JPS60132993A - 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸 - Google Patents

7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸

Info

Publication number
JPS60132993A
JPS60132993A JP58217170A JP21717083A JPS60132993A JP S60132993 A JPS60132993 A JP S60132993A JP 58217170 A JP58217170 A JP 58217170A JP 21717083 A JP21717083 A JP 21717083A JP S60132993 A JPS60132993 A JP S60132993A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amino
thiazolyl
group
alpha
cephem
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP58217170A
Other languages
English (en)
Inventor
Tadao Shibanuma
柴沼 忠夫
Koji Nakano
中野 功二
Kensho Nagano
長野 憲昭
Yukiyasu Murakami
幸康 村上
Ryuichiro Hara
原 竜一郎
Akio Koda
甲田 彰男
Atsuki Yamazaki
敦城 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP58217170A priority Critical patent/JPS60132993A/ja
Priority to US06/656,162 priority patent/US4690921A/en
Priority to EP84306967A priority patent/EP0142274A3/en
Publication of JPS60132993A publication Critical patent/JPS60132993A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/30Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2次式(Tlで示される7−(α−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−α−〔(2=アミノ−4−チア
ゾリル)メトキ/イεノ〕アセトアミド)=3−(置換
−1−ピリ/ニオメチル) 3−セフェム−4−カルボ
ン酸またはその地に関する。
中、nは1または2の整数を示す)で示される置換 1
−ピリ/ニオ基を意味する。)」−記、置換−1−ピリ
ジニオ基は、具体的には。
2.3−フクロペンテノ−1−ピリン=オ基、5,67
.8−テトラヒドロ−1−キノリニオ基、3.4−ンク
ロペンテノ−1ピリジニオ基および5゜6.7.8−テ
トラヒドロ−2−インキノリニオ基である。
また、化合物(11の塩としては、薬理学上許容される
非毒性の塩類であり、たと女ばす) IJウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、カルシウム。
マグネシウム等のアルカリ土類金属等の無機塩基との塩
、アンモニウム塩、トリメチルアミン。
トリエチルア建ン、シクロヘキシルアミン、ジンクロヘ
キシルアミン、ジェタノールアミンアルギニン、リジン
゛等の有機塩基や塩基性アミノ酸との塩、塩酸、硫酸、
リン酸等との鉱酸塩。
酢酸、トリフルオロ酢酸、乳酸、酒石酸、フマール酸、
マレイン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等の
有機酸との塩が挙げられる。
本発明化合物(I)は、イミノエーテル型のオキシムや
2−置換チアゾール基を有しており、これらの化合物に
は幾何異性体や互変異性体が存在する。本発明はこれら
7ン(syn)、アンチ(anti)形の幾何異性体や
相互の互変異性体の全てを包含するものである。
本発明により提供される化合物fI)は、広範囲の病原
菌に対してすぐれた抗菌活性を有し、殊にグラム陽性菌
に対する抗菌活性がすぐれているので、これらを起因菌
とする疾病の予防、治療に有用である。
化合物(I)の抗菌活性(最少有効阻止濃度)を表示す
るとつぎの通りである。
表1 (最少発育阻止濃度、γ/ml )一般式(Il
で示される化合物やその塩を主成分る。投与は錠剤、乳
剤、カフセル剤、顆粒剤等の経口投与あるいは静注、筋
注等の注射剤、坐剤等の非経口投与のいずれの形態であ
ってもよい。投与量は症状や投与対象者の年令、性別等
を考慮して個々の場合に応じて適宜決定されるが2通常
成人1日当り250〜3000rI1gであり、これを
1日1〜4回に分けて投与する。
本発明の目的化合物は1種々の方法で製造できるが9代
表的製造法を以下に説明する。
第1製法 (IT) (III) (上記式中 R2,R3およびR4は水素原子またはア
ミノ基の保護基を、R′は水素原子またはカルボニル基
の保護基を意味する。以下同じ。)一般式(I)で示さ
れる化合物は、一般式(I)で示される置換オキシイミ
ノチアゾリル酢酸誘導体又はその反応性誘導体と、一般
式011)で示される7−アミノ−3−セフェム誘導体
とを反応せしめ2次いで所望により保護基を脱離させる
ことによって製造することができる。
ここに、アミン基の保護基としては、当該ペプチド化学
の分野において通常用いられる保護アセチル基、プロピ
オニル基、tert−ブ、トキンカルボニル基、メトキ
ンアセチル基、メトキシプロピオニル基、ベンジルオキ
/カルボニル基。
p−二トロペンジルオキ7カルボニル基等ノアシル基、
ベンジル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基)
、トリチル基等のアラルキル基等が挙げられる。
また、カルボキシ基の保護基としてはトリメチル7リル
基等のトリ低級アルキル/リル基、ベンズヒドリル基、
!−メチルスルホニルエチル基、フェナノル基、p〜ノ
トキ/ベンジル基。
tert−ブチル基、p−ニトロベンジル基など。
緩和な条件下で容易に脱離しうる保護基が挙げられる。
反応は通常溶媒中冷却下乃至宰温下で行なわれる。溶媒
は反応に関与しないものであれば特に制限はないが2通
常使用されるものとしては。
ジオキサン、テトラヒドロフラン、エーテル。
アセトン、エチルメチルケント、クロロホルム。
ジクロロメタン、ンクロロエタン、メタノール。
エタノール、アセトニトリル、酢酸エチル、ギ酸エチル
、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有
機溶媒が摩げられる。これらの溶媒は適宜混合して用い
ることもできる。
化合物(H)は遊離カルボン酸の状態で使用されるほか
、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供される。好
適なものは混合酸無水物、酸ハロゲン化物、活性エステ
ル、活性アミド、酸無水物、酸アンド等である。化合物
(H)を、1L離のカルボン酸の状態で使用するときは
、N、N’−ジ/クロヘキシルカルボジイミト、N、N
’ジエチルカルボンイεド等の縮合剤を使用するのが好
ましい。
また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によっ
ては、塩基の存在下に反応させるのが2反応を円滑に進
行させる上で好ましい場合もある。かかる塩基としては
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリ、ウノ、等の無機塩基、トリメチルアiン
、トリエチルアiン、ジメチルアニリン、ピリジン等の
有機塩基が挙げられる。
こうして得られた生成物からのアミノ基の保護基の脱離
は、保護基として前述したトリチル基の如きアラルキル
基や各種のア/ル基を用いる場合′には酸による加水分
解によって容易に行うことができる。この際用いられる
酸としてはギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等が好ましい
また、トリ低級アルキルシリノド基の除去は、水で処理
することにより容易に行うことができる。
カルボキン基の保護基の除去は、たとえばベンズヒドリ
ル基、 tert−ブチル基、p−メトキノベンジル基
等は、酸処理によって、トリ低級アルキル7リル基は水
と接触させることによって容基の保護基の脱離は同時に
行うことも可能である。
一般式(T)で示される本発明化合物の塩は、たとえば
上記製法1において予じめ原料化合物の塩を用いて製造
することにより、あるいは上記製法により製造された遊
離の化合物に当分野で慣用されている造塩反応を適用す
ることにより製造することができる。
本発明化合物(Il及びその塩の中熱精製は常法に従っ
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精第2製法 (1〕 ■ ■ (1) (式中 R1−R5およびnは前記と同じ意味を前二 
−J−a争−p61.−? t< ネ乃 マ n74 
1L j仁 Y 1.’+ /% rq /+’ン原子
を示す。) 本製造法は、拝)7−[α−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキ
シイミノ〕アセトアミドl −3−’%H4ギシメJル
ー3−セフェム−4−カルボン酸または、この化合物の
アミノ基およびカルボキシ基が保護されたもの(r■)
と置換ピリジン化合物■)とを直接反応させるか、また
は、ii) 化合物(TV)ヲ対応スる3−ハロゲンメ
チルセファロスポーリン誘導体(vl)としたのち置換
ピリジン化合物(V)と反応させて、目的化合物(Tl
を得る方法である。
この反応は、セファロスボリフ核3位の低級アンルオキ
シ基(殊に、アセチルオキシ基、プロピ1)直接変換す
る場合は2通常化合物(IV)又はその塩類と化合物(
V)とを水その他の不活性溶媒中或はそれらの混合溶媒
中で攪拌することにより行なわれる。不活性溶媒として
は、メタノール。
エタノール等のアルコール類、/メチルポルムアミド、
アセトアミド等のアミドづ」″1.アセトン、アセトニ
ドl)ル等が用いられる。反応を促進するために、ヨウ
化カリウム、臭化カリウム、臭化すトリウム、チオシア
ノ酸カリウムなどの触媒を過剰量添加する。反応は、室
温乃至加温下で容易に進行する。
ii) 3−ハロゲノメチルセファロスポリン誘導体を
経て変換する場合には、化合物6■)(通常。
7リル系の基て保護されたものが使用される)塩化メチ
レ/、クロロホルム、アセトニトリル、アセトン等の不
活性溶媒中でヨウ化トリメチルンリル(TMSI)と反
応させ対応する3−ハロヶノメチル誘導体(Vl)とす
る。シリル化3−ハロゲノメチル誘導体を汀む反応混合
物から溶媒を留去し、濃縮物をアセトニトリルに溶解し
、少過剰量のテトラヒドロフランを加えて過剰のTMS
 rを分解する。このFI液に、ついでピリジン化合物
■)を加えて目的化合物のシリル誘導体を得る。
」ニ記i)、ii)の反応生成物は、所望により保護基
を除去およびj福形成は、前記の方法を採用できる。
なお2本実施例で使用する7−トリメチルシリルー3 
(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸トリメチルンリルエステルは新規化合物であ
るので、その製造例を参考例に記す。
参考例 1 一カルボン酸1.7βヒクロロメタン50 ml K 
11■濁さぜ、1ビス(トリメチルシリル)トリフルオ
ロアセトアミド2.66m1を加え室温で30分攪拌し
、完全な溶液を得る。
リルアミノ−3−(2,3−7クロペンテノー1−ビ実
施例 1 (Z)−α−(2−1−リチルアミノー11−チアゾリ
ル)−α 〔(2−トリチルアミノ−4−チアゾリル)
メトギフイミノ〕酢酸392gをジクロロメタン25n
ntに)冒濁させ、3°〜4°CK冷却し、五塩化す、
/ 1.04g ヲ1t+−1工、3″′〜fc −C
−15分41拌t6(A 液M呼ぶ)。一方参考例1で
得たトリメチルシリル 7トリメチルシリルアミノ 3
−(2,3−ソクロペンテノ−1−ピリジニオメチル)
−3セフェム−4−カルホキ/レートヨーシトを含む溶
液を。
(1’l ”r w ’i\」oll l J −4)
+−1−’ II ウ・ノQ Q −14ノ++n 上
これに上記A液を滴下後、15分かけて、−15”Cま
で昇温させる。この反応液に、水5ml、テトラヒドロ
フラン]Oml、IN−塩酸10mtを加え、水冷下で
10分間攪拌する。攪拌後2反応液から、ジクロロメタ
ンおよO・テトラヒドロフランを減圧留去する。
残渣に水200m1を加え、析出物を11過する。この
析出物を水洗後、乾燥し、保護基のついた粗製物5.5
 gを得る。これに、水冷下でトリフルオル酢酸60m
tと水12mlを加えた後、室温で1時間半攪拌する。
不溶物をl」過し、f液を減圧濃縮し残渣に。
エーテル+50n+tを加えて、粉末化して、濾過し。
和製物27gを得る。これを水200m1に懸濁させ。
1N−塩酸4 mlを加えて溶解させ、ダイヤイオンH
P−20(三菱化成製)のカラムクロマトグラフィーに
伺し、最初水ついで水−メタノールの混合比を(水:メ
タノールー10:1から10:6まで)順次かえながら
溶出し、目的物を含むフラクションをに;縮し、凍結乾
燥して(z) −7−1α−(2アミノ4 チアゾリル
) α 〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイ
ミノ〕アセ]・アミド)−3−(2,3−シクロペンテ
ノ 1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カル
ホキフレート275■を得る。
NMR(DMSO−d6) δ: /1.89 (2H,!h五人−2)5.06 
(IH,。瓜、) 5.07 (IH,。ヰ ) 参考例2 7−アミノ−3−ヨードメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸17gをジクロロメタン50m/に懸l蜀させ
、ビス(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド
2.66 mlを加え室温で30分攪拌し、完全な溶液
を得る。この溶液に、5,6,7,8−テトラヒドロイ
ソキノリン665 mgを加え、室温で4時間攪拌しト
リメチルシリル 7−ドリメチルシリルアミノー3−(
5,6,7,8−テトラヒドロ−2−イソキノリニオメ
チル)−3−セフェム−4−カルポギゾレートヨージド
を含む溶液を得る。
実施例2 (Z)−α−(2−1−ジチルアミノ−11−チアゾリ
ル)−α−[(2−)リチルアミノ 4−チアゾリル)
メトキシイミノ〕酢酸392gをジクロロメタン 25
m1に懸濁させ、3〜4°Cに冷却し、五塩化リン1.
04 gを加え、3°〜4°Cで15分借拌する(A液
と呼ふ)。
一方、参考例2で得たトリメチルシリル7−トリメチル
シリルアミノー3− (5,6,7,8−テトラヒドロ
−2−イソキノリニオメチル)−3−セフェム−4〜カ
ルボキシレートヨージドを含む溶液を一508Cに冷却
したのち、ピリジン2.2 mlを加え。
これに上記A液を滴下後、15分かけて、−15°Cま
で昇温させる。この反応液に、水5ml、つづいてIN
−塩酸15m1.テトラヒドロフラン]0mlを加え、
氷冷下で10分間攪拌する。攪拌後2反応液から、ジク
ロロメタンおよびテトラヒドロフランを減圧留去する。
残渣に水200 mlを加え、析出物を濾過して、水分
を含む保護基のついた和製物Logを得る。
これに、水冷下で、トリフルオル酢酸70m1と水14
m1を加えた後、室温で1時間攪拌する。不溶物を濾過
し、濾過液を減圧濃縮し残渣に、エーテル200m1を
加えて粉末化して濾過し、粗製物4gを得る。これを水
300 mlに懸濁させ、IN−塩酸6mlを加えて溶
解させ、ダイヤイオンHP −20のカラムクロマトグ
ラフィーに付し、最初水についで水−メタノールの混合
比を(水:メタノール=10:]から10ニアまで)順
次かえながら溶出し、目的物を含むフラクションを濃縮
し凍結乾燥して(Z) −7−1(α−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリ
ル)メトキンイミノ〕アセトアミドl −3−(5,6
,7,8−テトラヒドロ−2−インキノリニオメチル)
−3−セフェム−4−カルボキシレート393 mgを
得る。
NMR(DMSO−d、) 4.88(2H,−動″Ui NH,) 共 5.68(IH,。淳、) 手続補正書(自発) 昭和60年1 月3δ日 特許庁長官 志賀 学 殿 2、発明の名称 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都中央区日本橋本町2丁目5番地1名 称
 (667)山之内製薬株式会社代表者 森 岡 茂 
夫 4、代理人 住 所 東京都板橋区小豆沢1丁目1番8号明細書の「
特許請求の範囲」の欄及び「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 〔1〕「特許請求の範囲」の欄 別紙の通り 〔2〕「発明の詳細な説明」の欄 (1)明細書第4頁「表1」中、下から2段目の「エル
ギノーザIAMJを「プチダ IAM Jに訂正する。
(2)同第6頁下から8行「ホルミ基」を「ホルミル基
」に、第7頁下から9行「エチルメチルケント」を「エ
チルメチルケトン」にそれぞれ訂正する。
(3)同第9頁下から9行[予じめ」を「予め」に。
同頁下から3行「行なわれ」を1行われ」に訂正する。
(41同第tOjj図中、左上の記号r(VI)Jをr
(IV)Jに訂正する。
(5)同第11頁4〜5行「アルコキシメチル」を「ア
シルオキシメチル」に訂正する。
(6)同第12頁10行「される)塩化」を[される)
を塩化」に、第16頁7行[5,07Jを[5,70J
に訂正する。
(7)同第18頁下から11行「3〜4℃」を[3°〜
4℃」に、第19頁11行「最初水についで」を「最初
水ついで」に訂正する。
(8)同第20頁6行式中のrHJをrlに訂正し。
同頁最終行の「9.09Jの前に「)」を挿入する。
一般式 式中、nは1または2の整数を示す)で示される置換−
1−ビリンニオ基を意味する。) で示される7−(α−(2−ア°ミノー4−チアゾリル
)−α−[(2−7ミノー4−チアノリル)メトキシイ
ミノ]アセトアミドl−3−(置換−1−ピリジニオメ
チル)−3−セフェム−4−カルボン酸またはその塩。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 置換−1−ピリジニオ基を意味する。)で示される7−
    (α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−
    アミノ−4−チアゾリル)メトキンイミノ〕アセトアミ
    ド)−3−(8換−,1−ピリジニオメチル)−3−セ
    フェム−4=カルボン酸またはその塩。
JP58217170A 1983-10-11 1983-11-18 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸 Pending JPS60132993A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58217170A JPS60132993A (ja) 1983-11-18 1983-11-18 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
US06/656,162 US4690921A (en) 1983-10-11 1984-09-28 Cephalosporin compounds and salts thereof
EP84306967A EP0142274A3 (en) 1983-10-11 1984-10-11 Cephalosporin compounds and salts thereof, their production, and medicaments containing them

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58217170A JPS60132993A (ja) 1983-11-18 1983-11-18 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60132993A true JPS60132993A (ja) 1985-07-16

Family

ID=16699952

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58217170A Pending JPS60132993A (ja) 1983-10-11 1983-11-18 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(置換−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60132993A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63501851A (ja) * 1985-10-31 1988-07-28 アンジオ−メデイカル コ−ポレイシヨン 動物由来物質の超臨界流体抽出
JPH07165765A (ja) * 1984-11-23 1995-06-27 Biochem Gmbh セファロスポリン誘導体の新規製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07165765A (ja) * 1984-11-23 1995-06-27 Biochem Gmbh セファロスポリン誘導体の新規製造方法
JPS63501851A (ja) * 1985-10-31 1988-07-28 アンジオ−メデイカル コ−ポレイシヨン 動物由来物質の超臨界流体抽出

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63152370A (ja) 新規カルボン酸
US4608373A (en) Cephem compounds
EP0293771A2 (en) Cephalosporin compound and pharmaceutical composition thereof
JPS61263990A (ja) 3−ホスホニウムメチル−3−セフエム化合物の製造法
US4690921A (en) Cephalosporin compounds and salts thereof
JPS6351389A (ja) セフアロスポリン誘導体、その製造法及び抗菌活性組成物
JPS62103092A (ja) β−ラクタム誘導体
JPS6178792A (ja) 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(4−オキソ−2−アゼチジニル置換イミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸およびその製造法
JPS60197693A (ja) 3−(キヌクリジニウム)メチル−3−セフエム誘導体
JPS5854157B2 (ja) セフアロスポリン化合物の新規誘導体ならびにその製造方法
JPS59176293A (ja) 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−ピリジニウムメチル−3−セフエム−4−カルボン酸
JPS60188389A (ja) 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸
JPS58157792A (ja) 新規なセフアロスポリン誘導体
CA1058206A (en) Amino acids, and their production and use
EP0115820B1 (en) Cephalosporin derivatives and process for their preparation
JPS62226986A (ja) 新規セフアロスポリン誘導体
JP2676763B2 (ja) セファロスポリン誘導体
JPS6078988A (ja) 7−{α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−〔(2−アミノ−4−チアゾリル)メトキシイミノ〕アセトアミド}−3−(1−ピリダジニオメチル)−3−セフエム−4−カルボン酸
JPS60181090A (ja) 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−シアノメトキシイミノアセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−Δ↓3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造法
JPS60136586A (ja) 7‐〔α‐(2‐アミノ‐4‐チアゾリル)‐α‐(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕‐3‐置換‐Δ↑3‐セフエム‐4‐カルボン酸
JPS60252485A (ja) 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−Δ3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造法
JPH0251556B2 (ja)
JPH01203394A (ja) 新規セファロスポリン誘導体及びチアゾールアルケン酸誘導体
JPS6041683A (ja) 経口用セフアロスボリン誘導体
JPS59108792A (ja) 7−(α−アミノチアゾリル−α−イミノ)アセトアミドセフアロスポリン誘導体