JPS60141627A - シリカガラスの製造方法 - Google Patents
シリカガラスの製造方法Info
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- JPS60141627A JPS60141627A JP24653083A JP24653083A JPS60141627A JP S60141627 A JPS60141627 A JP S60141627A JP 24653083 A JP24653083 A JP 24653083A JP 24653083 A JP24653083 A JP 24653083A JP S60141627 A JPS60141627 A JP S60141627A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシリコンメトキシド(S s (ocxts
) 4 )をメタノール−水混合溶媒溶液として加水分
解及びゲル化後、得られるゲルを乾燥及び加熱焼結して
シリカガラスを得る改良された方法に関する。
) 4 )をメタノール−水混合溶媒溶液として加水分
解及びゲル化後、得られるゲルを乾燥及び加熱焼結して
シリカガラスを得る改良された方法に関する。
シリコンアルコキシドを出発原料とし、これをアルコー
ル−水混液と混合して加水分解、ゲル化させ、次いで加
熱焼結してシリカガラスを得る方法(以下「ゾル−ゲル
法」と呼ぶ)は、知られている〔無業協会誌86 、1
1 、1978.第552〜559頁、同87 、8
、1979.第484〜438頁等参照〕。
ル−水混液と混合して加水分解、ゲル化させ、次いで加
熱焼結してシリカガラスを得る方法(以下「ゾル−ゲル
法」と呼ぶ)は、知られている〔無業協会誌86 、1
1 、1978.第552〜559頁、同87 、8
、1979.第484〜438頁等参照〕。
この方法は従来よりよく知られている方法即ち水晶等を
原料として、これを溶融ガラス化させる方法や5IC1
!4、S iH4等を原料とするCVD(Che−ml
cal vapor Deposition) 法等ニ
比シ、(イ)より高純度且つ均質なシリカガラスが製造
できる、 (ロ)比較的低温で目的とするガラスを収得Cきる、等
の優れた特徴を有しており、殊に高純度を要求される光
学ガラス等の製造法として注目され且つ種々研究がなさ
れている。本発明者らもL記ゾル−ゲル法を利用したシ
リカガラスの製造法番とつき鋭意研究を重ねた結果、先
に原料溶液のpHを特定のアルカリ域に調整すると共に
、その加水分解に引き続くゲル化及び乾燥工程を水とメ
タノールとの特定比率の混合蒸気中で行なう時には、こ
の種ゾルーゲル法の最大の欠点であったゲル乾燥時の収
縮に伴われるひび割れや亀裂の発生、乾燥ゲルの加熱焼
結時の発泡や破損等を確実に回避して、大型、透明で、
高純度、均質な所望のガラス製品を再現性よく収得でき
ることを見い出し、この知見に基づ〈発明を完成した(
特願昭58−29100号)。
原料として、これを溶融ガラス化させる方法や5IC1
!4、S iH4等を原料とするCVD(Che−ml
cal vapor Deposition) 法等ニ
比シ、(イ)より高純度且つ均質なシリカガラスが製造
できる、 (ロ)比較的低温で目的とするガラスを収得Cきる、等
の優れた特徴を有しており、殊に高純度を要求される光
学ガラス等の製造法として注目され且つ種々研究がなさ
れている。本発明者らもL記ゾル−ゲル法を利用したシ
リカガラスの製造法番とつき鋭意研究を重ねた結果、先
に原料溶液のpHを特定のアルカリ域に調整すると共に
、その加水分解に引き続くゲル化及び乾燥工程を水とメ
タノールとの特定比率の混合蒸気中で行なう時には、こ
の種ゾルーゲル法の最大の欠点であったゲル乾燥時の収
縮に伴われるひび割れや亀裂の発生、乾燥ゲルの加熱焼
結時の発泡や破損等を確実に回避して、大型、透明で、
高純度、均質な所望のガラス製品を再現性よく収得でき
ることを見い出し、この知見に基づ〈発明を完成した(
特願昭58−29100号)。
本発明は上記方法を更に改善した新しいシリカガラスの
製法を提供するものである。即ち本発明は、シリコンメ
トキシドをメタノール−水混合溶媒溶液として加水分解
及びゲル化後、得られるゲルを乾燥及び加熱焼結してシ
リカガラスを得るに当り、上記溶液のpHを9.5〜1
0.5に調整すると共に上記ゲルの乾燥をメタノールの
臨界温度及び臨界圧力を越える条件下で行なうことを特
徴とするシリカガラスの製造方法に係る。
製法を提供するものである。即ち本発明は、シリコンメ
トキシドをメタノール−水混合溶媒溶液として加水分解
及びゲル化後、得られるゲルを乾燥及び加熱焼結してシ
リカガラスを得るに当り、上記溶液のpHを9.5〜1
0.5に調整すると共に上記ゲルの乾燥をメタノールの
臨界温度及び臨界圧力を越える条件下で行なうことを特
徴とするシリカガラスの製造方法に係る。
本発明方法によれば、上記ゲル化時に特定のptt条件
を採用し、且つゲルの乾燥時に特定の温度及び圧力条件
を採用することに基づいて、何らひび割れ、亀裂発生、
発泡等を起すことなく、容易に且つ確実にしかも高い歩
留りで大型透明なシリカガラス製品を収得することがで
きる。殊に本発明方法では、上記特定の温度及び圧力条
件下でゲルを乾燥させることによって、従来のゾル−ゲ
ル法とは全く異ってゲル自体の収縮が実質的に伴われず
、従ってこの収縮時に応々にして認められる亀裂発生等
が全くないに加え、この乾燥工程を僅か1日程度の非常
に短時間で実施することができ、しかも乾燥ゲルは均質
な多孔性を具備するため引き続く加重焼結も容易に効率
良〈実施できる。
を採用し、且つゲルの乾燥時に特定の温度及び圧力条件
を採用することに基づいて、何らひび割れ、亀裂発生、
発泡等を起すことなく、容易に且つ確実にしかも高い歩
留りで大型透明なシリカガラス製品を収得することがで
きる。殊に本発明方法では、上記特定の温度及び圧力条
件下でゲルを乾燥させることによって、従来のゾル−ゲ
ル法とは全く異ってゲル自体の収縮が実質的に伴われず
、従ってこの収縮時に応々にして認められる亀裂発生等
が全くないに加え、この乾燥工程を僅か1日程度の非常
に短時間で実施することができ、しかも乾燥ゲルは均質
な多孔性を具備するため引き続く加重焼結も容易に効率
良〈実施できる。
しかるに従来のこの種ゲルの乾燥工程は、上記収縮時の
ひび割れ等を避けるためゲル化及び乾燥を非常に厳格な
条件下即ち原料液からの水及びアルコールの蒸発を大々
特定の速度で非常にゆっくりと行なう必要があり、通常
乾燥終了までにほぼ2週間前後を要しており、作業性の
面でも尚改善される余地があった。
ひび割れ等を避けるためゲル化及び乾燥を非常に厳格な
条件下即ち原料液からの水及びアルコールの蒸発を大々
特定の速度で非常にゆっくりと行なう必要があり、通常
乾燥終了までにほぼ2週間前後を要しており、作業性の
面でも尚改善される余地があった。
本発明方法は、上記特定p H条件下での加水分解及び
ゲル化並びに特定の温度及び圧力条件下でのゲルの乾燥
を組み合せ行なうことを必須とする以外は、公知のゾル
−ゲル法と同様にして実施できる。
ゲル化並びに特定の温度及び圧力条件下でのゲルの乾燥
を組み合せ行なうことを必須とする以外は、公知のゾル
−ゲル法と同様にして実施できる。
用いられるシリコンメトキシドのメタノール−水混合溶
液からの加水分解、ゲル化反応は、次式に示される反応
に従い進行する。
液からの加水分解、ゲル化反応は、次式に示される反応
に従い進行する。
+1sI(OCRIり4 +4nH20→n5i(OH
)4+nCH30H−(itn81(OH)4→n5l
oz +2n)120 −+21上記反応は、より詳細
には、まずシリコンメトキシドに水及びメタノールを加
え原料ゾル液とする。その際本発明では適当なアルカリ
、例えはアンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等を用いて原料ゾル液のI)Hを9,5〜10,5
、好ましくは10.0〜10.2の範囲に調整する。次
いで該ゾル液を適当な形状の容器に入れ、該容器を密閉
放置し、上記加水分解及びゲル化反応を該密閉容器内で
進行させ、ゾルを完全に固「ヒさせる。
)4+nCH30H−(itn81(OH)4→n5l
oz +2n)120 −+21上記反応は、より詳細
には、まずシリコンメトキシドに水及びメタノールを加
え原料ゾル液とする。その際本発明では適当なアルカリ
、例えはアンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等を用いて原料ゾル液のI)Hを9,5〜10,5
、好ましくは10.0〜10.2の範囲に調整する。次
いで該ゾル液を適当な形状の容器に入れ、該容器を密閉
放置し、上記加水分解及びゲル化反応を該密閉容器内で
進行させ、ゾルを完全に固「ヒさせる。
この加水分解及びゲル化反応条件は、通常採用される条
件と同様とずれはよく、一般に約80〜lOO℃、好ま
しくは約60〜80℃の温度条件を採用できる。反応は
通常5〜80時間程腹で完結する。かくして引き続く、
本発明の乾燥及び加熱焼結に最も好適な嵩密度及び細孔
力布を有する所望のゲルを収得する。
件と同様とずれはよく、一般に約80〜lOO℃、好ま
しくは約60〜80℃の温度条件を採用できる。反応は
通常5〜80時間程腹で完結する。かくして引き続く、
本発明の乾燥及び加熱焼結に最も好適な嵩密度及び細孔
力布を有する所望のゲルを収得する。
本発明では次いで上記で得られるゲルを容器と共に、適
当な而・1圧谷器例えはオートクレーブ中lこ移し、該
オートクレーブ内をメタノール雰囲気とした後、該メタ
ノールの臨界温度及び臨界圧力を越える条件で、ゲルの
乾燥を行なう。この乾燥時の温度及び圧力条件は、上記
メタノールの臨界点即ち温度289.4℃及び圧力フ8
.5気ロコを越える限り特に制限はないか、あ才りに高
温、高圧条!1−を採用することは装置的にもエネルギ
ー面でも有利ではなく、通常240〜800℃程度及び
80〜120気圧程度とするのが好適である。この条件
下での乾燥は約1日前後で完了し、実η的に収縮のない
乾燥ゲルを収得できる。上記乾燥操作は、より好ましく
は例えば添伺の第1図に示される如き圧力装置を利用し
て実施される。第1図は本発明方法(乾燥工程)を実施
するに適したひとつの装置の概略図であり、図中(11
は田方容器(オートクレーフ)、(2)は乾燥用ゲル、
+31 、 lイ)はメタノ−”、141はヒーター、
(5)は不活性ガスボンベ、 +6+ 。
当な而・1圧谷器例えはオートクレーブ中lこ移し、該
オートクレーブ内をメタノール雰囲気とした後、該メタ
ノールの臨界温度及び臨界圧力を越える条件で、ゲルの
乾燥を行なう。この乾燥時の温度及び圧力条件は、上記
メタノールの臨界点即ち温度289.4℃及び圧力フ8
.5気ロコを越える限り特に制限はないか、あ才りに高
温、高圧条!1−を採用することは装置的にもエネルギ
ー面でも有利ではなく、通常240〜800℃程度及び
80〜120気圧程度とするのが好適である。この条件
下での乾燥は約1日前後で完了し、実η的に収縮のない
乾燥ゲルを収得できる。上記乾燥操作は、より好ましく
は例えば添伺の第1図に示される如き圧力装置を利用し
て実施される。第1図は本発明方法(乾燥工程)を実施
するに適したひとつの装置の概略図であり、図中(11
は田方容器(オートクレーフ)、(2)は乾燥用ゲル、
+31 、 lイ)はメタノ−”、141はヒーター、
(5)は不活性ガスボンベ、 +6+ 。
(d)はバルブ、(7)は圧力計、(8)はゲル収容容
器を夫々示す。
器を夫々示す。
第1図に示す装置を用いる本発明方法Iこよれば、前述
した加水分解及びゲル化工程で、原料溶液は容器(8)
内に収容され、蓋(図示せず)で覆われ密閉状態で加水
分解、ゲル化処理されてゲル(21となり、次いで容器
(8)の蓋を開口後メタノール(3)を充満された状態
で圧力容器(1)内に移され、ここで以下の如くして乾
燥される。即ち圧力容器([)内に移されたゲル(2)
は、圧力容器(1)を密閉後、ボンベ(5)よりバルブ
(6)を介して不活性ガス例えばヘリウム、アルゴン、
窒素ガス等を通じて容器(1)内を置換さ所定時間保持
されて乾燥される。尚圧力容器(1)内には別個に容器
内をメタノール雰囲気とするためのメタノール(3)が
装入さ11ている。また上記加熱による容器内圧力は圧
力針(7)により測定される。
した加水分解及びゲル化工程で、原料溶液は容器(8)
内に収容され、蓋(図示せず)で覆われ密閉状態で加水
分解、ゲル化処理されてゲル(21となり、次いで容器
(8)の蓋を開口後メタノール(3)を充満された状態
で圧力容器(1)内に移され、ここで以下の如くして乾
燥される。即ち圧力容器([)内に移されたゲル(2)
は、圧力容器(1)を密閉後、ボンベ(5)よりバルブ
(6)を介して不活性ガス例えばヘリウム、アルゴン、
窒素ガス等を通じて容器(1)内を置換さ所定時間保持
されて乾燥される。尚圧力容器(1)内には別個に容器
内をメタノール雰囲気とするためのメタノール(3)が
装入さ11ている。また上記加熱による容器内圧力は圧
力針(7)により測定される。
次いでバルブ(d)を開いてメタノールを徐々に排気し
、容器内圧を大気圧まで戻し、更にバルブ(8)を開い
て不活性ガスを通じることにより容器内のメタノール蒸
気をパージし、その後室温まで自然冷却して乾燥工程を
完結する。かくして所望の乾燥ゲルを得る。このゲルは
上記特定の乾燥工程の採用に基づいて、乾燥工程におい
て何ら亀裂や割れの発生が伴われるおそれのないことは
勿論のこと、殊に収縮が実質的に誌められず、これによ
り引き続く加熱焼結に有利な多孔性を具備している。即
ち上記本発明の乾燥工程により得られるゲルは、通常約
0.17〜0.18の嵩密度及び800〜500m1l
/f の表面積を有している。
、容器内圧を大気圧まで戻し、更にバルブ(8)を開い
て不活性ガスを通じることにより容器内のメタノール蒸
気をパージし、その後室温まで自然冷却して乾燥工程を
完結する。かくして所望の乾燥ゲルを得る。このゲルは
上記特定の乾燥工程の採用に基づいて、乾燥工程におい
て何ら亀裂や割れの発生が伴われるおそれのないことは
勿論のこと、殊に収縮が実質的に誌められず、これによ
り引き続く加熱焼結に有利な多孔性を具備している。即
ち上記本発明の乾燥工程により得られるゲルは、通常約
0.17〜0.18の嵩密度及び800〜500m1l
/f の表面積を有している。
本発明方法では次いで上記で得られる乾燥ゲルを引き続
き通常の方法に従って加熱焼結させる。
き通常の方法に従って加熱焼結させる。
該加熱焼結は常法に従い約1100〜1200℃の範囲
で実施でき、特に本発明では上記乾燥ゲルの特性に基づ
いて、上記1200℃程度の高温条件の採用によっても
、実質的に発泡や破損のない透明均質な所期のシリカガ
ラスを短時間で収得でき、これは高温焼結により、その
耐熱性等が一層改善される利点がある。
で実施でき、特に本発明では上記乾燥ゲルの特性に基づ
いて、上記1200℃程度の高温条件の採用によっても
、実質的に発泡や破損のない透明均質な所期のシリカガ
ラスを短時間で収得でき、これは高温焼結により、その
耐熱性等が一層改善される利点がある。
次に、本発明を実施例によってさらに具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
よって限定されるものではない。
実施例1
この方法は、第1図に示す装置を用いて実施した。
5((ocHa)41モルに対してCI(80H4,6
モルおよびアンモニア水にてpH=10.2に削整した
H2O4モルを室温にて80分間撹拌混合し、この混合
溶液を内径4Qmmの円筒状ガラス容器(8)に移した
後、フタ(図示せず)にて容器開口部を密閉した。そし
てこの容器を65°C〜70℃の恒温器内に入れ、12
〜24時間放置し、ゲル化させた後、恒温器よりとり出
し、室温まで冷却させた。
モルおよびアンモニア水にてpH=10.2に削整した
H2O4モルを室温にて80分間撹拌混合し、この混合
溶液を内径4Qmmの円筒状ガラス容器(8)に移した
後、フタ(図示せず)にて容器開口部を密閉した。そし
てこの容器を65°C〜70℃の恒温器内に入れ、12
〜24時間放置し、ゲル化させた後、恒温器よりとり出
し、室温まで冷却させた。
その後、上記ガラス容器のフタをとり、CJOHを容器
内に充満させ、11内容積の■−カ容器(1)内に移し
た。該圧力容器(1)内にもCH30Hを加え、容器(
1)内紛CHBOHjiを85モルとした。圧力容器を
密閉後、不活性ガス(アルゴンカス)にて容器内を置換
後、バルブ(6)を閉じて加熱を開始した。
内に充満させ、11内容積の■−カ容器(1)内に移し
た。該圧力容器(1)内にもCH30Hを加え、容器(
1)内紛CHBOHjiを85モルとした。圧力容器を
密閉後、不活性ガス(アルゴンカス)にて容器内を置換
後、バルブ(6)を閉じて加熱を開始した。
4〜6時間を要してゆっくりと250℃まで昇温し、圧
力の上昇がゆるやかになるまで約2時間250℃を保持
し、次いでバルブ(6)を開きCHsOHの排気を2〜
5時間を要して行ない、圧力容器内圧を大気圧に戻した
。その後再びバルブ(6)を開いて不活性ガスを容器内
に通し、1〜2時間を要して容器内に残留するCHf1
OH蒸気をパージした。
力の上昇がゆるやかになるまで約2時間250℃を保持
し、次いでバルブ(6)を開きCHsOHの排気を2〜
5時間を要して行ない、圧力容器内圧を大気圧に戻した
。その後再びバルブ(6)を開いて不活性ガスを容器内
に通し、1〜2時間を要して容器内に残留するCHf1
OH蒸気をパージした。
圧力容器を室温まで自然冷却し、ガラス容器をとり出し
た。
た。
かくして直径4Qmmx烏さ82 Oramの円筒形を
有し、嵩密度0.18、比表面積4681n”/Fの乾
燥ゲルを得た。
有し、嵩密度0.18、比表面積4681n”/Fの乾
燥ゲルを得た。
この乾燥ゲルを室温から260℃までを真空中で、25
0℃〜400℃までを空気中で、400℃以上は再び真
空中で、1200℃まで約8日間でゆっくり加熱して割
れのない透明なシリカガラス(180X15φ)を得た
。このガラスの密度は2.2であった。
0℃〜400℃までを空気中で、400℃以上は再び真
空中で、1200℃まで約8日間でゆっくり加熱して割
れのない透明なシリカガラス(180X15φ)を得た
。このガラスの密度は2.2であった。
実施例2
下記vg1表に示す各条件下に実施例1と同様にして乾
燥ゲルを作成し、各ゲルから同様に加熱焼結して、いず
れも割れのない透明なシリカガラスを得た。得られた各
乾燥ゲルは0.17〜0.18 ノ嵩密度及び800〜
500 m2/りの表面積を有しており、2等ゲルから
のガラスは、いずれも約2.2の密度を有していた。
燥ゲルを作成し、各ゲルから同様に加熱焼結して、いず
れも割れのない透明なシリカガラスを得た。得られた各
乾燥ゲルは0.17〜0.18 ノ嵩密度及び800〜
500 m2/りの表面積を有しており、2等ゲルから
のガラスは、いずれも約2.2の密度を有していた。
WS1表
比較例1
実施例1において原料溶液の調製時にpHを無調整(ア
ンモニア水無添加゛)及び9.0に調整し、之等の夫々
を同様に加水分解、ゲル化後乾燥した所、乾燥時にゲル
の収縮が起り、ヒヒ割れが生じIこ 。
ンモニア水無添加゛)及び9.0に調整し、之等の夫々
を同様に加水分解、ゲル化後乾燥した所、乾燥時にゲル
の収縮が起り、ヒヒ割れが生じIこ 。
第1図は本発明によるシリカガラス製造に用いる装置の
一例の概略図である。 (以上) 9°1
一例の概略図である。 (以上) 9°1
Claims (1)
- ■ シリコンメトキシドをメタノール−水混合溶媒溶液
として加水分解及びゲル化後、得られるゲルを乾燥及び
加熱焼結してシリカガラスを得るに当り、上記溶液のp
Hを9.5〜10.5に調整すると共に上記ゲルの乾燥
をメタノールの臨界温度及び臨界圧力を越える条件下で
行なうことを特徴とするシリカガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24653083A JPS60141627A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シリカガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24653083A JPS60141627A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シリカガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60141627A true JPS60141627A (ja) | 1985-07-26 |
| JPH0359013B2 JPH0359013B2 (ja) | 1991-09-09 |
Family
ID=17149774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24653083A Granted JPS60141627A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | シリカガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60141627A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62292642A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-19 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製造法 |
| JPH07507033A (ja) * | 1991-12-12 | 1995-08-03 | 矢崎総業株式会社 | ゲルマニアをドープしたシリカガラスロッドを製造するためのゾルゲル法 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP24653083A patent/JPS60141627A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62292642A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-19 | Hitachi Chem Co Ltd | シリカガラスの製造法 |
| JPH07507033A (ja) * | 1991-12-12 | 1995-08-03 | 矢崎総業株式会社 | ゲルマニアをドープしたシリカガラスロッドを製造するためのゾルゲル法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0359013B2 (ja) | 1991-09-09 |
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