酸
カリウム１−５０ｍｇをジメチルホルムアミド０．５ｍ
ｌに溶解し、５℃にて３０分攪拌した。反応液に酢酸エ
チル及び水を加え抽出し、３回水洗、飽和食塩水で洗浄
、次いで無水硫酸すトリウムにて乾燥した後減圧濃縮を
行い、得られた残渣をシリカゲルカラムにて精製し、３
０ｍｇのオイル状の標記化合物を得た。（収率２ｏ％）
ｒ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３溶液、ｃｍ−’）：１８４５，
１７２ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ値）： ２．３１ （ｓ、 ３１． ＣＦＩ３）５．０５ （ｓ
、 ２１Ｌ Ｃｌ１２）７、４〜８．２ （ｍ、 ５ｔ
ｌ、フェニル）参考例１ ４−クロルメチル−５−メチル−１，３−ジオキソレン
−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１７３−ジ
オキソレン−２−オン３，２ｇを２ Ｎ−塩酸ジオキソ
ンン容ン夜２０ｍ１にン容解し、塩化第二１夫６００ｍ
ｇを加え、室温にて３日間攪拌し、酉゛酸エチルにて抽
出し、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水にて洗浄
後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。酢酸エチル減圧
留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムにて才１Ｊ悪
し１ｇのオイル状の４Ｆ ｎ己化合物を得た。
５ＮＭＲ（ＣＣｌ４． δ値）： ２．２７ （ｓ、 ３１１． ＣＩ！３）４．８６ （
ｓ、 ２１＋、ＣＩ＋２）８、０９ （ｓ、Ｉｌｌ、ｌ
ＩＣ０−、）実施例１４ ４．５−ジクロル−４−ベンゾイルオキシメチル−５−
メチル−３，５−ジオキソラン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ブロムメチル−５−メチル−１
，３−ジオキソラン−２−オン１３０ｍｇ及び安息香酸
カリウム１−５０ｍｇをジメチルホルムアミド０．５ｍ
ｌに溶解し、５℃にて３０分攪拌した。反応液に酢酸エ
チル及び水を加え抽出し、３回水洗、飽和食塩水で洗浄
、次いで無水硫酸すトリウムにて乾燥した後減圧濃縮を
行い、得られた残渣をシリカゲルカラムにて精製し、３
０ｍｇのオイル状の標記化合物を得た。（収率２ｏ％）
ｒ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３溶液、ｃｍ−’）：１８４５，
１７２ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ値）： ２．３１ （ｓ、 ３１． ＣＦＩ３）５．０５ （ｓ
、 ２１Ｌ Ｃｌ１２）７、４〜８．２ （ｍ、 ５ｔ
ｌ、フェニル）参考例１ ４−クロルメチル−５−メチル−１，３−ジオキソレン
−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１７３−ジ
オキソレン−２−オン３，２ｇを２ Ｎ−塩酸ジオキソ
ンン容ン夜２０ｍ１にン容解し、塩化第二１夫６００ｍ
ｇを加え、室温にて３日間攪拌し、酉゛酸エチルにて抽
出し、飽和炭酸水素ナトリウム及び飽和食塩水にて洗浄
後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥する。酢酸エチル減圧
留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムにて才１Ｊ悪
し１ｇのオイル状の４Ｆ ｎ己化合物を得た。
ＩＲ（Ｎｅａｔ、 ｃｎｒｌ） ： １８１ ＯＮ Ｍ
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ 、δ値）：２、１６ （ｓ、 ３
１Ｌ −ＣＩＩ３）４、３３ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌ
１２− ）参考例２ ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソレン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ポルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オン１００ｍｇをジ
オキサン０．４ｍｌに熔解し、亜鉛５０ｍＢを加え１０
０℃、１，５時間反応させ、冷後酢酸エチルにて抽出水
洗、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾
燥する。酢酸エチルを減圧留去後、１ｑられた残流をシ
リカゲルカラムにて精製し４５ｍｇのオイル状の標記化
合物を得た。（収率６５％） Ｉ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍＪ ） ： １８２０．１７３０．１１４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ値）： ２、１９ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＩ＋３）４．９４（ｓ、
２１．−Ｃｌ１２− ）８、０９ （ｓ、 ＩＩＬ Ｈ
ＣＯ−）参考例３ ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
レン−２−オンの製造： ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソレン−２−オン２．０ｇを３０ｍ１のメタノールに
熔解し、３時間還流し、メタノールを留去し、残渣をシ
リカゲルカラムで精製し、油状物として標記化合物１．
２Ｂを得た。
Ｒ（ＣＤＣＩ ３ 、δ値）：２、１６ （ｓ、 ３
１Ｌ −ＣＩＩ３）４、３３ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌ
１２− ）参考例２ ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソレン−２−オンの製造： ４．５−ジクロル−４−ポルミルオキシメチル−５−メ
チル−１，３−ジオキソラン−２−オン１００ｍｇをジ
オキサン０．４ｍｌに熔解し、亜鉛５０ｍＢを加え１０
０℃、１，５時間反応させ、冷後酢酸エチルにて抽出水
洗、飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸ナトリウムにて乾
燥する。酢酸エチルを減圧留去後、１ｑられた残流をシ
リカゲルカラムにて精製し４５ｍｇのオイル状の標記化
合物を得た。（収率６５％） Ｉ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍＪ ） ： １８２０．１７３０．１１４Ｏ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ値）： ２、１９ （ｓ、 ３Ｈ，−ＣＩ＋３）４．９４（ｓ、
２１．−Ｃｌ１２− ）８、０９ （ｓ、 ＩＩＬ Ｈ
ＣＯ−）参考例３ ４−ヒドロキシメチル−５−メチル−１，３−ジオキソ
レン−２−オンの製造： ４−ポルミルオキシメチル−５−メチル−１゜３−ジオ
キソレン−２−オン２．０ｇを３０ｍ１のメタノールに
熔解し、３時間還流し、メタノールを留去し、残渣をシ
リカゲルカラムで精製し、油状物として標記化合物１．
２Ｂを得た。
Ｉ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ’−’ ） ：３３Ｂ０，１
８０５．１０１０ ０５Ｎ （ＣＤＣｌ２． δ値）： ２、１４ （ｓ、 ４１１．−Ｃｌｌ３．−０１ｌ ）
４．４２ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）参考例４ ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−■、３−ジ
オキソレン−２−オン ４．５−ジクロル−４−ヘンジイルオキシメチル−５−
メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンを用いて参考
例２と同様の条件で合成した。
８０５．１０１０ ０５Ｎ （ＣＤＣｌ２． δ値）： ２、１４ （ｓ、 ４１１．−Ｃｌｌ３．−０１ｌ ）
４．４２ （ｓ、 ２１１．−Ｃｌｌ２− ）参考例４ ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−■、３−ジ
オキソレン−２−オン ４．５−ジクロル−４−ヘンジイルオキシメチル−５−
メチル−１，３−ジオキソラン−２−オンを用いて参考
例２と同様の条件で合成した。
ＩＲ（ＮａａＬ、ｃｍ−１）：１８１０，１７１５Ｎ
Ｍ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３ 、δ値）：２、２３ （ｓ、
３１１．−Ｃｌｌ３ ）５、０９ （ｓ、 ２１Ｌ
−Ｃｌ１２− ）７．３〜８．３ （ｍ、 ５１Ｌフエ
ニル）参考例５ ４−ブロムメチル−５−メチル−１，３−ジオキソレン
−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソレン−２−オン１３７ｍｇに３０％臭化水素−酢
酸溶液１ｍｌを加え、７０°Ｃ１１時間反応させ、溶媒
を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムにてｆ
ｔ１１し、５０ｍｇのメーイル状の標記化合物を得た。
Ｍ Ｒ（ＣＩＩＣＩ ３ 、δ値）：２、２３ （ｓ、
３１１．−Ｃｌｌ３ ）５、０９ （ｓ、 ２１Ｌ
−Ｃｌ１２− ）７．３〜８．３ （ｍ、 ５１Ｌフエ
ニル）参考例５ ４−ブロムメチル−５−メチル−１，３−ジオキソレン
−２−オンの製造： ４−ベンゾイルオキシメチル−５−メチル−１，３−ジ
オキソレン−２−オン１３７ｍｇに３０％臭化水素−酢
酸溶液１ｍｌを加え、７０°Ｃ１１時間反応させ、溶媒
を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムにてｆ
ｔ１１し、５０ｍｇのメーイル状の標記化合物を得た。
（収率５２％）
Ｉ Ｒ（Ｎｅａｔ、 ｃｍ−１） ： １８２５ＨＭＲ
（ＣＣｌ４． δ値）： ２、１３ （ｓ、 ３１Ｌ Ｃｌｌ３）４、１８ （ｓ
、 ２Ｈ，−Ｃｌｌ２− ）特許出願人 京都薬品工業
株式会社
（ＣＣｌ４． δ値）： ２、１３ （ｓ、 ３１Ｌ Ｃｌｌ３）４、１８ （ｓ
、 ２Ｈ，−Ｃｌｌ２− ）特許出願人 京都薬品工業
株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ％式％ 〔式中、ＲｌおよびＲ２はそれぞれ水素原子又はハロゲ
ンを、１？３はハロゲン又は式−ＯＡで示される基（た
だし、Ａは水素原子、アリールカルボニル、アルキルカ
ルボニル、ベンジンオキシカルボニル、アリールスルボ
ニル、アル；１ｚルスルホニルまたはポルミルを表わし
、これらの基は置換されていてもよい）〕で表わされる
ジオキソール誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20817683A JPS60100571A (ja) | 1983-11-06 | 1983-11-06 | ジオキソ−ル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20817683A JPS60100571A (ja) | 1983-11-06 | 1983-11-06 | ジオキソ−ル誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60100571A true JPS60100571A (ja) | 1985-06-04 |
Family
ID=16551915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20817683A Pending JPS60100571A (ja) | 1983-11-06 | 1983-11-06 | ジオキソ−ル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60100571A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1156042A4 (en) * | 1999-02-24 | 2002-07-03 | Kao Corp | PROCESS FOR THE PREPARATION OF GLYCEROL CARBONATE |
| WO2010001673A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | ダイキン工業株式会社 | フルオロプロピレンカーボネートの製造法 |
-
1983
- 1983-11-06 JP JP20817683A patent/JPS60100571A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1156042A4 (en) * | 1999-02-24 | 2002-07-03 | Kao Corp | PROCESS FOR THE PREPARATION OF GLYCEROL CARBONATE |
| WO2010001673A1 (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-07 | ダイキン工業株式会社 | フルオロプロピレンカーボネートの製造法 |
| RU2470019C2 (ru) * | 2008-06-30 | 2012-12-20 | Дайкин Индастриз, Лтд. | Способ получения фторпропиленкарбоната |
| JP5234109B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2013-07-10 | ダイキン工業株式会社 | フルオロプロピレンカーボネートの製造法 |
| US8519161B2 (en) | 2008-06-30 | 2013-08-27 | Daikin Industries, Ltd. | Process for preparing fluoropropylene carbonate |
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