JPS60151638A - 乾式二成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents
乾式二成分型ジアゾ複写材料Info
- Publication number
- JPS60151638A JPS60151638A JP632884A JP632884A JPS60151638A JP S60151638 A JPS60151638 A JP S60151638A JP 632884 A JP632884 A JP 632884A JP 632884 A JP632884 A JP 632884A JP S60151638 A JPS60151638 A JP S60151638A
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- JP
- Japan
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- diazo
- copying material
- acid
- diazo copying
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/60—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances with macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明はジアゾ複写材料、特に乾式二成分型のジアゾ複
写材料に関する。
写材料に関する。
従来技術
感光紙を乾式現像する際、現像−ボックス中で感光紙が
ピアノ線あるいは金属板と接触し、感光層またはプレコ
ート層は剥餠、さらにはそれに引続いてピアノ線等への
塗布物の付着が生じ、複写物面に、傷又は付着物の転写
によって起る汚れ、所謂現像汚れが生じる。
ピアノ線あるいは金属板と接触し、感光層またはプレコ
ート層は剥餠、さらにはそれに引続いてピアノ線等への
塗布物の付着が生じ、複写物面に、傷又は付着物の転写
によって起る汚れ、所謂現像汚れが生じる。
特にジアゾ複写材１′１１にプレコート層を設けること
は画像８度向上のために効果があることがすでに明らか
にされているが、かかる目的で例えば分子団３０００以
上のポリエチレングリコールをプレコート層に用いると
現像汚れが生じる。
は画像８度向上のために効果があることがすでに明らか
にされているが、かかる目的で例えば分子団３０００以
上のポリエチレングリコールをプレコート層に用いると
現像汚れが生じる。
目 的
本発明は、特定のプレツー１〜層を用いることによって
画像潤度を高めるとどもに、現像汚れを解消することを
目的とするものである。
画像潤度を高めるとどもに、現像汚れを解消することを
目的とするものである。
構 成
本発明は支持体上に、ジアゾ化合物およびカップリング
成分を主成分とする感光層を設けてなるジアゾ複写材料
において、ポリ塩化ビニリデンおよびこれを基本骨格と
する共重合体の中から選ばれた少なくとも一種を含有す
るプレコート層を設（′ＯＪでなることを特徴とする乾
式二成分型ジアゾ複写材料を要旨とする。
成分を主成分とする感光層を設けてなるジアゾ複写材料
において、ポリ塩化ビニリデンおよびこれを基本骨格と
する共重合体の中から選ばれた少なくとも一種を含有す
るプレコート層を設（′ＯＪでなることを特徴とする乾
式二成分型ジアゾ複写材料を要旨とする。
上記本発明で用いられるポリ塩化ビニリデンおよびこれ
を基本骨格とする共重合体としては次のような物質が挙
げられる。
を基本骨格とする共重合体としては次のような物質が挙
げられる。
塩化ビニリデン−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビ
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリル酸エ
ステル−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−アクリ
ル酸ニスデル−メタクリル酸共重合体。
ニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン−アクリル酸エ
ステル−アクリル酸共重合体、塩化ビニリデン−アクリ
ル酸ニスデル−メタクリル酸共重合体。
かかる物質を含有するプレコート層中には、必要に応じ
てフィラーを添加することができる。使用できるフィラ
ーは通常用いられているもので、例えばシリカ微粒子、
スターチ、クレー、アルミナ、炭酸カルシウム、尿素ホ
ルマリン樹脂微粒子、スチレン樹脂微粒子等の有機、無
機フィラーが挙げられる。
てフィラーを添加することができる。使用できるフィラ
ーは通常用いられているもので、例えばシリカ微粒子、
スターチ、クレー、アルミナ、炭酸カルシウム、尿素ホ
ルマリン樹脂微粒子、スチレン樹脂微粒子等の有機、無
機フィラーが挙げられる。
本発明で用いられるジアゾ化合物及びカップラーとして
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
ているものがそのまま適応できる。
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
ているものがそのまま適応できる。
従って、ジアゾ化合物としては例えば、４−ジアゾ−１
−ジメチルアミンベンゼン、４−ジアゾ−１−ジメチル
アミンベンゼン、４ジアゾ−１−ジプロピルアミノベン
ゼン、４−ジアゾ−１−メチルベンジルアミノベンゼン
、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−ジ
アゾ−１−エチルヒドロキシエチルア、ミノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミノ−３−メトキシベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−２−メチルベン
ゼン、４−ジアゾ−１−ベンゾイルアミノ−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−モルホリノー２，５−ジェトキシ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジブ
トキシベンゼン、４−ジアゾ−１−アニリノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−３−カルボキシベン
ゼン、４−ジアゾ−１−トルイルメルカプｌ＝２．５−
ジェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１，４−メＩ〜キジ
ベンゾイルアミノ−２，５−ジェトキシベンゼンなどの
ジアゾ化合物と塩化物の金属ハライド（塩化亜鉛、１Ｂ
化カドミウム、ｊｎ化鈴なと）との複塩及び、前記ジア
ゾ化合物の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸など
の強酸のｊＭなどがあげられるが、勿論これらに限定さ
れるものではない。
−ジメチルアミンベンゼン、４−ジアゾ−１−ジメチル
アミンベンゼン、４ジアゾ−１−ジプロピルアミノベン
ゼン、４−ジアゾ−１−メチルベンジルアミノベンゼン
、４−ジアゾ−１−ジベンジルアミノベンゼン、４−ジ
アゾ−１−エチルヒドロキシエチルア、ミノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジエチルアミノ−３−メトキシベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−２−メチルベン
ゼン、４−ジアゾ−１−ベンゾイルアミノ−２，５−ジ
ェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノベンゼ
ン、４−ジアゾ−１−モルホリノー２，５−ジェトキシ
ベンゼン、４−ジアゾ−１−モルホリノ−２，５−ジブ
トキシベンゼン、４−ジアゾ−１−アニリノベンゼン、
４−ジアゾ−１−ジメチルアミン−３−カルボキシベン
ゼン、４−ジアゾ−１−トルイルメルカプｌ＝２．５−
ジェトキシベンゼン、４−ジアゾ−１，４−メＩ〜キジ
ベンゾイルアミノ−２，５−ジェトキシベンゼンなどの
ジアゾ化合物と塩化物の金属ハライド（塩化亜鉛、１Ｂ
化カドミウム、ｊｎ化鈴なと）との複塩及び、前記ジア
ゾ化合物の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸など
の強酸のｊＭなどがあげられるが、勿論これらに限定さ
れるものではない。
カップラーと（）で（，１，例えば、レゾルシン、フロ
ログルシン、２，５−ジメチル−４−モ、ルポジノメチ
ルフェノール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
ｐ−スルホアセトアニリド、１−ベンゾイルアミノ−８
−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、
２．２−ジヒドロキシナフタレン、２．７−シヒドロキ
シナフタレンー ３，６−ジスルホン酸ソーダ、２，３
−ジヒドロキシ−６−スルホン酸−ダ、２，５−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒドロ
キシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミノ−
３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド
、ナフトール△Ｓ１す７トール△Ｓ−Ｄ。
ログルシン、２，５−ジメチル−４−モ、ルポジノメチ
ルフェノール、３−ヒドロキシシアノアセトアニリド、
ｐ−スルホアセトアニリド、１−ベンゾイルアミノ−８
−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド、
２．２−ジヒドロキシナフタレン、２．７−シヒドロキ
シナフタレンー ３，６−ジスルホン酸ソーダ、２，３
−ジヒドロキシ−６−スルホン酸−ダ、２，５−ジヒド
ロキシナフタレン−６−スルホン酸ソーダ、１−ヒドロ
キシナフタレン−４−スルホン酸ソーダ、１−アミノ−
３−ヒドロキシナフタレン−３，６−ジスルホンアミド
、ナフトール△Ｓ１す７トール△Ｓ−Ｄ。
２−ヒドロキシナフタレン−３−ビグアナイド、２−ヒ
ドロキシデフ１−ポジモルホリノブロビルアミド、２−
ヒドロキシナフトエ酸エタノールアミド、２−ヒドロキ
シナフトエ酸−Ｎ−ジメチルアミノプロピルアミド塩酸
塩、２．２−．４．４′−テトラヒドロキシシフ丁ニル
、２．２” 、４．４’−−テトラヒドロキシジフェニ
ルスルホキシドなどがあげられるが、勿論これらに限定
されるものでない。
ドロキシデフ１−ポジモルホリノブロビルアミド、２−
ヒドロキシナフトエ酸エタノールアミド、２−ヒドロキ
シナフトエ酸−Ｎ−ジメチルアミノプロピルアミド塩酸
塩、２．２−．４．４′−テトラヒドロキシシフ丁ニル
、２．２” 、４．４’−−テトラヒドロキシジフェニ
ルスルホキシドなどがあげられるが、勿論これらに限定
されるものでない。
本発明では、以上の素材の仙に、通常ジアゾ複写材オ′
；１に用いられている各種の添加剤を用いることができ
る。例えば保存性向上剤としてナフタレン−モノスルホ
ン酸す１−リウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナトリウ
ム、ナフタレン−トリスルホン酸ナトリウム、スルホサ
リチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、Ｊｉ化
カドミウム、塩化亜鉛など；現急促進剤としてエチレン
グリコール、トリエチレンゲリコールなど；酸化防１Ｖ
剤としてチオ尿素、尿素など；溶解剤としてカフェイン
、テオフィリンなど：酸安定剤としてクエン酸、酒石酸
、硫酸、蓚酸、硼酸、ｖＡ酸、ピロ燐酸などが適宜配合
されてよく、その４１μにもサポニンを少量添加するこ
とができる。また画像濃度向上剤として、感光層にもシ
リカ、スターチ、クレー、樹脂等の無機有機微粒子が適
当量添加されていても良い。
；１に用いられている各種の添加剤を用いることができ
る。例えば保存性向上剤としてナフタレン−モノスルホ
ン酸す１−リウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナトリウ
ム、ナフタレン−トリスルホン酸ナトリウム、スルホサ
リチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、Ｊｉ化
カドミウム、塩化亜鉛など；現急促進剤としてエチレン
グリコール、トリエチレンゲリコールなど；酸化防１Ｖ
剤としてチオ尿素、尿素など；溶解剤としてカフェイン
、テオフィリンなど：酸安定剤としてクエン酸、酒石酸
、硫酸、蓚酸、硼酸、ｖＡ酸、ピロ燐酸などが適宜配合
されてよく、その４１μにもサポニンを少量添加するこ
とができる。また画像濃度向上剤として、感光層にもシ
リカ、スターチ、クレー、樹脂等の無機有機微粒子が適
当量添加されていても良い。
本発明のジアゾ複写材料を作成づ−るには、紙、フィル
ム等の支持体上にまづ、１に前述のバインダー及び他の
添加剤より成る塗布液を通常の塗布法ににり塗布乾燥し
て０，１ｑ／ｍ２〜５ｇ／ｍ ２のプレコート層を設け
、さらにその上にジアゾ化合物、カップリング成分、そ
の他の助剤より成る塗布液を塗布乾燥して感光層を段Ｉ
プればよい。
ム等の支持体上にまづ、１に前述のバインダー及び他の
添加剤より成る塗布液を通常の塗布法ににり塗布乾燥し
て０，１ｑ／ｍ２〜５ｇ／ｍ ２のプレコート層を設け
、さらにその上にジアゾ化合物、カップリング成分、そ
の他の助剤より成る塗布液を塗布乾燥して感光層を段Ｉ
プればよい。
以下に実施例を示す。
実施例１
ポリ塩化ビニリデン（５０％水エマルジヨン）０１１１
シリカ微粒子 １０（Ｉ＋
水 １００ｇ
より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して、Ｉｇ／ｍ ２のプレコート層を設（〕た。さらに
その上に ４〜ジアゾ−１−ジメチルアミノ ベンゼン・１／２ Ｚｎ Ｃ１２０，５！］２．３−ジ
ヒド［１キシナフタレン −６−スルホン酸ソーダ ２ｑ り丁ン酸 ２１１Ｉ 」ｎ化亜鉛 ５ｇ チオ尿素 ５ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液を塗布乾燥して１．０ｇ／ｍ ２の感光
層を形成しジアゾ複写材料（サンプルＡ）を得た。
して、Ｉｇ／ｍ ２のプレコート層を設（〕た。さらに
その上に ４〜ジアゾ−１−ジメチルアミノ ベンゼン・１／２ Ｚｎ Ｃ１２０，５！］２．３−ジ
ヒド［１キシナフタレン −６−スルホン酸ソーダ ２ｑ り丁ン酸 ２１１Ｉ 」ｎ化亜鉛 ５ｇ チオ尿素 ５ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液を塗布乾燥して１．０ｇ／ｍ ２の感光
層を形成しジアゾ複写材料（サンプルＡ）を得た。
一方比較の為に、プレコートを取り去り、代りにサンプ
ルＡ処方の感光液の中にサンプルＡのプレコート層のシ
リカ間と同等のシリカ微粒子を加えた伯は、同様にして
ジアゾ複写材料を得たくサンプルＢ）。
ルＡ処方の感光液の中にサンプルＡのプレコート層のシ
リカ間と同等のシリカ微粒子を加えた伯は、同様にして
ジアゾ複写材料を得たくサンプルＢ）。
又さらにサンプルＡのプレツー１〜液中にボリスヂレン
の代わりに同量のミルクカビインを加えた他は同様にし
てジアゾ複写材料を得たくサンプルＣ）。
の代わりに同量のミルクカビインを加えた他は同様にし
てジアゾ複写材料を得たくサンプルＣ）。
以−１二のようにして得られた各サンプルを乾式ジアゾ
複写１幾（リコー￥ＪＳＭ −１５００）を用いて １
５ｍ／ｎ＋ｉｎの速１αで１０００枚現像を行なった後
、１０００枚目の各サンプルのキスの有無、及び現像ボ
ックスの汚れの有無を確認した。
複写１幾（リコー￥ＪＳＭ −１５００）を用いて １
５ｍ／ｎ＋ｉｎの速１αで１０００枚現像を行なった後
、１０００枚目の各サンプルのキスの有無、及び現像ボ
ックスの汚れの有無を確認した。
又、発色温度をフＡトボル１−淵度剖にて測定衣のよう
に、本発明は比較例に比べて、現像汚れが著しく少ない
ことがわかる。
に、本発明は比較例に比べて、現像汚れが著しく少ない
ことがわかる。
実施例２
塩化ビニリデン−アクリル酸エステル
共重合体（４５％水エマルジヨン） ３０Ｑシリ力微粒
子 ｉｏｇ 水 ｉ ｏｏｇ より成る塗布液をジアゾ袈勺紙用原紙の表面に（ζ布乾
燥して２＋］／１１１２のプレコート層を設＆−Ｊた。
子 ｉｏｇ 水 ｉ ｏｏｇ より成る塗布液をジアゾ袈勺紙用原紙の表面に（ζ布乾
燥して２＋］／１１１２のプレコート層を設＆−Ｊた。
ざらにその上に
２．５−ジェトキシ−４−モルホリノ
ベンげンジアゾニウムクロライド
・ １／２７ｎ Ｃ１２２！］
２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸
モルポジー、／プロピルアミド ２．５Ｑ塩化亜鉛 １
．５ｇ ブ′、Ａ尿素 １．５０ 酒石酸 ２ｇ エチレングリコール ２ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写用原紙の表面に塗布乾燥し
て感光層を設けた。得られたジアゾ複写材料を実施例１
と同様にして現像を行なったところ、鮮明な高濃度青色
画像を得た。
．５ｇ ブ′、Ａ尿素 １．５０ 酒石酸 ２ｇ エチレングリコール ２ｇ 水 １００ｇ より成る塗布液をジアゾ複写用原紙の表面に塗布乾燥し
て感光層を設けた。得られたジアゾ複写材料を実施例１
と同様にして現像を行なったところ、鮮明な高濃度青色
画像を得た。
又、現像キズや現像ボックス内の汚れは認められなかっ
た。
た。
一方比較の為に、プレコート層中の塩化ビニリデン−ア
クリル酸工支チル共重合体の代りに同量のポリ耐酸ビニ
ルを用いてジアゾ複写材料を作成し現像を行なったとこ
ろ、キズ及び現像ボックス内の汚れが認められた。
クリル酸工支チル共重合体の代りに同量のポリ耐酸ビニ
ルを用いてジアゾ複写材料を作成し現像を行なったとこ
ろ、キズ及び現像ボックス内の汚れが認められた。
実施例３
塩化ビニリデン−アクリル酸ニスデル
−アクリル酸共重合体
（５０％水エマルジヨン）２５ｇ
尿素−ホルマリン樹脂微粒子 １０ｇ
水 １００ｇ
より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して１．５（１／ｍ ２のプレコート層を設けた。さら
にその上に実施例１の感光層を設【ブてジアゾ複写材１
′！１を得た。得られたザンブルを実施例１と同様に現
像したところ高濃度青色画像が得られ、又、キズや現像
ボックス内の汚れは認められなかった。
して１．５（１／ｍ ２のプレコート層を設けた。さら
にその上に実施例１の感光層を設【ブてジアゾ複写材１
′！１を得た。得られたザンブルを実施例１と同様に現
像したところ高濃度青色画像が得られ、又、キズや現像
ボックス内の汚れは認められなかった。
効 果
本発明品は、上記実施例から明らかなように、画像濃度
が高く用像汚れの少ないものである。
が高く用像汚れの少ないものである。
特許出願人 株式会社リ コ −
代理人 弁理士 小 松 秀 岳
代理人 弁理士 旭 宏
Claims (1)
- 支持体上に、ジアゾ化合物およびカップリング成分を主
成分とする感光層を設置づてなるジアゾ複写材料におい
て、ポリ塩化ごニリデンおよびこれを基本骨格とする共
重合体の中から選ばれた少なくとも一種を含有覆るプレ
コート層を設（プてなることを特徴とする乾式二成分型
ジアゾ複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP632884A JPS60151638A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP632884A JPS60151638A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151638A true JPS60151638A (ja) | 1985-08-09 |
Family
ID=11635295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP632884A Pending JPS60151638A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60151638A (ja) |
-
1984
- 1984-01-19 JP JP632884A patent/JPS60151638A/ja active Pending
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