JPS6059346A - 乾式二成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents
乾式二成分型ジアゾ複写材料Info
- Publication number
- JPS6059346A JPS6059346A JP16656983A JP16656983A JPS6059346A JP S6059346 A JPS6059346 A JP S6059346A JP 16656983 A JP16656983 A JP 16656983A JP 16656983 A JP16656983 A JP 16656983A JP S6059346 A JPS6059346 A JP S6059346A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diazo
- dry
- copying material
- acid
- diazo copying
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は乾式二成分型ジアゾ複写材料に関し、詳しくは
乾式現像を行う際の現像汚れの解消に関するものである
。
乾式現像を行う際の現像汚れの解消に関するものである
。
従来技術
ジアゾ化合物及びカップリング成分を主成分とする感光
層を支持体上に設けた二成分型のジアゾ複写材料が広く
用いられている。そして支持体と感光層との間にプレコ
ート層を設けて画像濃度の向上を図ったもめが知られて
いる。プレコート層としては、酢酸ビニル樹脂やシリカ
等を主成分としたものが知られている。
層を支持体上に設けた二成分型のジアゾ複写材料が広く
用いられている。そして支持体と感光層との間にプレコ
ート層を設けて画像濃度の向上を図ったもめが知られて
いる。プレコート層としては、酢酸ビニル樹脂やシリカ
等を主成分としたものが知られている。
しかしながら、こうした複写材料を、アンモニアガスを
使用した乾式現像法によって現像すると、複写物に現像
汚れが生じやすかった。ここで現像汚れとは、現像時に
現像ボックス中で複写材料がピアノ線、金属板等と接触
するため、感光層又はプレコート層の剥離、更にピアノ
線等への塗布物の付着が生じ、その結果複写材料にキズ
や汚れが生ずる現象をいう。この現象は特にプレコート
処理を施した複写材料にみられた。
使用した乾式現像法によって現像すると、複写物に現像
汚れが生じやすかった。ここで現像汚れとは、現像時に
現像ボックス中で複写材料がピアノ線、金属板等と接触
するため、感光層又はプレコート層の剥離、更にピアノ
線等への塗布物の付着が生じ、その結果複写材料にキズ
や汚れが生ずる現象をいう。この現象は特にプレコート
処理を施した複写材料にみられた。
目 的
本発明の目的は、プレコート処理を施して画像濃度を高
めると共に現像汚れを解消する所にある。
めると共に現像汚れを解消する所にある。
構成
本発明は、支持体上にプレコート層とジアゾ化合物及び
カップリング成分を主成分とする感光層とを順次設けて
なる乾式二成分型ジアゾ複写材料において、プレコート
層はケン化度90%以上のポリビニルアルコール及び填
料を含むことを特徴とするものである。
カップリング成分を主成分とする感光層とを順次設けて
なる乾式二成分型ジアゾ複写材料において、プレコート
層はケン化度90%以上のポリビニルアルコール及び填
料を含むことを特徴とするものである。
本発明で用いられるジアゾ化合物及びカップラーとして
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
ているものがそのまま適応できる。
は、従来より二成分型ジアゾ複写材料の分野で使用され
ているものがそのまま適応できる。
従って、ジアゾ化合物としては例えば、4−ジアゾ−1
−ジメチルアミンベンゼン、4−ジアゾ−1−ジメチル
アミンベンゼン、4−ジアゾ−1−ジプロピルアミノベ
ンゼン、4−ジアゾ−1−メチルベンジルアミノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジベンジルアミノベンゼン、4−
ジアシー1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジエチルアミノ−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−エージメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミン−3−カルボキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−
ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシベ
ンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどのジ
アゾ化合物と塩化物の金属ノ・ライド(塩化亜鉛、塩化
カドミウム、塩化錫など)との複塩及び、前記ジアゾ化
合物の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強
酸の塩などがあげられるが、勿論これらに限定されるも
のではない。
−ジメチルアミンベンゼン、4−ジアゾ−1−ジメチル
アミンベンゼン、4−ジアゾ−1−ジプロピルアミノベ
ンゼン、4−ジアゾ−1−メチルベンジルアミノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジベンジルアミノベンゼン、4−
ジアシー1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジエチルアミノ−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−エージメチルアミノ−2−メチルベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミン−3−カルボキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−
ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシベ
ンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどのジ
アゾ化合物と塩化物の金属ノ・ライド(塩化亜鉛、塩化
カドミウム、塩化錫など)との複塩及び、前記ジアゾ化
合物の硫酸、四弗化硼素、ヘキサフルオロ燐酸などの強
酸の塩などがあげられるが、勿論これらに限定されるも
のではない。
カップラーとしては例えば、レゾルシン、フロログルシ
ン、2.S−ジメチル−4−モルホリノメチルフェノー
ル、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、p−スルホ
アセトアニリド、1−ベンゾイルアミノ−8−ヒドロキ
シナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、2.2−ジ
ヒドロキシナフタレン、2,7−シヒドロキシナフタレ
ンー3.6−ジスルホン酸ソーダ、2゜3−ジヒドロキ
シ−6−スルホン酸ソーダ、2゜5−ジヒドロキシナフ
タレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロキシナフタ
レン−4−スルホン酸ソーダ、l−アミノ−3−ヒドロ
キシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、ナフトー
ルAs、ナフトールAs−D、2−ヒドロキシナフタレ
ン−3−ビグアナイド、2−ヒドロキシナフトエ酸モル
ホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸エタ
ノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸−N−ジメチ
ルアミンプロピルアミド塩酸塩、2.2’、4.4’−
7”)ラヒドロキシジフェニル、2.2’、4.4’−
テトジヒドロキシジフェニルスルホキシドなどがあげら
れるが、勿論これらに限定されるものでない。
ン、2.S−ジメチル−4−モルホリノメチルフェノー
ル、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、p−スルホ
アセトアニリド、1−ベンゾイルアミノ−8−ヒドロキ
シナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、2.2−ジ
ヒドロキシナフタレン、2,7−シヒドロキシナフタレ
ンー3.6−ジスルホン酸ソーダ、2゜3−ジヒドロキ
シ−6−スルホン酸ソーダ、2゜5−ジヒドロキシナフ
タレン−6−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロキシナフタ
レン−4−スルホン酸ソーダ、l−アミノ−3−ヒドロ
キシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、ナフトー
ルAs、ナフトールAs−D、2−ヒドロキシナフタレ
ン−3−ビグアナイド、2−ヒドロキシナフトエ酸モル
ホリノプロピルアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸エタ
ノールアミド、2−ヒドロキシナフトエ酸−N−ジメチ
ルアミンプロピルアミド塩酸塩、2.2’、4.4’−
7”)ラヒドロキシジフェニル、2.2’、4.4’−
テトジヒドロキシジフェニルスルホキシドなどがあげら
れるが、勿論これらに限定されるものでない。
プレコート層を形成するポリビニルアルコールは、ケン
化度90%以上、好ましくは95%以上であることが必
要である。ケン化度が低いと現像汚れに好ましくない。
化度90%以上、好ましくは95%以上であることが必
要である。ケン化度が低いと現像汚れに好ましくない。
プレコート層には填料を添加する。使用できる填料は、
通常填料として用いられているものは全て使用でき、例
えばシリカ微粒子、スターチ、クレー、アルミナ、炭酸
カルシウム、尿素−ホルマリン樹脂微粒子、スチレン樹
脂微粒子等の有機又は無機フィラーが挙げられる。
通常填料として用いられているものは全て使用でき、例
えばシリカ微粒子、スターチ、クレー、アルミナ、炭酸
カルシウム、尿素−ホルマリン樹脂微粒子、スチレン樹
脂微粒子等の有機又は無機フィラーが挙げられる。
なお、本発明のプレコート層には、本発明の目的を疎外
しない範囲でポリビニルアルコールと共に他の高分子化
合物を使用することができる。また填料の使用量は、ポ
リビニルアルコール100重量部に対し10〜1000
重量部である。
しない範囲でポリビニルアルコールと共に他の高分子化
合物を使用することができる。また填料の使用量は、ポ
リビニルアルコール100重量部に対し10〜1000
重量部である。
本発明では以上の素材の他に、通常ジアゾ複写材料に用
いられている各種の添加剤を用いることができる。例え
ば保存性向上剤としてナフタレン−モノスルホン酸ナト
リウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナトリウム、ナフタ
レン−トリスルホン酸ナトリウム、スルホサリチル酸、
硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、塩化カドミウム、
塩化亜鉛など;酸化防止剤としてチオ尿素、尿素など;
溶解剤としてカフェイン、テオフィリンなど;酸安定剤
としてクエン酸、酒石酸、硫酸、蓚酸、7+ll酸、燐
酸、ピロ燐酸などが適宜配合されてよく、その他にもサ
ポニンを少量添加することができる。また画像濃度向上
剤として、感光層にもシリカ、スターチ、クレー、樹脂
等の無機又は有機微粒子が適量添加されていても良い。
いられている各種の添加剤を用いることができる。例え
ば保存性向上剤としてナフタレン−モノスルホン酸ナト
リウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナトリウム、ナフタ
レン−トリスルホン酸ナトリウム、スルホサリチル酸、
硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、塩化カドミウム、
塩化亜鉛など;酸化防止剤としてチオ尿素、尿素など;
溶解剤としてカフェイン、テオフィリンなど;酸安定剤
としてクエン酸、酒石酸、硫酸、蓚酸、7+ll酸、燐
酸、ピロ燐酸などが適宜配合されてよく、その他にもサ
ポニンを少量添加することができる。また画像濃度向上
剤として、感光層にもシリカ、スターチ、クレー、樹脂
等の無機又は有機微粒子が適量添加されていても良い。
本発明のジアゾ複写材料を作製するには、紙、フィルム
等の支持体上に、前述のバインダー、填料及び他の添加
剤よりなる塗布液を通常の塗布法によシ塗布・乾燥して
o、 i〜31/ゴのプレコート層を設け、更にその上
にジアゾ化合物カップラー及びその他の助剤よシなる塗
布液を塗布・乾燥して感光層を設ければ良い。
等の支持体上に、前述のバインダー、填料及び他の添加
剤よりなる塗布液を通常の塗布法によシ塗布・乾燥して
o、 i〜31/ゴのプレコート層を設け、更にその上
にジアゾ化合物カップラー及びその他の助剤よシなる塗
布液を塗布・乾燥して感光層を設ければ良い。
効果
本発明によれば、上記のプレコート処理をすることによ
って、画像濃度が高められる上、現実施例1 シリカ微粒子 3I 水 101 よυなる塗布液をジアゾ複写用原紙の表面に塗布・乾燥
して1.P/ゴのプレコート層を設けた。
って、画像濃度が高められる上、現実施例1 シリカ微粒子 3I 水 101 よυなる塗布液をジアゾ複写用原紙の表面に塗布・乾燥
して1.P/ゴのプレコート層を設けた。
更にその上に
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ 0.5Jベンゼン・
%ZnCl2 2.3−ジヒドロキシナフタレン 21−6−スルホン
酸ソーダ クエン酸 2y 塩化亜鉛 5y チオ尿素 5g 水 1ooy よシなる塗布液を塗布・乾燥して1. OEl / t
r?の感光層を形成し、ジアゾ複写材料(サンプルA)
を得た。
%ZnCl2 2.3−ジヒドロキシナフタレン 21−6−スルホン
酸ソーダ クエン酸 2y 塩化亜鉛 5y チオ尿素 5g 水 1ooy よシなる塗布液を塗布・乾燥して1. OEl / t
r?の感光層を形成し、ジアゾ複写材料(サンプルA)
を得た。
比較のために、プレコート層を設けず、がゎりにサンプ
ルA処方の感光液の中にサンプルAのプレコート層のシ
リカ酸と同量のシリカ微粒子を加えた他は、同様にして
ジアゾ複写利料(サンプルB)を得た。更に、サンプル
Aのプレコート液中のポリビニルアルコールの変υに同
量のミルクカゼインを加えた他は、同様にしてジアゾ複
写材料(サンプルC)を得た。
ルA処方の感光液の中にサンプルAのプレコート層のシ
リカ酸と同量のシリカ微粒子を加えた他は、同様にして
ジアゾ複写利料(サンプルB)を得た。更に、サンプル
Aのプレコート液中のポリビニルアルコールの変υに同
量のミルクカゼインを加えた他は、同様にしてジアゾ複
写材料(サンプルC)を得た。
以上のようにして得られた各サンプルを乾式ジアゾ複写
機(リコー製5M−1500)を用いて15 m /
minの速度で1000枚現像を行った後”、tooo
枚目の各サンプルのキズの有無、及び現像ボックスの汚
れの有無を確認した。
機(リコー製5M−1500)を用いて15 m /
minの速度で1000枚現像を行った後”、tooo
枚目の各サンプルのキズの有無、及び現像ボックスの汚
れの有無を確認した。
また発色濃度をフォトボルト濃度計にて測定した。結果
を表−1に示した。
を表−1に示した。
表 1
これより、本発明品は比較品に比べて発色濃度が高い上
に現像汚れが著しく少ないことが判る。
に現像汚れが著しく少ないことが判る。
実施例2
シリカ微粒子 5I
水 100.ii’
よりなる塗布液をジアゾ複写用原紙の表面に塗布・乾燥
して0.81/yrlのプレコート層を設けた。更にそ
の上に 塩化亜鉛 1.5.p チオ尿素 1.59 酒石酸 2g エチレングリコール 2I 水 ioo、p よシなる塗布液を塗布・乾燥して感光層を設けた。得ら
れたジアゾ複写材料を実施例1と同様にして現像を行っ
たところ、鮮明な高濃度青色画像を得た。また、現像キ
ズや現像ボックス内の汚れは認められなかった。
して0.81/yrlのプレコート層を設けた。更にそ
の上に 塩化亜鉛 1.5.p チオ尿素 1.59 酒石酸 2g エチレングリコール 2I 水 ioo、p よシなる塗布液を塗布・乾燥して感光層を設けた。得ら
れたジアゾ複写材料を実施例1と同様にして現像を行っ
たところ、鮮明な高濃度青色画像を得た。また、現像キ
ズや現像ボックス内の汚れは認められなかった。
比較のために、プレコート層中のポリビニルアルコール
の変シに同量のポリ酢酸ビニルを用いてジアゾ複写材料
を炸裂し現像を行ったところ、キズ及び現像ボックス内
の汚れが認められた。
の変シに同量のポリ酢酸ビニルを用いてジアゾ複写材料
を炸裂し現像を行ったところ、キズ及び現像ボックス内
の汚れが認められた。
Claims (1)
- 1、支持体上にプレコート層とジアゾ化合物及びカップ
リング成分を主成分とする感光層とを順次設けてなる乾
式二成分型ジアゾ複写材料において、プレコート層はケ
ン化度90%以上のポリビニルアルコール及び填料を含
むことを特徴とする乾式二成分型ジアゾ複写材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16656983A JPS6059346A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16656983A JPS6059346A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059346A true JPS6059346A (ja) | 1985-04-05 |
Family
ID=15833689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16656983A Pending JPS6059346A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 乾式二成分型ジアゾ複写材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059346A (ja) |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16656983A patent/JPS6059346A/ja active Pending
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