JPS60176035A - 二成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents

二成分型ジアゾ複写材料

Info

Publication number
JPS60176035A
JPS60176035A JP3137784A JP3137784A JPS60176035A JP S60176035 A JPS60176035 A JP S60176035A JP 3137784 A JP3137784 A JP 3137784A JP 3137784 A JP3137784 A JP 3137784A JP S60176035 A JPS60176035 A JP S60176035A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diazo
contg
layer
precoat layer
copying material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3137784A
Other languages
English (en)
Inventor
Tokuo Kurisu
徳夫 栗栖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP3137784A priority Critical patent/JPS60176035A/ja
Publication of JPS60176035A publication Critical patent/JPS60176035A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は二成分型ジアゾ複写材料に関し、特にそのプレ
コート層の改良に関する。
従来技術 従来、ジアゾ複写材料のプレコート層に画像i11度向
上の目的で多孔質填料と、でんぷんのような水溶性樹脂
を使用することや、ポリスチレンのような合成樹脂を使
用することはすでに公知であるが、前者は水溶性である
がため塗布液の増粘化が起こり使用量が限定されるとい
った欠点を有し、又後者は濃度向上の寄与率が小さいと
いった欠点を有する。
また、プレコート樹脂として、酢じゃアクリル酸エステ
ルを使用することも、すでに提唱されているが、これら
の樹脂をプレコート樹脂として使用した複写材料を、乾
式現像した際には現像汚れが大きく乾式ジアゾ複写材料
には適用困難であった。
目 的 本発明は前記従来の欠点を改良し、画像濃度を向上させ
、さらに乾式現像の際の現像汚れも解消することを目的
とするものである。
構 成 本発明は、支持体上にプレコード層及び感光層を設けた
ジアゾ複写材料において、前記プレコート層のバインダ
として主にアクリル酸コニステル又はメタアクリル酸エ
ステルと酢酸ビニルとの共重合樹脂の少くとも一種を主
成分として用い、かつ該共重合樹脂の組成が七ツマーユ
ニットモル比で酢酸ビニルが10〜80%の範囲である
ことを特徴とする二成分型ジアゾ複写材料である。
上記バインダーを用いることにより、その理由は明らか
ではないが現像汚れが解消され、しかも画像濃度も向上
する。
酢酸ビニルが80モル%を越えると、乾式現像の際の現
像汚れが大きくなり、又10%未満だと画像濃度が低下
する。
また、本発明の目的を外れない範囲で上記共重合樹脂中
に他の成分を含有させることは可能であり、さらに同様
に目的を外れない範囲で他の樹脂を混合することも可能
である。
又共重合後、組成の一部や末端などを処理した変成品も
使用できる。
又、本プレコート層には多孔質の填料を用いた方が良い
。例えば、シリカ、スターチ、クレー、アルミナ、炭酸
カルシウム、尿素−ホルマリン樹脂微粒子、スチレン樹
脂微粒子などの有(幾、無驕フィラーの一般的なものが
用いられる。
本発明で用いられるジアゾ化合物及びカップラーとし、
では、従来より二成分型ジアゾ複写材−料の分野で使用
されているものがそのまま適応できる。
従って、ジアゾ化合物としては例えば、4−ジアゾ−1
−ジメチルアミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジエチル
アミノベンゼン、4−ジアゾ−1−ジプロピルアミノベ
ンゼン、4−ジアゾ−1〜メチルベンジルアミノベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジベンジルアミノベンゼン、4−
ジアゾ−1−エチルヒドロキシエチルアミノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジエチルアミノ−3−メトキシベンゼ
ン、4−ジアゾ−1−ジメチルアミン−2−メチルベン
ゼン、4−ジアゾ−1−ベンゾイルアミノ−2,5−ジ
ェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1−モルボリノベンぜ
ン、4−ジアゾ−1−モルホリノ−2,5−ジェトキシ
ベンゼン、4−ジアゾ−1−モルホリノー2.5−ジブ
トキシベンゼン、4−ジアゾ−1−アニリノベンゼン、
4−ジアゾ−1−ジメチルアミノ−3−カルボキシベン
ゼン、4−ジアゾ−1−トルイルメルカプト−2,5−
ジェトキシベンゼン、4−ジアゾ−1,4−メトキシベ
ンゾイルアミノ−2,5−ジェトキシベンゼンなどのジ
アゾ化合物と塩化物の金属ハライド(塩化亜鉛、塩化カ
ドミウム、塩化錫など〉との複塩及び、前記ジアゾ化合
物の硫酸、四弗化硼素、ヘキザフルオロ燐酸などの強酸
の塩などがあげられるが、勿論これらに限定されるもの
ではない。
カップラーとしては、例えば、レゾルシン、フロログル
シン、2,5−ジメチル−4−モルホリノメチルフェノ
ール、3−ヒドロキシシアノアセトアニリド、p−スル
ホアセトアニリド、1−ベンゾイルアミノ−8−ヒドロ
キシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、2.2−
ジヒドロキシナフタレン、2,7−シヒドロキシナフタ
レンー3.6−ジスル小ン酸ソーダ、2.3−ジヒドロ
キシ−6−スルホン酸ソーダ、2.5−ジヒドロキシナ
フタレン−〇−スルホン酸ソーダ、1−ヒドロキシナフ
タレン−4−スルホン酸ソーダ、1−アミノ−3−ヒド
ロキシナフタレン−3,6−ジスルホンアミド、ナフト
ールAS1ナフトールAS−D、2−ヒドロキシナフタ
レン−3−ビグアナイド、2−ヒドロキシナフトエlI
6 Eルポリノブロビルアミド、2−ヒドロキシナフト
エ酸エタノールアミド、2〜ヒドロキシナフトエ酸−N
−ジメチルアミノプロピルアミド塩酸塩、2.2′、4
.4”−テトラヒドロキシジフェニル、2.2−.4.
4−−テトラヒドロキシジフェニルスル小キシドなどが
あげられるが、勿論これらに限定されるものでない。
本発明では以上の素材の伯に、通常ジアゾ複写材料ら用
いられている各種の添加剤を用いることができる。例え
ば現像促進剤としてエチレングリコール、トリエチレン
グリコールなど;保存性向上剤としてナフタレン−モノ
スルポン酸ナトリウム、ナフタレン−ジスルホン酸ナト
リウム、ナフタレン−トリスルホン酸ナトリウム、スル
ホサリチル酸、硫酸カドミウム、硫酸マグネシウム、塩
化カドミウム、塩化亜鉛など;酸化防止剤としてチオ尿
素、尿素など;溶解剤としてカフェイン、テオフィリン
など;酸安定剤としてクエン酸、酒石酸、硫酸、蓚酸、
硼酸、燐酸、ピロ燐酸などが適宜配合されてよく、その
他にもサポニンを少量添加することができる。また画像
濃度向上剤として、感光層にもシリカ、スターチ、クレ
ー、樹脂等の無機、有機微粒子が適当量添加されていて
も良い。
本発明のジアゾ複写材料を作成するには、紙、フィルム
等の支持体上に、まず主に前記の樹脂と必要に応じて多
孔質の填料、その他の添加剤を添加した塗布液を通常の
塗布法により塗布乾燥して0.1111/ m 2〜5
g/m 2(Dプレコート層を設け、さらにその上にジ
アゾ化合物、カップリング成分、必要に応じて多孔質の
填料及びその他の助剤より成る塗布液を塗布乾燥して感
光層を設ければ良い。以下に実施例を示す。
実施例1 アクリル酸エステル−酢酸ビニル共重合体く酢酸ビニル
60%・50%エマルジョン)g 炭酸カルシウム 3g 水 100g より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して1.3g/m 2のプレコート層を設けた。さらに
その上に p−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウムクロライド・
1/27n Cl 2 0.5(]2.3−ジヒドロキ
キシナフタレン −6−スルホン酸ソーダ 2g クエン酸 2g 塩化亜鉛 5g チオ尿素 5g エチレングリコール 5g 水 100g より成る塗布液を塗布乾燥して1g7m 2の感光層を
形成しジアゾ複写材料〈サンプル△)を得た。
一方比較の為に、プレコート層を除去し、かわりにサン
プルAの感光液の中にサンプルΔのプレコート層の炭酸
カルシウムと同量の炭酸カルシウムを加えた他は同様に
してジアゾ複写材料を1qた(サンプルB)。
又、サンプルAのプレコート液中のアクリル酸エステル
−酢酸ビニル共重合体を除き代りに同量のカゼインを加
えた他は同様にしてジアゾ複写材料を得た(サンプルC
)。
さらに、サンプルAのプレコート液中のアクリル酸エス
テル−酢酸ビニル共重合体を除き、代りに同量のポリ酢
酸ビニルを加えた他は同様にしてジアゾ複写材料を得た
(サンプルD)。
以上のようにして得られた各サンプルを乾式ジアゾ複写
機(リコー製S M −1500)を用いて現像した後
、フォトボルト濃度計を用いて画像濃度を測定した。又
乾式現像の際の現像汚れは、前記の複写機で各サンプル
を15111/minの速度で1000枚現像を行った
後、1000枚目の各勺ンプルのキズ、汚れの有無、及
び現像部内の汚れの有無で判断した。結果を表−1に示
す。
表−1 表−1に示したとおり本発明は濃度が高く、かつ乾式現
像の際の現像汚れは認められないことが分る。
実施例2 メタアクリル酸エステル −酢酸ビニル共重合体 (酢酸ビニル40%・50%エマルジョン)6gシリカ
微粒子 3g 水 100g より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して0.8o/m 2のプレコート層を設(プた。その
上に更に 2.5−ジェトキシ−4−モルホリノジアゾニウムクロ
ライド・1/2 Zn C122Q2−ヒドロキシ−3
−ナフトエ酸 モルホリノプロピルアミド 2.5g 塩化亜鉛 1.5g ヂA尿素 1.5g 酒石酸 2Q トリエチレングリコール 3.5g 水 100g より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗布乾燥
して感光層を設けた。得られたジアゾ複写材料(サンプ
ルE)を実施例1と同様にして現像を行ったところ鮮明
な高濃度青色画像を得た。又実施例1と同様に現像汚れ
も良好であった。
一方比較の為にサンプルEのメタアクリル酸エステル−
酢酸ビニル共重合体を除去し、代りにポリアクリル酸樹
脂をプレツー1〜層に使用した他は同様にしてジアゾ複
写材料を得た(サンプルF)。サンプルFの画像濃度は
リーンプルEよりも0.10低く、かつ現像汚れ6人き
かった。
実施例3 アクリル酸エステル−酢酸ビニル共重合体(酢酸ビニル
50%・50%水エマルジヨン)g スチレン樹脂微粒子 2Q 水 100(! より成る塗布液をジアゾ複写紙用原紙の表面に塗イ5乾
燥して0.13g/m 2のプレコート層を設りた。
その上に更にサンプルEの感光液の中に、スチレン樹脂
微粒子を2g加えた他は同様の感光波を塗イロシて感光
層を設は複写材料を得た(サンプルG)。
得られたサンプルを実施例1と同様に現像したところ高
濃度画像が得られた。又現像汚れも良好であった。
さらにサンプルGを半乾式ジアゾ複写機〈リコー製5D
−700)で現像したところ、乾式現像と同様に高濃度
であった。
効 果 本発明は、以上の試験結果からも明らかなとおり、これ
を用いてジアゾ複写を行なうと、高濃度画像が得られ、
また現像汚れもない。
特許出願人 株式会社リ コ − 代理人 弁理士 小 松 秀 岳 代理人 弁理士 旭 宏

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体上にブレコー1へ層及び感光層を設()たジアゾ
    複写材料において、前記プレコート層のバインダどして
    主にアクリル酸エステル又はメタノ′クリル酸エステル
    と酢酸ビニルとの共重合樹脂の少くとも一種を主成分ど
    して用い、かつ該共重合樹脂の組成がモノマーユニット
    モル比で酢酸ビニルが10〜80%の範囲であることを
    特徴とする二成分型ジアゾ複写材料。
JP3137784A 1984-02-23 1984-02-23 二成分型ジアゾ複写材料 Pending JPS60176035A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3137784A JPS60176035A (ja) 1984-02-23 1984-02-23 二成分型ジアゾ複写材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3137784A JPS60176035A (ja) 1984-02-23 1984-02-23 二成分型ジアゾ複写材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60176035A true JPS60176035A (ja) 1985-09-10

Family

ID=12329557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3137784A Pending JPS60176035A (ja) 1984-02-23 1984-02-23 二成分型ジアゾ複写材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60176035A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60176035A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPH0544659B2 (ja)
JPS6042751A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS60153045A (ja) 2成分型ジアゾ複写材料
JPS6111739A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6041040A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6039639A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS619645A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS62205339A (ja) 2成分型ジアゾ複写材料
JPS6039638A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6084540A (ja) 2成分型ジアゾ複写材料
JPS6041038A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6041039A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS60191248A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS60147734A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS60130732A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6278546A (ja) ジアゾ複写材料
JPS60151638A (ja) 乾式二成分型ジアゾ複写材料
JPS6042752A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6039640A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6140093B2 (ja)
JPS6059346A (ja) 乾式二成分型ジアゾ複写材料
JPS60258540A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPS6270841A (ja) 二成分型ジアゾ複写材料
JPH03253848A (ja) ジアゾ感光材料