JPS60182019A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３．１　技術分野 この発明は、陽極酸化処理により多数のボアを有する陽
極酸化皮膜を表面に形成したアルミニウム（以下、Ａｔ
　という。）又はその合金に対して、ボア径を拡大する
処理を行ない、そのボア中に強磁性体を析出させて、高
密度記録が可能な磁気記録媒体をＬ！￥Ｉ造する方法に
関りるものである。

３．２　発明の背景 陽極酸化皮Ｂｌを用いｌ〔磁気記録媒体の実用化には、
種々の技術的問題点の解決が持たれているが、現在、磁
性体の表面保護に関するｆｌは極めて組数な問題である
。磁性体の表面保護については、次の要求を満足リ−る
ことが１１１要である。

（ａ　＞磁気記録媒体の記録密度を上げ、しかもエラー
率を下げるには、磁気ヘッド・磁性体間ギャップを小さ
くして、記録再生時の信号出力を向上させなりればなら
ないが、そのためには磁気記録媒体の表面精度が高く、
かつ、その保護層を可能な限り薄く覆る必要がある。

（ｂ）磁気ヘッドと磁性体の間にある保護層は、磁気記
録媒体に浸入密着して、表面摩擦ににる損（具、ヘッド
クラッシュ等を避ｔ）得、かつ、表面精度が高くて摩擦
抵抗が非常に低いものでなくてはならない。

３．３　従来技術の問題点 従来報告されている陽極酸化皮膜のボアに磁性体を充填
して磁気記録媒体を製造づる方法は、径が３５０Å以下
のボアに磁性体を酸化皮膜の表面まで析出させ、擬似的
にボアを完全に埋め尽１ものである（特公昭５２−１４
０８４）。

しかし、この方法によりｊ！１られた磁性体は、抗磁力
が１５０００８以上になって、狭ギＮ７ツブヘツトで記
録・消去リ−る際にヘラ１ミ先端に磁気飽和が生じ、ま
Ｉ〔、抗磁力を１５００Ｑ　ｅ以下にすると、磁化容易
方向が水平になり、又は残留磁束密度が過度に低くなっ
て再生出力が不充分になるなどの欠点がある。

この点に鑑み、この出願人は、先の出願明細書（特願昭
ｂ８−１３８６３６号）において、この抗磁力及び残留
磁束密度を改善し、磁化容易方向が垂直になるようにす
るためには、陽極酸化皮膜に生成されたボアを拡大し−
Ｃその径を４００〜１０００Ａにづればよいことを明ら
かにした。

ところが、発明者らの実験′において、ボア径３５０〜
ｉ　ｏｏｏへのものに各種の条イ′１下で磁性体析出処
理をして得られた磁性体を電子顕微鏡観測したところ、
磁性体の電解析出処１１ｊをりる際に、ボア径が大ぎい
程、均一な磁性体の成長が起りにくくなることが判った
。また、析出時間が長くなるにつれて、ボア中での磁性
体の成長速度が近くなり、析出途中まではほぼ均一に成
長していたｒ１状の磁性体が不均一のちのとなり、一部
では、磁性体長に極端な差が生じてしまうことがあるこ
とも判った。さらに、磁性体長が陽極酸化皮膜厚に近づ
くにつれで、磁性体の機械的強度が粗悪になり、記録媒
体表面の鏡面形成のための研磨の際に、磁ｔｕｂ体に欠
損を生じ易くなる。これらの原因は、電解析出浴中の不
純物あるいは、陽極酸化皮膜中の妨害イオン又は磁性体
イオンの拡散むらなどにあると考えられる。

ざらに、皮膜表面にあふれる稈４１ｉ出を行４１っだと
ぎは、一部のボアでは完全に充填され、表面に乳白色の
磁性体があふれるＪ：うになるが、他のボアでは磁性体
の成長が止まっＩこままである。

第１図は、以」この磁性体の４Ｉｉ　Ｌｌ冒１′１間と
成長過程の関係を示づ。第２図の（イ）、（［］）。

くハ）は、第１図におりる析出＋１Ｖ間１”ｔ　、　１
−２　。

王、のそれぞれにおける磁性体の成長状態を模回向に示
している。各組細線が成長した）６性体を表わしでいる
。同図から、４１ｉ出処理の初期においＣは、）６性体
りく比較的均一に成長しＣいるが、ある時間から（ボア
系の大きさ、処理条件ににっ−Ｃ異なる。）、不均一な
成長が起り、その成長が時間とともに、変化していくこ
とが示されている。（ハ）のものＣ゛は表面に磁性体が
あふれている。

皮膜表面に磁性体があふれ出るような状態になると、も
はや、全皮膜中のボアに均一に磁性体が充填されること
は欠ＩＩ　Ｌ　＜なり、過剰の磁性体が無駄に電着して
ゆき、電力損失が多い。

３、／１　本発明の目的、構成及び効果この発明は、磁
性体析出処理時間の短縮及び電力と磁性体イオンの節減
ができるどともに、上記（ａ）、（ｂ）２点の要求を）
箇足し得る極めＣ高性能な磁気記録媒体を製造しつる製
造り法をＩｂ！　（Ｊｔ”ｌることを第１の目的とづる
。

そしＣ１この発明ひは、磁性体の析出時間と析出状態と
の相関関係から各ボア径の条件・のもどで、２０〜６０
分の電着析出処理を行ない、磁性体の皮膜中ての充填率
が２０〜８０％の状態で、析出処理を中止し、この状態
で次のωＩ　ｌ’ｉｌｌ又は＋ＩＩ＋　ｅなどの機械加
工工程に移行覆ることにより、処理時間の短縮と電力損
失の防止、磁性体イオンの節減などの効果をもたらした
ものである。

第３図は、上記のようにして磁性体の所定の充１眞率に
おい−Ｃ析出処理を停止した場合にＪＨプる陽極酸化皮
膜部分の一部を模写的に示づものであり、ＬはＩｆｆｆ
ｆ上による表面である。同図にａ３いで、［＝は皮膜、
１つはボア、Ｍは磁性体、Ｂはバリア層である。

ところで、磁性体析出処理後のボア中には、磁性体の入
っていない余白空間が残されて１１３す、これに対して
何らの処置もしないで、前記（層成加■工程に移行する
と、余白空間が原因となって、機械加工工程に表面損傷
を生起覆るため、研磨加工ができない。

ここで例示Ｊる第２発明は、上記余白空間の影響を受【
プずに、磁性体析出後の表面を損傷させることなく、高
精度に加工づることかでさるようにした（６気記録媒体
の製造方法を提供Ｊることを目的とする。

この発明は、上記目的を達成り゛るため、磁性体析出処
理後に、第４図に模写的に例示ｊ゛るように、ボアの磁
性体Ｍの入っＣいない余白空間に充填剤Ｆｉを充填して
、皮膜全体に機械加］二にＸＩ　Ｌ、てほぼ同一の加工
茶イ′１を形成したしのである。

このような充填剤Ｆ１として、陽極酸化皮膜のボア以外
の部分又は磁性体の充填されているボアの部分の硬度と
同程度の硬度を有りるものを用いる場合は、充填剤の充
填後の機械加工中に、ボアの孔道欠損などの表面損傷が
生じないので、欠陥のない磁気記録面を有する磁気記録
媒体を１キることができる。このような機械加工時の陽
極酸化皮膜の表面保護を目的とした充填剤としＣは、例
えば、アレタール（η（脂、ポリ、］二ヂレン、４フツ
化エチレン又はナイロン々どの摩擦係数の小さい樹脂を
溶剤に溶かしたものを用いることかできる。

また、従来の回転磁気ディスクでは、磁性体とヘッドの
ギャップを小さくするため、ディスク表面に潤滑層を形
成して潤滑性を得ているが、潤滑層を形成するには、デ
ィスク表層にミクロボアを形成させ、そこに潤滑剤を埋
め込み、表面への染み出しにより潤滑性イ」勺の目的を
達成さＵている。従って、非常に困デｕな工程を別に必
要とする欠点があった。

この発明では、上記のように磁性体析出処理を途中で中
止覆ることにより生じるボアの余白空間に充填りる充填
剤として、上記の機械加工時の表面保護と、磁気媒体使
用時の潤滑性イ１与の双方の機能、又は少なくとも後者
の機能を右する潤滑剤を用いることにより、製造時は表
面に損傷を受（）ずに研磨などの機械加工がでさるとと
もに、使用時は回転磁気ディスクの表層に潤滑性が得ら
れるという一挙両行の効果、又は少なくとも使用時の表
面保護の効果を容易に発揮しうるちのＣある。

このようなｉｔｓ’］　ｆｆｉ剤としては、次のような
ものを用いることができる。づなわち、乾燥性潤滑剤と
して使用されているボリテ］〜ラフロロエチレン（＋）
Ｔ’　Ｆ　Ｅ　）などの平均粒度０．０５〜０゜２μｍ
程度の超微粉末を単独でもしくはその微わ）末を７０ロ
カーボン系の溶剤に０．０１〜１重量％の範囲で溶した
もの、パー７０ロアルキル土−チル単独もしくはこれと
前記微粉末を混合したもの、又はその混合物をフ【］［
１カーボン系の溶剤に混合したもの、あるいはジメブル
ボリシロキリン系のシリコン油もしくはそれをハ［］ゲ
ン化炭素系の溶剤に溶し１＝ものなどであり、これを機
械的埋め込み、浸漬処理、スプレー−１−ティング、又
は朝Ω書房［＝１−ティング１学」２５７〜２７３頁に
書かれているような方法などにより陽４ｋＷ化皮膜のボ
ア中の前記余白空間に埋め込み又は染み込Ｊ゛ぜること
にＪ：り充填づることがでさる。

このような潤滑剤どなる充填剤は、第４図に示されてい
るように、磁性体Ｍと皮膜「の壁内に浸透していること
が良く、磁気記録媒体としての使用時に長期にわたって
表面に染み出し、保護層を形成Ｊる。

以上のように、充填剤の充填により、陽極酸化皮膜の表
層部分は機械的強度が格段に増大され、表面損傷を生じ
さけることなく仙削・（σｌｌｕなどの機械加工を行な
うことができ、その機械加］ニにより、薄く、かつ、潤
滑性の良好な、従来の保護層と同等の保護層が１」１ら
れる。

３．５　実施例 以下に実施例を説明づる。

■陽極酸化処理 ＭＩＵ９９．９９％のアルミニウム薄暑反に交りして、
３Ｗ［（徂甲）％シュウ酸水溶液、浴温２０℃、印加雷
Ｊ■１０　Ｖで４０分間陽極酸化処理をして、厚さ１０
７１１１１の陽極酸化皮膜を１」ＩＩこ。

■ボア拡大処理 次いで、５％スルファミン酸及び１％リン酸を含有する
浴温３０℃の浸漬液で３０分間浸漬処理をした。ボア径
が５００八となっｌｃ。

■磁性体析出処理 さらに、０．２１１１０１の第１硫Ｍ鉄アンしニウム、
３０ｊｊ／ｌのホウ酸を含有づるＰＨ３，６の電解液Ｃ
１交流電解により４０分間の析出処理を行なった。ボア
中の鉄の充填率は５０％となった。これを純粋で洗？／
Ｉ後、窒素ガスを吹きかり、表面を乾燥さｌた後、さら
に８０℃で３０分間乾燥さＵだ。

■潤滑剤浸漬処理 最後に、Ｉｗｔ％ルブｌ−１ンＬ−２（ダイニ１ン７１
業の商品名）、５ｗｔ％クライ１〜ツクス１４３ΔＣ（
デコボンの商品名）、及びフレオン１１−（三重７０口
ケミカルの商品名〉を含有Ｊる溶液中に浸漬し、３４０
’Ｃぐ３０分間加熱処ｊ！ｌ！　シた後、酸化皮膜層が
３μｍ残るにうにｒＩＩ＋磨した。

潤滑剤の組成には、上記のはか、１Ｗ１％ルゾ【」ンＬ
１’＋ど５ｗｔ％クライ１〜ツクス１４３Ａ＋）のルＡ
ン王に溶液又は１ｗｔ％ルゾ［」ンＬＩ’１００ど５ｗ
ｔ％クライ１〜ツクス１４３ＡＤの、フレオンＴ　Ｆ溶
液を用いることができる。

このようにしＣ作成された磁気記録媒体に対しで、コン
タク１〜・スターｌ〜・ストツゾ試験を行なったところ
、５万回以上のスタート・ストップによっても、ヘッド
クラッシコは発生しなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は電解析出時の皮膜中ての磁性体の析出時間と成
長度合との関係を示Ｊグラフ、第２図は、第１図の各析
出時間Ｔ　ｌ〜−「３にＪ３りる磁性体の成長状態を承
り模式図、第３図はこの出願に係る第１′Ｒ，明方法を
陽極酸化皮膜部分につい（示づ、電子顕微鏡写真的模式
図、第４図はこの出願に係る第２°発明方法を陽４４！
酸化皮膜部分について示づ電子顕微鏡写真的模式図ひあ
る。 ト・・・陽極酸化皮膜 ［〕・・・ボア Ｍ　・・・　何１性　１本 Ｆｉ・・・充填剤 第２−図 第３図 第４図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）陽極酸化処理により表面に多数の微細孔（以下、
   ボアという。）を有する陽極酸化皮膜が形成されたアル
   ミニウム又はその合金に対しＣ、ボア径が３５０〜１０
   ００Ａの範囲となるようにボアを拡大づる処理を行なっ
   た後、磁１１体の金属塩を溶解した電解液中で電解処理
   を行なうことにより、前記拡大されｌ〔ボア中に磁性体
   を析出づるにうにした磁気記録媒体の製造方法にａ３い
   Ｃ１ 前記磁性体析出処理を、磁性体の析出ｆｆｉが陽極酸化
   皮Ｉｌ！ＩＩ！　Ｊｆに到達づる以前の状態で中止し、
   皮膜表面を機械加工りることにより、はぼ均一に成長し
   た磁性体を有する事情表面を得るようにしたことを特徴
   とりる磁気記録媒体の製造り法。
2. （２）磁１／１休析出処理にａ３いて磁性イホのボアに
   対する充填率を２０〜８０％にしたことを特徴とする特
   Ｗ［請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体の製造方法
   。
3. （３）陽極酸化処理により表面に多数のボアを右する陽
   極酸化皮膜が形成されたアルミニウム又はその合金に対
   して、ボア径が３５０〜１０００Ａの範囲となるように
   ボアを拡大】る処理を行なった後、磁性体の金属塩を溶
   解した電解液中で電解処理を行なうことにＪ：す、前記
   拡大されたボア中に磁性体を析出するようにした磁気記
   録媒体の製造方法において、 （イ）前記磁性体析出処理を、磁性体の析出ｍがＩｌｌ
   ｌｌ極度化皮膜厚達づる以前の状態で中止し、 （Ｄ）ボアの磁性体が充填され−Ｃいない余白空間に充
   填剤を充−更した後、 （ハ）表面を機械加工することを特徴とりる磁気記録媒
   体の製造方法。
4. （４）充填剤は、機械加工時の陽極酸化皮膜の表面保護
   を目的としたものであることを特徴とする特許請求の範
   囲第３項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. （５）充填剤は、少なくとも磁気記録媒体の使用時の表
   面を保護する潤滑剤であることを特徴とする特許請求の
   範囲第３１（４に記載の磁気記録媒体の製造方法。