JPS60146404A - 導電性材料の製造方法 - Google Patents
導電性材料の製造方法Info
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- JPS60146404A JPS60146404A JP88684A JP88684A JPS60146404A JP S60146404 A JPS60146404 A JP S60146404A JP 88684 A JP88684 A JP 88684A JP 88684 A JP88684 A JP 88684A JP S60146404 A JPS60146404 A JP S60146404A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、導電性、耐酸化性に優れた導電性材料の製造
方法に関するものである。更に詳しくは、硫化銅により
導電性を付与した羽°料の耐酸化性改良方法に関するも
のである。
方法に関するものである。更に詳しくは、硫化銅により
導電性を付与した羽°料の耐酸化性改良方法に関するも
のである。
導電性、透明性、密着性、コストなどの点において優れ
た′４電性材料として硫化銅を付着及び／または含有ぜ
しめて得られた材料が存在する（フランス国特許第２，
１８１，４８２号明細書、同第２．２６４．８９２号明
細書、特公昭５７−５６５８１号公報、特開昭５７−２
１５７０号公報、特願昭５７−８８６５０号、＠願昭５
７−９０８１７号、特願昭５７−１５９４９９号、特願
１５８−７５８７号、特願昭５８−７７３３号、特願昭
５８−３７２０１号等）。
た′４電性材料として硫化銅を付着及び／または含有ぜ
しめて得られた材料が存在する（フランス国特許第２，
１８１，４８２号明細書、同第２．２６４．８９２号明
細書、特公昭５７−５６５８１号公報、特開昭５７−２
１５７０号公報、特願昭５７−８８６５０号、＠願昭５
７−９０８１７号、特願昭５７−１５９４９９号、特願
１５８−７５８７号、特願昭５８−７７３３号、特願昭
５８−３７２０１号等）。
ところが、硫化銅を含有する導電性材料には、硫化銅の
種類および複合体の製造方法によってその程度に差はあ
るが、耐酸化性が悪いという欠点がある。たとえば、硫
化水素を用いて製造した導電性繊維材料は湿った空気中
、かつ空気の存在下で貯蔵または使用すると電気抵抗が
時間と共に増加し、ついには導電体として機能しなくな
ること、そして、硫化銅の原子比Ｃｕ／Ｓが１に近づく
ほど即ち、硫化棺２欽に近いほど空気中で酸化されやす
く抵抗の増加が大きいことが知られている（特開昭５７
−３５０７８号公報）０ こうしｔ（欠点を改良する技術として、硫化水素処理に
引き続く銅塩の水浴液処理の１示、同時にまたは引き続
いて還元剤を作用させ原子比Ｃｕ／Ｓを１．５〜２０間
に調整する方法がある（特開昭５７−３５０７８号公報
）。しかし、この方法でも耐酸化性の改良は十分とは言
えない。
種類および複合体の製造方法によってその程度に差はあ
るが、耐酸化性が悪いという欠点がある。たとえば、硫
化水素を用いて製造した導電性繊維材料は湿った空気中
、かつ空気の存在下で貯蔵または使用すると電気抵抗が
時間と共に増加し、ついには導電体として機能しなくな
ること、そして、硫化銅の原子比Ｃｕ／Ｓが１に近づく
ほど即ち、硫化棺２欽に近いほど空気中で酸化されやす
く抵抗の増加が大きいことが知られている（特開昭５７
−３５０７８号公報）０ こうしｔ（欠点を改良する技術として、硫化水素処理に
引き続く銅塩の水浴液処理の１示、同時にまたは引き続
いて還元剤を作用させ原子比Ｃｕ／Ｓを１．５〜２０間
に調整する方法がある（特開昭５７−３５０７８号公報
）。しかし、この方法でも耐酸化性の改良は十分とは言
えない。
本発明者等は、耐酸化性を抜本的に改良したいつそう堅
牢で安定な導電性材料を得るべく鋭意研究を重ねた結果
、本発明を完成するに至った。
牢で安定な導電性材料を得るべく鋭意研究を重ねた結果
、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は原子比が１＜Ｃβ／Ｓ〈２である硫化銅
を付着及び／または含有せしめて得られた導電性材料に
、３．５ ｅＶ以上の粒子の照射処理または電磁波処理
を施す導電性材料の製造方法である。
を付着及び／または含有せしめて得られた導電性材料に
、３．５ ｅＶ以上の粒子の照射処理または電磁波処理
を施す導電性材料の製造方法である。
本発明方法により耐酸化性は著しく向上する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で用いる導電性材料に付着及び／または含有せし
める硫化銅に関しては、その原子比が１ ＜Ｃｕ／ Ｓ
＜ ２ である限りその種類は問わない。
める硫化銅に関しては、その原子比が１ ＜Ｃｕ／ Ｓ
＜ ２ である限りその種類は問わない。
例としては、Ｃｕ９Ｓ ｓ、ＣｕＳ ＸＣｕｙＳ４＼Ｃ
ｕｔ、９ａＳ −。
ｕｔ、９ａＳ −。
Ｃｕｔ、ａｓｓ ％ Ｃｕｔ、９ｚＳ ％ Ｃ１１ｙ、
２Ｓ４−、 ＣｕｘＳ （１，８６（ｘ （１，９６）
およびこれらの混合物などが挙げられる。
２Ｓ４−、 ＣｕｘＳ （１，８６（ｘ （１，９６）
およびこれらの混合物などが挙げられる。
ただしＣｕ／ＳがＩＶＣ近いほど等電性およびフィルム
やシートに応用した場合の透明、導電性が良い。
やシートに応用した場合の透明、導電性が良い。
本発明で用いられる導電性材料の基体となる材料トシて
は、ポリマー、セラミックスなどが挙げられる。
は、ポリマー、セラミックスなどが挙げられる。
ポリマーの例としては、ポリオレフィン（ポリエチレン
、ポリプロピレン、ポリ−４−メｆルペンテン−１＃）
、ポリエステル（ｌｌ’ａ肋族ポリエステル、芳香族ポ
リエステル、不Ｍ和ポリエステル）、ポリスチレンおよ
びその誘４う、体（ポリスチレン、ポリ−α−メチルス
チレン、ポリ−ｐ−メチルスチレン）、ポリカーボネー
ト（脂肪族、芳香族）、ポリスルホン、ポリ（メタ）ア
クリル酸エステル類、ポリエーテル（脂肪族、芳香族）
、ノ・ロゲン含有ポリマー（ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオ
ロエチレン等）、ポリヒニルアルコー ル誘導体（ホリ
ヒニルプチラール、ポリビニルホルマール、ポリ酢酸ビ
ニル等）、セルロース０２ｄ体（セルロースアセテート
等）、ポリアミド（６，６ナイロン、６ナイロン、１２
ナイロン、ｎｌ−フェニレンイソフタルアミド、ｐ−フ
ェニレンテレフタルアミド９、（メタ）アクリルアミド
含有ポリマー、絹、羊毛等の蛋白質系繊維等）、カルボ
キシル基含治゛号ζリマー（（メタ）アクリル酸を（コ
）モノマーとするポリマー等）、アミン基を含むポリマ
ー（ボリベンズイミダーソ°−ル、ポリトリアジン′、
ポリエチレンイミンモー）、ウレタン基含有ポリマー（
ポリテトラメチレンへキサメチレンウレタン、ポリへキ
サメチレンテトラメチレンウレタン等）、尿素結合を含
むポリマー（ポリへキサメチレン原票、ポリへブタメチ
レン尿素等）、ジエン系ゴム（天然ゴム、ＳＢＲ封’Ｊ
、シリコン系ポリマーなどが挙げられる。
、ポリプロピレン、ポリ−４−メｆルペンテン−１＃）
、ポリエステル（ｌｌ’ａ肋族ポリエステル、芳香族ポ
リエステル、不Ｍ和ポリエステル）、ポリスチレンおよ
びその誘４う、体（ポリスチレン、ポリ−α−メチルス
チレン、ポリ−ｐ−メチルスチレン）、ポリカーボネー
ト（脂肪族、芳香族）、ポリスルホン、ポリ（メタ）ア
クリル酸エステル類、ポリエーテル（脂肪族、芳香族）
、ノ・ロゲン含有ポリマー（ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオ
ロエチレン等）、ポリヒニルアルコー ル誘導体（ホリ
ヒニルプチラール、ポリビニルホルマール、ポリ酢酸ビ
ニル等）、セルロース０２ｄ体（セルロースアセテート
等）、ポリアミド（６，６ナイロン、６ナイロン、１２
ナイロン、ｎｌ−フェニレンイソフタルアミド、ｐ−フ
ェニレンテレフタルアミド９、（メタ）アクリルアミド
含有ポリマー、絹、羊毛等の蛋白質系繊維等）、カルボ
キシル基含治゛号ζリマー（（メタ）アクリル酸を（コ
）モノマーとするポリマー等）、アミン基を含むポリマ
ー（ボリベンズイミダーソ°−ル、ポリトリアジン′、
ポリエチレンイミンモー）、ウレタン基含有ポリマー（
ポリテトラメチレンへキサメチレンウレタン、ポリへキ
サメチレンテトラメチレンウレタン等）、尿素結合を含
むポリマー（ポリへキサメチレン原票、ポリへブタメチ
レン尿素等）、ジエン系ゴム（天然ゴム、ＳＢＲ封’Ｊ
、シリコン系ポリマーなどが挙げられる。
セラミックスの例としては、シリカ、アルミナ、フェラ
イト、ムライト、ジルコン、フォルステライト、ステア
タイト、マイカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が
羊げられる。
イト、ムライト、ジルコン、フォルステライト、ステア
タイト、マイカ、タルク、クレー、炭酸カルシウム等が
羊げられる。
本発明で用いられる導電性材料の基体となる材料の形状
は、繊維状、フィルム状、シート状、球状、塗膜などで
ある。
は、繊維状、フィルム状、シート状、球状、塗膜などで
ある。
本発明で用いる導電性材料の導電性については基体とな
る材料、導電化方法、導電化条件等により変化し、−概
には首えないが、表面抵抗であれば１０６〜１０１１８
７口、好ましくは１０１〜１０４Ω／口、＃−ＥＪＩ
ｒＡ −ＡＦ （ｆｆ−枝−ｎ 七、Ｊ’ｌ ｌｄ’
１１’１ ８ ｗ １ ｎ９ｎ、 −１ガＸｋｌ−／は
１０−３〜１０２Ω・口 である。
る材料、導電化方法、導電化条件等により変化し、−概
には首えないが、表面抵抗であれば１０６〜１０１１８
７口、好ましくは１０１〜１０４Ω／口、＃−ＥＪＩ
ｒＡ −ＡＦ （ｆｆ−枝−ｎ 七、Ｊ’ｌ ｌｄ’
１１’１ ８ ｗ １ ｎ９ｎ、 −１ガＸｋｌ−／は
１０−３〜１０２Ω・口 である。
本発明で用いる導電性材料の製造法としては、■合成ポ
リマーの繊維旧料に似化水諮を加圧下に作用させるか、
あるいは反工１ム性イオウ原子を官有させ、次いで銅塩
の水沼液を作用させる方法（フランス国特許第２，１８
１．４８２号ψＪ ？Ｉｔｉｌｌ二山、同ム４２，２６
４゜８９２号明篩１書）、■アクリルｈ皮糸１１ｉ１ｃ
１価の銅イオンを吸着−ｔしめた仮、硫黄厘子塘たは硫
黄イオンの両方もしくは一力を放出しヂＩる化合物で処
理して実質的にダイジエナイ） （Ｃ１ｔｑＳｓ ）を
含めするアクリル繊維を得る方法（特公昭５７−５６５
８１号公報）、■アクリル繊維を２価の銅イオンと２価
の銅イオンを１価に還元し得る還元剤と硫黄原子−１：
たは硫黄イオンの両方もしくはいずれか一方を放出し得
る化合物とで処理して実質−的にＣｕｓ Ｓ ５を含有
するアクリル繊維を得る方法（特開昭５７−２１５７０
号公報）、■ニトリル基を含有する高分子栃料を餉塩と
還元性硫黄化合ｖ！Ｊを含む水浴液中で処理することに
より、実質的にＣｕ ｘ Ｓ （１，８６＼ｘ （１，
９６）を含有する材料を得る方法（特願昭５７−８８６
５０号、特願昭５７−９０８１７号、特願昭５７−１５
９４９９号等）、■銅塩と還元性硫黄化合物を用いてニ
ド、リル基以外の官能基（アミド基、水酸基、カルボキ
シル基、アミン基、ウレタン基またはウレア基のうち少
なくとも１つ）を含有する高分子材料に実質的に硫化第
２銅からなる導電層を形成する方法（特願昭５８−７５
８’１号、特かμｍ８５８−７７３３号、特願昭５８−
３７２０１号）などが提案されている。その他には、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
などの物ｊ呈的製欣法（ＰＶＤ法）、硫化銅粉末の練り
込み法なども挙げられる。ムお、実質的に硫化ｍ ２銅
から成る導電層を含む二） ＩＪル基含有ポリマーの方
が、実質的１ｃ ＣｕｘＳ （１，８６（ｘ（１，９６
）から成る導電層を含むニトリル基含有ポリマーより■
ｔ；シ化銅付シｈ亜量が同じ場合の導電性、■特に高分
子材料のニトリル基含冶せが小さい時の導電層形成の均
一性、■特に高分子材料のニトリル基含有量が小さい時
の導′亀層と高分子材料の密着強度、■硫酸、塩酸、硝
酸などの無機酸や酢酸、＊酸、コハク酸などの有機酸お
よび一部の有機溶剤に対する耐性、■透明フィルムに３
ｆＭ用した場合の透明導電性などの点において優れてい
る。
リマーの繊維旧料に似化水諮を加圧下に作用させるか、
あるいは反工１ム性イオウ原子を官有させ、次いで銅塩
の水沼液を作用させる方法（フランス国特許第２，１８
１．４８２号ψＪ ？Ｉｔｉｌｌ二山、同ム４２，２６
４゜８９２号明篩１書）、■アクリルｈ皮糸１１ｉ１ｃ
１価の銅イオンを吸着−ｔしめた仮、硫黄厘子塘たは硫
黄イオンの両方もしくは一力を放出しヂＩる化合物で処
理して実質的にダイジエナイ） （Ｃ１ｔｑＳｓ ）を
含めするアクリル繊維を得る方法（特公昭５７−５６５
８１号公報）、■アクリル繊維を２価の銅イオンと２価
の銅イオンを１価に還元し得る還元剤と硫黄原子−１：
たは硫黄イオンの両方もしくはいずれか一方を放出し得
る化合物とで処理して実質−的にＣｕｓ Ｓ ５を含有
するアクリル繊維を得る方法（特開昭５７−２１５７０
号公報）、■ニトリル基を含有する高分子栃料を餉塩と
還元性硫黄化合ｖ！Ｊを含む水浴液中で処理することに
より、実質的にＣｕ ｘ Ｓ （１，８６＼ｘ （１，
９６）を含有する材料を得る方法（特願昭５７−８８６
５０号、特願昭５７−９０８１７号、特願昭５７−１５
９４９９号等）、■銅塩と還元性硫黄化合物を用いてニ
ド、リル基以外の官能基（アミド基、水酸基、カルボキ
シル基、アミン基、ウレタン基またはウレア基のうち少
なくとも１つ）を含有する高分子材料に実質的に硫化第
２銅からなる導電層を形成する方法（特願昭５８−７５
８’１号、特かμｍ８５８−７７３３号、特願昭５８−
３７２０１号）などが提案されている。その他には、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法
などの物ｊ呈的製欣法（ＰＶＤ法）、硫化銅粉末の練り
込み法なども挙げられる。ムお、実質的に硫化ｍ ２銅
から成る導電層を含む二） ＩＪル基含有ポリマーの方
が、実質的１ｃ ＣｕｘＳ （１，８６（ｘ（１，９６
）から成る導電層を含むニトリル基含有ポリマーより■
ｔ；シ化銅付シｈ亜量が同じ場合の導電性、■特に高分
子材料のニトリル基含冶せが小さい時の導電層形成の均
一性、■特に高分子材料のニトリル基含有量が小さい時
の導′亀層と高分子材料の密着強度、■硫酸、塩酸、硝
酸などの無機酸や酢酸、＊酸、コハク酸などの有機酸お
よび一部の有機溶剤に対する耐性、■透明フィルムに３
ｆＭ用した場合の透明導電性などの点において優れてい
る。
本発明で用いられる粒子としては、邪り子線（中性の分
子縁、原子腺、中性子線と電荷を持つ電子紳、陽極線、
各種の放射線）やプラズマなどがある。これらの発生方
法については特に限定はなく、たとえば低温プラズマで
あれば、直？ｌＵグロー放電、ラジオ波放電など、熱プ
ラズマであれば、直流アーク形式、高周波アーク形式な
ど任意の形式が適用できる。使用ガスも希ガス、水素、
窒素、炭化水素などが適用可能である。本発明で用いら
れる電磁波には、紫外線、Ｘ線、γ綜が含まれる。紫外
線は殺田燈、Ｘ線はＸ線管、γ紳はコバルト６０、セシ
ウム１３７などを用いて発生できる。粒子のｊ、場合も
電磁波の場合も、そのエネルギーは３．５ ｅＶ以上必
要である。３．５ ｅＶ未満では、耐酸化性向上効果は
実質的にない。また、３．５ ｅＶ以上であってもエネ
ルギーが低い範囲では照射時間を長くしなくてはならな
い。好ましい範囲は１０２〜ｌＯ°ｅＶ。
子縁、原子腺、中性子線と電荷を持つ電子紳、陽極線、
各種の放射線）やプラズマなどがある。これらの発生方
法については特に限定はなく、たとえば低温プラズマで
あれば、直？ｌＵグロー放電、ラジオ波放電など、熱プ
ラズマであれば、直流アーク形式、高周波アーク形式な
ど任意の形式が適用できる。使用ガスも希ガス、水素、
窒素、炭化水素などが適用可能である。本発明で用いら
れる電磁波には、紫外線、Ｘ線、γ綜が含まれる。紫外
線は殺田燈、Ｘ線はＸ線管、γ紳はコバルト６０、セシ
ウム１３７などを用いて発生できる。粒子のｊ、場合も
電磁波の場合も、そのエネルギーは３．５ ｅＶ以上必
要である。３．５ ｅＶ未満では、耐酸化性向上効果は
実質的にない。また、３．５ ｅＶ以上であってもエネ
ルギーが低い範囲では照射時間を長くしなくてはならな
い。好ましい範囲は１０２〜ｌＯ°ｅＶ。
さらに好ましくはｉｏ３〜１０５ｅＶである。
各社照射による面ｊ酸化性改良処理における必要ｊ１（
１射量は照射物質の種類、被照射物の種類、装置的な条
件、温度などの雰囲気条件等に依存し、−概に規定でき
ず、目的に応じて個別に決定する必要がある。例えば電
子線照射においては１〜２０Ｍｒａｄの照射量、さらに
好ましくは５〜１０Ｍｒａｄの照射量で実用上充分な耐
酸化性を付与することができる。また実質的に硫化第２
銅から成る導電層を有するポリアクリロニトリルフィル
ムにケイ光ｘｉ装置（理学電機社製、Ｇｅｉｇｅｒ ｆ
ｌｅｘ、 Ｘ 縮管はロジウム管球、酉品名； ０ＥＧ
−７５Ｈ，マークレット社・製、５０ＫＶ、 ４０ｍＡ
）で連続Ｘ線を照射した場合、１時間照射すればＲ２０
００／ＲＯ（Ｒｏは照射前の表面抵抗、Ｒ２０００は６
０℃、７０係相対湿度で２０００時間放置した後の表面
抵抗）が１．０である耐酸化性が十分な導電性フィルム
が得られる。照射時間が数分間であればＲ２０００／Ｒ
ｏが２未満程度の導電性フィルムとなる。
１射量は照射物質の種類、被照射物の種類、装置的な条
件、温度などの雰囲気条件等に依存し、−概に規定でき
ず、目的に応じて個別に決定する必要がある。例えば電
子線照射においては１〜２０Ｍｒａｄの照射量、さらに
好ましくは５〜１０Ｍｒａｄの照射量で実用上充分な耐
酸化性を付与することができる。また実質的に硫化第２
銅から成る導電層を有するポリアクリロニトリルフィル
ムにケイ光ｘｉ装置（理学電機社製、Ｇｅｉｇｅｒ ｆ
ｌｅｘ、 Ｘ 縮管はロジウム管球、酉品名； ０ＥＧ
−７５Ｈ，マークレット社・製、５０ＫＶ、 ４０ｍＡ
）で連続Ｘ線を照射した場合、１時間照射すればＲ２０
００／ＲＯ（Ｒｏは照射前の表面抵抗、Ｒ２０００は６
０℃、７０係相対湿度で２０００時間放置した後の表面
抵抗）が１．０である耐酸化性が十分な導電性フィルム
が得られる。照射時間が数分間であればＲ２０００／Ｒ
ｏが２未満程度の導電性フィルムとなる。
照射によっては、導電性材料の色、導電性能等はほとん
ど変化しない。また、照射前後のＸ線回折にも変化が認
められない。このため、照射によって硫化銅の表面にわ
ずかに耐酸化性皮膜が形成されたものと推定される。
ど変化しない。また、照射前後のＸ線回折にも変化が認
められない。このため、照射によって硫化銅の表面にわ
ずかに耐酸化性皮膜が形成されたものと推定される。
この色やＸ線回折がほとんど変化しないという点は、特
開昭５７−３５０７８号公報（色もＣｕ／Ｓも変化する
。）の改良法と大きく異なる点である。また、特開昭５
７−３５０７８号公￥ＩＪの改良法よシ耐酸化性向上効
果が大きいことも本発明の改良方法の特徴である。即ち
、原子化Ｃｕ／Ｓがたとえ′−Ａ質的に１であっても、
処理前後の色やＸｌｊ回折測定結果を変えることなく耐
酸化性の研めて優れた導電性材料を得ることができる。
開昭５７−３５０７８号公報（色もＣｕ／Ｓも変化する
。）の改良法と大きく異なる点である。また、特開昭５
７−３５０７８号公￥ＩＪの改良法よシ耐酸化性向上効
果が大きいことも本発明の改良方法の特徴である。即ち
、原子化Ｃｕ／Ｓがたとえ′−Ａ質的に１であっても、
処理前後の色やＸｌｊ回折測定結果を変えることなく耐
酸化性の研めて優れた導電性材料を得ることができる。
このため！Ａ理前の硫化銅層が実質的に硫化第２銅から
成る場合には高専、電性などの硫化８Ｉ￥２銅の長所を
損わずに耐酸化性を大きく向上させることが可能である
。さらに、簡便で廃液処理などの不要なこともこの方法
の長所と思われる。
成る場合には高専、電性などの硫化８Ｉ￥２銅の長所を
損わずに耐酸化性を大きく向上させることが可能である
。さらに、簡便で廃液処理などの不要なこともこの方法
の長所と思われる。
以下、実施例により本発明をさらに説明する。
なお、耐酸化性の評価は６０℃、７０％相対湿度に保持
した恒温恒湿槽内に一定時間保存した前後での電気抵抗
を測定し、その比をとることにより行なった。
した恒温恒湿槽内に一定時間保存した前後での電気抵抗
を測定し、その比をとることにより行なった。
実施例１
アクリロニトリル８０ 宛ｍ ％ 、アクリル酸メチル
２０重量％を含む共重合体の７０重量％の硝酸溶液（２
２重量％）を湿式製膜した後、二軸延伸機で縦横それぞ
れ２．５倍に二軸妊押して厚さ２５μの透明延伸フィル
ムを得た。
２０重量％を含む共重合体の７０重量％の硝酸溶液（２
２重量％）を湿式製膜した後、二軸延伸機で縦横それぞ
れ２．５倍に二軸妊押して厚さ２５μの透明延伸フィル
ムを得た。
このフィルムを硫酸銅（０，０５ｍｏｌ／Ｌ ） とチ
オ硫酸ナトリウム（０，４５ｍａｔ／、１． ）を含む
水溶液中に浸漬し室温より９４℃まで徐々に昇温し、９
４℃で５分間処理した。得られたフィルムは緑色でＸ線
回折の結果、実質的に硫化第２銅であることがわかった
。表面抵抗は１３０Ω／口であった。
オ硫酸ナトリウム（０，４５ｍａｔ／、１． ）を含む
水溶液中に浸漬し室温より９４℃まで徐々に昇温し、９
４℃で５分間処理した。得られたフィルムは緑色でＸ線
回折の結果、実質的に硫化第２銅であることがわかった
。表面抵抗は１３０Ω／口であった。
このフィルムにケイ光Ｘ線装置（理学電機社製、Ｇｅｉ
ｇｅｒ ｆｌｅｘ、 Ｘ線管はロジウム管球、商品名；
０ＥＧ−７ｓＨ，マークレット社！ＩＩ！りで連続Ｘ線
を照射する。照射条件は５ｏＫＶ、４０ｍＡで２００秒
、１２００秒であった。照射後もフィルムは緑色であり
、Ｘ線回折結果もほとんど変わらなかった。
ｇｅｒ ｆｌｅｘ、 Ｘ線管はロジウム管球、商品名；
０ＥＧ−７ｓＨ，マークレット社！ＩＩ！りで連続Ｘ線
を照射する。照射条件は５ｏＫＶ、４０ｍＡで２００秒
、１２００秒であった。照射後もフィルムは緑色であり
、Ｘ線回折結果もほとんど変わらなかった。
照射前後の耐酸化性測定Ａ、１＋ｊ果を表ＩＫ示す。こ
の結果Ｘ線照射の耐酸化性改良効果が明らかとなった。
の結果Ｘ線照射の耐酸化性改良効果が明らかとなった。
表 １
実施例２
９４℃で１０分間処理すること以外は２、すべて実施例
１と同様に行った。得られたフィルムは濃緑色であった
。このフィルムの表面抵抗は３７Ω／口であった。
１と同様に行った。得られたフィルムは濃緑色であった
。このフィルムの表面抵抗は３７Ω／口であった。
このフィルムに実施例１と同様にして連続Ｘ線を照射し
た。照射時間は４００秒間であった。、照射前後のフィ
ルムの耐酸化性測定結果を表２に示す。この結果よりＸ
線照射による耐酸化性改良効果が明らかになった。
た。照射時間は４００秒間であった。、照射前後のフィ
ルムの耐酸化性測定結果を表２に示す。この結果よりＸ
線照射による耐酸化性改良効果が明らかになった。
表 ２
実施例３
９４℃での反応時間を３０分間とする以外はすべて実施
例１と同様に行った。得られたフィルムは、濃緑色であ
った。このフィルムの表面抵抗は５Ω／口 であった。
例１と同様に行った。得られたフィルムは、濃緑色であ
った。このフィルムの表面抵抗は５Ω／口 であった。
このフィルムに実施例１と同様にＸ線を照射した。照射
前後の耐酸化性測定結果をｆＬ３に示した。
前後の耐酸化性測定結果をｆＬ３に示した。
この結果よりＸ線照射による耐酸化性改良効果が明らか
となった。
となった。
表 ３
実施例４
実施例１で用いたと同じフィルムを、硫酸銅０．０４
ｍｏｔ／ｌ、チオ砒酸ナトリウム０．０４ ｍｏｌ／Ｌ
とし、９４℃で２５分間処理した。得られたフィルムは
黄金色でＸ線回折の結果、実質的にＣｕｘＳ （１，８
６（ｘ （１，９６）であることがわかった。表面抵抗
は７４Ω／口であった。
ｍｏｔ／ｌ、チオ砒酸ナトリウム０．０４ ｍｏｌ／Ｌ
とし、９４℃で２５分間処理した。得られたフィルムは
黄金色でＸ線回折の結果、実質的にＣｕｘＳ （１，８
６（ｘ （１，９６）であることがわかった。表面抵抗
は７４Ω／口であった。
乙のフィルムに実施例１と同様ＫＸ線を照射した。照射
時間は２００秒、４８００秒であった。照射前後のフィ
ルムの色の変化、Ｘ線回折による照射前後の変化はほと
んどなかった。
時間は２００秒、４８００秒であった。照射前後のフィ
ルムの色の変化、Ｘ線回折による照射前後の変化はほと
んどなかった。
また、照射前後の耐酸化性測定結果を表４に示した。こ
の結果Ｘ線照射の耐酸化性改良、効果が明らかとなった
。
の結果Ｘ線照射の耐酸化性改良、効果が明らかとなった
。
表 ４
実施例５
アクリル繊維（ｒ、ｓデニール、アクリロニトリル９３
．４ ｗｔ％、アクリル酸メチルａｗｔＬスチレンスル
ホン酸ソーダ０．６ｗｔ％）を硫酸銅（０，０４ｍａｔ
／Ｌ ）とＮａｚＳ２０ｓ （０，３５ｍｏ４／ｌ）を
含む水溶液中に浸漬し、室温より９４℃まで徐々に昇温
し９４℃において３０分間処理した。この繊維を水洗後
１００℃で１時間乾燥した。得られた繊維は緑色でＩＧ
離れた２点間で１．９ Ｘ １０ｓΩの抵抗を示した。
．４ ｗｔ％、アクリル酸メチルａｗｔＬスチレンスル
ホン酸ソーダ０．６ｗｔ％）を硫酸銅（０，０４ｍａｔ
／Ｌ ）とＮａｚＳ２０ｓ （０，３５ｍｏ４／ｌ）を
含む水溶液中に浸漬し、室温より９４℃まで徐々に昇温
し９４℃において３０分間処理した。この繊維を水洗後
１００℃で１時間乾燥した。得られた繊維は緑色でＩＧ
離れた２点間で１．９ Ｘ １０ｓΩの抵抗を示した。
なおＸ線回折により導電層が実質的に硫化第２銅である
ことを確認した。
ことを確認した。
このフィルムに実施例１と同様にしてＸ線を８００秒照
射した。照射前後のフィルムの耐酸化性測定結果を表５
に示す。この結果Ｘ線照射の耐酸化性改良効果が明らか
となった。
射した。照射前後のフィルムの耐酸化性測定結果を表５
に示す。この結果Ｘ線照射の耐酸化性改良効果が明らか
となった。
表 ５
実施例６
用いるフィルムをナイロン６６フィルム（Ｉ摸厚２゜μ
）とした以外は、実施例３と同様にして処理した０ このフィルムに実施例１と同様にしてＸ線を照射した。
）とした以外は、実施例３と同様にして処理した０ このフィルムに実施例１と同様にしてＸ線を照射した。
照射前後のフィルムの１ｌＵＪ酸化性測定結果を表６に
示した。この結果、Ｘ線照射の１１１．ｊ酸化性改良効
果が明らかとなった。
示した。この結果、Ｘ線照射の１１１．ｊ酸化性改良効
果が明らかとなった。
表 ６
実施例７
実施例２と同様の硫化銅処理をして得られた導電性フィ
ルムに紫外線照射を行なった。殺菌ランプ（商品名：Ｇ
Ｌ１５、東京芝浦電気［株］社製）を用いてランプから
４ｗ離れた距離において３０時間照射した。
ルムに紫外線照射を行なった。殺菌ランプ（商品名：Ｇ
Ｌ１５、東京芝浦電気［株］社製）を用いてランプから
４ｗ離れた距離において３０時間照射した。
照射前後のフィルムの１副酸化性測定結果を表７に示し
た。この結果より紫外線の耐酸化性改良効果が明らかと
なった。
た。この結果より紫外線の耐酸化性改良効果が明らかと
なった。
表 ７
実施例８
実施例２と同様の硫化銅処理をして得られた導電性フィ
ルムに、 Ｘ線照射を行なった。Ｉ Ｘ １０−”＋ｕ
Ｈｙに脱気した直径３ｃｍ１肉厚２．５鰭のガラス製ア
ンプル管中にフィルムを入れ、線源から７．５ｃｒｎ離
してコバルト６０γ線を１．３ＭｅＶ照射した。照射前
後の耐酸化性測定結果を表８に示した。この結果よりγ
線の耐酸化性改良効果が明らかとなつ実施例９ 実施例２と同様の硫化焙処理をして得られた導電性フィ
ルムに電子線照射を行なった。電子線照射装置（商品名
： ＥＰＳ−５００、日新ハイボルテージ■社製）を用
いて５００ ＫＶ （０，５ＭｅＶ ）、２５ｍＡで１
０．２０Ｍγａｄ照射した。照射前後の耐酸化性測定結
果を表９に示した。この紅、朱より電子線の耐酸化性改
良効果が明らかとなった。
ルムに、 Ｘ線照射を行なった。Ｉ Ｘ １０−”＋ｕ
Ｈｙに脱気した直径３ｃｍ１肉厚２．５鰭のガラス製ア
ンプル管中にフィルムを入れ、線源から７．５ｃｒｎ離
してコバルト６０γ線を１．３ＭｅＶ照射した。照射前
後の耐酸化性測定結果を表８に示した。この結果よりγ
線の耐酸化性改良効果が明らかとなつ実施例９ 実施例２と同様の硫化焙処理をして得られた導電性フィ
ルムに電子線照射を行なった。電子線照射装置（商品名
： ＥＰＳ−５００、日新ハイボルテージ■社製）を用
いて５００ ＫＶ （０，５ＭｅＶ ）、２５ｍＡで１
０．２０Ｍγａｄ照射した。照射前後の耐酸化性測定結
果を表９に示した。この紅、朱より電子線の耐酸化性改
良効果が明らかとなった。
表 ９
特許出願人 旭化成工菜株式会社
Claims (1)
- 原子比が１ ＜Ｃｕ／ Ｓ （２である硫化銅を付着及
び／または含有せしめて得られた導電性材料に、３．５
ｅＶ以上の粒子の照射処理または電磁波照射処理を施す
ことを特徴とする導電性材料の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP88684A JPS60146404A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 導電性材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP88684A JPS60146404A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 導電性材料の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60146404A true JPS60146404A (ja) | 1985-08-02 |
Family
ID=11486153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP88684A Pending JPS60146404A (ja) | 1984-01-09 | 1984-01-09 | 導電性材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60146404A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62143306A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-26 | 山本 隆一 | 電気伝導体の製造方法 |
-
1984
- 1984-01-09 JP JP88684A patent/JPS60146404A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62143306A (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-26 | 山本 隆一 | 電気伝導体の製造方法 |
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