JPS60242401A - 反射防止膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は基材に液状組成物を塗布し、均一な反射光色を
有し、かつ生産性に富む反射防止膜を形成する方法に関
するものである。

〔従来技術〕

従来からガラス、およびプラスチック製品の光学的機能
、特に反射防止機能は光線の有効利用という観点から、
その向上が強く望まれている。

たとえばテレビ、パーソナルコンピューター。

ワードプロセッサー、電卓等の表示装置におけるブラウ
ン管や前面板においては１反射防止加工を施さない場合
、装着時に光線の反射によって１表示物が見えなくなっ
た）、小さな表示物については極めて見にくくなシ眼に
不快感を与え、さらに進むと目に疲労を感じ、使用能率
を低下させるという問題点がある。特に多機能化が進ん
でいるテレビ画面の光学的機能の向上は強く望まれてい
る。

ガラスおよびプラスチック基材の光学的機能の向上は、
従来よシ真空蒸着法などによって基材上に反射防止膜を
形成させることにより達成することが行なわれて来た。

この場合反射防止効果をもつとも高からしめるためには
基材に被覆する物質の厚みと屈折率の選択が重要である
ことが知られている。例えば単層被覆においては基材よ
シ低屈折率の物質を任意の波長の−ないしはその奇数倍
にその光学的膜厚を４　。

選択することが極小の反射率すなわち極大の透過率を与
えることが知られている。

ここで光学的膜厚とは被覆形成材料の屈折率と該被覆の
膜厚の積で与えられるものである。さらに複層の反射防
止層の選択が可能であり、この場合それぞれの層におけ
る膜厚および屈折率を適当に選択することによって希望
する反射光色と反射防止効果を得ることができる。これ
らに関してはすでにいくつかの提案がなされている（光
学技術］ンタクトＶＯ１，９，Ｎ１８．１７〜２３（１
９７１）。

かかる蒸着法により形成された反射防止膜は。

用途によっては次のような問題点が生ずる。

（１）　高度の真空度を要するために処理すべき基材の
大きさ、材料に制限を生ずる。又製造時間が長くなシ、
生産性、経済性が低下する。

（２）　通常かなりの加熱を要し、基材によっては変形
９分解などの問題を生ずる。

埼（３）　使用される被覆形成材料は主として無機酸化
物であり、緻密な膜を形成する反面、プラスチック基材
の場合には線膨張係数の差による耐熱性。

付着性の低下を生じ易い。

一方、特開昭５８−４６５０１において、液状組成物を
用いた２層からなる反射防止膜の製造が挙赫られている
。この方法により上記の問題点は一応解決されている。

これには第１層、第２層とも浸漬コート法、また第１層
９第２層ともスピンコード法の例が開示されている一前
者の方法は基材の上下および表裏に反射光の色むらを生
じ、商品価値の全くないものしか得られない。また後者
は生産性が低く非常にコストの高い製品となり。

また大面積な基材への適用は困難な状況にある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は反射光の色むらがなく、かつ生産性の高
い反射防止膜の形成方法を提供することにある。

〔発明の構成〕

すなわち本発明は、基材の両面に液状組成物を２層ずつ
塗布し、それぞれを乾燥および／または硬化させること
によ９２層からなる反射光色を有する反射防止膜を形成
する方法において、該反射防止膜の基材側の層（第１層
）を膜厚２０〜５０００ｎｍで塗布し、該第１層の上に
設けられる層（第２層）を液除去コート法で膜厚２０〜
１１０００ｎに塗布し、かつ第１層の屈折率が基材と第
２層のいずれの屈折率よりも高くなるようにしたことを
特徴とする反射防止膜の形成方法に関するものである。

本発明で言うところの基材としては本発明の目的を必要
とするものであれば何でもよいが、液状組成物を塗布さ
せるという観点から平板状１曲率を有する成型品、さら
には円筒状物品などに好ましく適用される。捷た成型品
に球面のみならず。

非球面部分を有するものにも好ましく適用される。

反射防止性向上がもたらす透過率向上などを目的とする
場合には透明な基材への適用が好ましい。

かかる基材に反射防止性を付与させる被膜を形成する液
状組成物としては、被膜形成物質のみでなる場合の他必
要な塗布作業性を付与するために各種の揮発性溶媒を含
んだものも用いることができる。ここで液状組成物とは
通常の塗布作業が適用できる範囲の粘度を有する組成物
であって適用温度で１０ポイズ以下、好ましくは１ポイ
ズ以下のものが用いられる。すなわちこれよシ高い粘度
を有する液状組成物は、均一な塗膜を得ることが困難で
ある。

本発明の第１層における塗布はいかなる方法であっても
よい、たとえば浸漬コート法、スピンコード法、スプレ
ーコート法、カーテンフローコート法、および第２層で
用いる液除去コート法においても可能である。なぜなら
上記塗布方法において第１層を塗布したのち第２層を液
除去法にて塗布してするならば反射光色のムラが生じな
いからである。第１層の膜厚は２０−５０００　ｎ　ｍ
の範囲に塗布され９反射光色のムラ発生の観点から膜厚
のむらは２ＤＯｎｍ以内であることが好ましい。

膜厚むらを生じさせないためにはそれぞれの塗布方法に
おいて溶剤２組成物の固形分、コーティング条件などを
実験的に定められなければならない。

つぎに第２層における塗布方法として用いられる液除去
コート法とは下部に流出口を設けた槽内に液状組成物を
入れ、その中に基材を浸漬したのち流出口より液状組成
物を取シ除くことにより液状組成物の液面を定速度また
は連続的に速度変化をさせて下降せしめることであシ、
基材の両面に液状組成物を均一に塗布する方法である。

液面の下降速度および雰囲気条件などについてはそれぞ
れ実験的に定められなければならないが、薄膜の膜厚コ
ントロールの観点から、下降速度け０５〜４０ｃＩＩ／
分、よシ好ましくは１〜２０ｃｍＺ分で行なわれる。さ
らに一度に塗布される基材の枚数は生産性の点から決め
られるべきであシ、とくに限定されるものではない。

また上記の下降速度がこれより遅い場合は、生産性が著
しく低下し、液除去コート法を行なうメリットが消失す
るばかりでなく、液状組成物の表面層に濃度むらが発生
しゃすくなシ膜厚むらなどが発生する。そのため外観上
の問題点が生ずる。

さらにこれより速い場合には、基材の上下部および前後
面に大きな膜厚むらを生じ、均一な反射防止膜が得られ
ないなどの問題点がある。

また下降速度の調節については液状組成物が乱流を起さ
ないようにすることが好ましい。なぜなら下降面の上下
の乱れが激しくなると膜厚むらが生じ、均一な反射防止
膜が得られないからである。

つまり槽の形状や流出口の大きさなども基材の形状や液
状組成物に合わせて実験的に定められなければならない
。

浸漬コート法は液除去コート法と同様、高い生産性を有
する反面、液除去コート法に比べて膜厚の均一性に劣シ
１反射光色のむらが生じる。

以上のようにして塗布される反射防止膜のうち第１層と
して最初に塗布される被膜は第１層と接する基材と第２
層のいずれよりも００３以上高い屈折率を有するものが
用いられる。

すなわち第１層の被膜の屈折率がこれよシ低い場合には
十分な反射防止機能を有する膜が得られない。また第２
層として塗布される被膜の膜厚は２０〜１１００Ｄｎ、
好ましくけ４０〜２ＤＯｎｍに塗布されるべきである。

すなわちこれよシ薄い場合あるいは厚い膜厚の場合には
満足できる反射光色を有する反射防止膜は得られない。

第１層、第２層の塗布にあたっては各種の化学処理、物
理処理を各々と接する層に適用することで付着性を向上
させることもできる。とくに第２層の塗布にあたっては
、あらかじめ第１層を湿熱処理、あるいは温水浸漬処理
が接着性向上にとくに有効である。

第１層および第２層の被膜形成性物質としてはそれから
形成された被膜が屈折率に関する要件を満たすものであ
り、かつそれ自身ないしそれが溶媒に分散または溶解し
て液状組成物を形成するものであれば特に限定されるも
のではない。

一方、液状組成物を塗布するという観点から。

透明な被膜形成性を有する有機材料あるいは無機系材料
を溶剤に分散または溶解させたものが好ましく使用され
る。

一方それ自身が液状であるものけ、それ単独でも使用可
能であるが、適当な溶剤に希釈して使用することも可能
である。これらの材料は透明性をそこなわない範囲で２
種以上を混合して使用することも可能である。

これらの材料のうち第１層に好ましく使用される比較的
屈折率の高い被膜形成性物質として用いられる有機材料
としては１例えばポリスチレン。

ポリスチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン以外の芳香環、複素環、脂環式項状基またはフッ素以
外のハロゲン基を有する各種重合体組成物、メラミ／ｍ
脂、フェノール樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤
とする各種熱硬化性樹脂形成性組成物、脂環式ないしは
芳香族インシアネートおよびまたはこれらとポリオール
からなるウレタン形成性組成物、および上記の化合物に
２重結合を導入することによシ、ラジカル硬化を可能に
した各種変性樹脂またはプレポリマを含む組成物などが
好ましく用いられる。

一方、無機系材料としては被膜形成性を有し。

溶剤に分散し得るか、それ自身が液状であるものが用い
られ、具体的な代表例としては、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物が
ある。これらの好適な例としては、チタンテトラエトキ
シド、チタンテトラ−１−プロポキシド、′チタンテト
ラーｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド
、チタンテトラ−５ｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−
ｔｅｒｔ−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、
アルミニウムトリー１−プロポキシド、アルミニウムト
リブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモン
トリブトキシド、ジルコニウムテトラエ、　）１″゛・
９ｈ−ｔ＝、６”ｆ　）　５−“−７°°″′ド、ジル
コニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−５ｅｃ−ブ
トキシド、ジルコニウムテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシド
などの金属アルコレート化合物、さらにはジーイ”ソプ
ロポキシチタニウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブ
トキシチタニウムビスアセチルアセトネート、シーエト
キシチタニウムビスアセチルアセトネート、ビスアセチ
ルアセトンジルコニウム、アルミニウムアセチルアセト
ネ″−ト、アルミニウムジｎ−ブトキシドモノエチルア
セトアセテート、アルミニウムジー１−プロポキシドモ
ノメチルアセトアセテート、トリーｎ−ブトキシドジル
コニウムモノエチルアセトアセテートなどのキレート化
合物、さら′には炭酸ジルコニールアンモニウム、アル
いハシルコニウムを主成分とする活性無機ポリマーなど
を挙げることができる・ 一方、それ単独では使用できないが、前記の有機材料ま
たは無機系材料と透明性を損わない範囲で使用可能な無
機化合物としては、アルミニウム。

チタニウム、ジルコニウム、アンチモン、ケイ素などの
金属元素の酸化物が好ましく用いられる。

これらは微粒子状で粉末ないしは水および／またはその
他の溶媒中へのコロイド状分散体として提供されるもの
である。これらは上記の有機材料または無機系材料に混
合分散される。

また第１層中には、屈折率に関する要件を満たす範囲で
低屈折率のものも使用可能である。これらの使用可能な
材料としては、上記に述べた有機材料の他アクリル系を
含むビニル系共重合体、ポリエステル（アルキドを含む
）系重合体、繊維素系重合体、ウレタン系重合体、およ
びこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を
有する組成物などがある。

さらに有機置換されたケイ素系化合物をこれに含めるこ
とができる。これらの有機系ケイ素化合物は一般式 ％式％ （） であられされる化合物ないしはその加水分解生成物であ
る。ここでＲ’、Ｒ’は各々アルキル基、アルケニル基
、アリール基、まだはノーロゲン基、エポキシ基、アミ
ノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ
基を有する炭化水素基、χはアルコキシル、アルコキシ
アルコキシル、ノーロゲンないしアシルオキシ基から選
ばれた加水分解可能な置換基、ａ、ｂは各々０，１また
は２でかつａ＋ｂがｏ、ｉまたは２である。

一方、第２層に好ましく使用される比較的屈折率の低い
被膜形成性物質で有機材料としては、芳香環を含ま″な
いアクリル系を含むビニル系共重合体、フッ素置換され
た各種ポリマ、芳香環を含まナイポリエス′チル（アル
キドを含む）系重合体。

繊維素系誘導体、シリコーン系ポリマ、炭化水素系ポリ
マないしはこれらのプレポリマまたはこれらのうち硬化
性官能基を有するものと硬化剤から成る組成物がある。

また無機系材料としては各種アルキルシリケート類、各
種アリールシリケート類、各種テトラカルボキシシラン
類などの無機系ケイ素化合物がある。これら無機系ケイ
素化合物の具体的な代表例としては、メチルシリケート
、エチルシリケート。

ｎ−プロピルシリケート＋１ｓｏ−プロビルシリケ−）
　、　ｎ−フチルシリケート、５ｅＣ−フチルシリケー
Ｆ　＋　’ｅｅｒｔ−ブチルシリケート、ｎ−へキシル
シリケート、フェニルシリケート、テトラアセトキシシ
ラン、テ［う（２−メタクリロキシ）エトキシシラン、
テトラメトキシエトキシシランなどを挙げることができ
る。

さらには有機置換されたケイ素系化合物も好ましく使用
される。これらの有機ケイ素化合物は一般Ｒ５Ｒ’５１
（ＯＲ−） ４−ｃ４ で表わされる有機系−ケイ素化合物お゛・よびまたはそ
の加水分解物である。

ここでＲ，Ｒは各々アルキル基、アルケニル基。

アリール基ま′たはハロゲン基、メタクリルオキシ基な
いしシア゛ノ基を、有する炭化水素である。またＲ５は
炭素数１ゴ８のアルキル基、アルコキシアルキル基また
けアシル基であり、Ｃおよびｄば０またば１であり、ｃ
十ｄは１または２である。

これら有機ケイ素化合物の具体的な代表例としては、グ
リシドキシメチルトリメトキシシラン。

グリシドキシメチルトリエトキシシラン、ａ−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、β−クリシトキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルトリエトキ・ジシラン、β−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
プロボキシシラン；γ−グリシドキシプロピルトリプト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノ
キシシラン、α−グリシド：キシブチルトリメトキシシ
ラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン。

β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリ
シドキシブチルトリ壬トキシシラン、γ−グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン
、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメト
キシシラン。

（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラ
ン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リプトキシシラン。

β−（５，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリッ
トキシエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリフエノキシシラン。

γ−（３＋４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ
メトキシシラン、γ−（６，４−エポキシシクロヘキシ
ル）プロピルトリエトキシシラン、β−（３４−エポキ
シシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、β−（
３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシ
シラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、
グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン、α−グリ
シドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシド
キシエチルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシ
エチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチ
ルメチルジェトキシシラン、ａ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロビルメ
チルジェトキシシラン。

β−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、β
−グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジプトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメ゛チルジメトキシエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロビルメチルジフェノキシシラン。

γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルビニルジェトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどのエポ
キシ基含有有機ケイ素化合物およびその加水分解物、さ
らにはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、メチルトリメトキシエトキシシラン。

メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラ
ン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン。

ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシエトキシシラン。

フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン
、３，３．３−１−　ＩＪ　７ｏ。

プロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノ
エチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β
−シアノエチルトリエトキシシラン、メチルトリフエノ
キシシライ、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロ
メチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ、トリ
アジルオキシまたトリフエノキシシラン類またはその加
水分解物および、ジメチルジメトキシシラン、フェニル
メチルジメトキシシラン。

ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチルジェトキシ
シラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラン、ジメチル
ジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメ
チルジメトキシシラン。

γ−メタクリルオキシプロピルメチルジェトキシシラン
、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルメチルジェトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルメチルジェトキシシラン、メチルビニルジメトキシ
シラン、メチルビニルジェトキシシランなどジアルコキ
シシランまたはジアシルオキシシラン類またはその加水
分解物を挙げることができる。

これらの有機系ケイ素化合物はキュア温度を下げ硬化を
より進行させるためには加水分解して使用することが好
ましい。

さらには硬化促進剤として各種の硬化剤が使用可能であ
り、具体的な代表例としては、アルミニウムアセチルア
セトネート、アルミニウムエチルアセトアセテートビス
アセチルアセトナート、アルミニウムビスアセトアセテ
ートアセチルアセトナート、アルミニウムジｎ−ブトキ
シドモノエチルアセトアセテート、アルミニウムジー１
−プロポキシドモノメチルアセトアセテートなどのアル
ミニウムキレート化合物、テトラインブトキシチタン、
ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナート）チタン
などのチタネート化合物、各種有機カルボン酸のアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属などを挙げることができ
、その添加量は硬化物性能および被膜の屈折率に関する
要件を満たす範囲内で決められるべきである。

これら前記の有機材料、無機系材料および有機ケイ素化
合物は、透明度を損わない範囲で２種以上混合して使用
することも可能である。

一方、それ単独では使用できないが、第１層との接着性
９表面硬度向上、染色性を向上させる目的で前記の有機
材料、無機系材料または有機系ケイ素化合物およびこれ
らの混合物と透明性を損わない範囲で使用可能な無機化
合物としては、微粒子状シリカが好ましく用いられる。

この微粒子状シリカとしては、透明性の点から特にコロ
イド状に分散したシリカゾルが好壕しく用いられる。

これらの組成物は通常揮発性溶媒に希釈して塗布される
。溶融として用いられるものは、特に限定されないが、
使用にあたっては組成物の安定性。

基材に対するぬれ性９揮発性などを考慮して決められる
べきである。また溶媒は１種のみならず２種以上の混合
物として用いることも可能である。

本発明のコーティング組成物中には、塗布時におけるフ
ローを向上させる目的で各種の界面活性剤を使用するこ
とも可能であり、とくにジメチルシロキサンとアルキレ
ンオキシドとのブロックま“　たけグラフト共重合体、
さらＫはフッ素系界面活性剤などが有効である。

さらに耐候性を向上させる目的で各層中に紫外線吸収剤
、また耐熱劣化向上法として酸化防止剤を添加すること
も容易に可能である。

このようにして塗布された各層のコーティング組成物は
段階的に加熱硬化および／または乾燥することもできる
し、第１層の塗膜を予備硬化および／または乾燥した後
、第２層をコーティングし加熱硬化および／または乾燥
することも可能である。加熱方法としては熱風、赤外線
などで行なうことが可能である。また加熱温度は適用さ
れる基体および使用されるコーティング組成物によって
決定されるべきであるが９通常は５０〜１５０°Ｃ９よ
シ好ましくは６０〜２００°Ｃが使用される。これより
高温になると熱分解などが起って黄変などの問題点を生
ずる。

さらに硬化性官能基０例えば重合体もしくはオリゴマ中
の二重結合などを利用して紫外線、電子線、γ線などの
放射線を用いて硬化させることもできる。

また本発明の第１層および第２層の膜厚はコーティング
組成物の固形分およびコーティング条件によってコント
ロールされるものである。

本発明の基材の代表的なものとしては、ガラス。

プラスチック材料が挙げられる。上記のプラスチック材
料としてはポリメチルメタクリレートおよびその共重合
体、ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリ
ルカーボネートポリマ（ＣＲ−、−５９）、ポリエステ
ルとくにポリエチレンテレフタレートおよび不飽和ポリ
エステル、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩化
ビニル、ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましく使
用される。さらに被覆材料で被覆された上記のプラスチ
ック、ガラスなどの基材も好ましく使用される。

とくに本発明の反射防止性薄膜の下層にある被覆材料に
よって付着性、硬度、耐薬品性、耐久性。

染色性などの諸物性を向上させることができる。

また硬度向上のためにはこれ壕でプラスチックの表面高
硬度化被膜として知られている各種の材料を適用したも
のを用いることができる（特公昭５０−２８０９２．特
公昭５０−２８４４６．特公昭５０−３９４４９’、特
公昭５１−２４３６８゜特開昭５２−１１２６９８．特
公昭５７−２７３５　）。

本発明の目的を達成する基材ないしは被弾基材と反射光
色を有する反射防止膜には数多くの組み合せが考えられ
、その最適な範囲は目的に応じ実験的に定められるべき
ものである。

〔発明の効果〕

本発明によって得られた反射防止膜は反射光色のむらが
なく、均一な反射光色を有し、極めて商品価値の高いも
のである。また従来の蒸着法プロセスなどと比較して、
生産性が著しく向上し、さらには大面積を有する物品へ
の適用も容易に可能なものである。

以下実施例よυ本発明の詳細な説明するが、これに限定
されるものでない。

実施例１ （１）　アンダーコーティング組成物の調製（ａ）　ビ
ニルトリエトキシシラン加水分解物の調製 ビニルトリ玉トキシシラン５７２０．２ｇに酢酸２７９
、’　１　ｇを添加し、２０℃にコントロールしながら
０．０５規定塩酸水溶液１０５３．９ｇを攪拌下に滴下
混合して、加水分解物を得た◎ （ｂ）　メチルトリーメトキシシラン加水分解物の調製 メチルトリメトキシ７ラン５５５２．８ｇに酢酸４０６
３ｇを添加し、２０″′Ｏにコントロールしなから００
１規定塩酸水溶液２１Ｄ’７．７ｇを攪拌下に滴下混合
して、加水分解物を得た。

（ｃ）　塗料の調製 前記（ａ）、（ｂ）で調製したそれぞれのシラン加水分
解物を混合し、さらにキシレン１１４６６７ｇ、酢酸ブ
チル２Ｂ６．６７ｇ、シリコーン系界面活性剤２１．５
ｇ、酢酸ソーダ２８．６７．を添加し、均一に溶解させ
て塗料とした。

（２）　アンダーコートの塗布およびキュア前項（１）
で調製したアンダーコート組成物をポリメチルメタクリ
レート注型板に浸漬コート法（引き上げ速度２０ｃＩＩ
／分）で塗布し、６０℃の熱風乾燥機で′５０分間キュ
アし、透明基体とした。

（３）　第１層コーティング組成物の調製ヒー　カー中
Ｋ　ｎ−プロピルアルコール１７８１．７２ｇ、エチル
アルコール１７６０．６９ｇ、酢酸７５．１５ｇを添加
攪拌する。さらにシリコーン系界面活性剤１．１Ｂを添
加し、この混合溶液中に室温にて攪拌しながらメタノー
ル分散コロイド状シリカ（平均粒子径１２±１ｍμ、固
形分３０％）１６４．６７ｇ、さらにテトラ−ｎ−プチ
ルチタネー）　２１２゜９５ｇを添加して、コーティン
グ組成物とした。

（４）　第２層コーティング組成物の調製（ａ）　シラ
ン加水分解物の調製 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５５０ｇ
に００１規定塩酸水溶液１’２５．８５ｇを１０℃にコ
ントロールしながら攪拌下で滴下混合した。滴下終了後
室温でさらに１時間攪拌を行ないシラン加水分解物を得
た。

（ｂ）　コーティング組成物の調整 前記シラン加水分解物６６９．０８ｇ中に攪拌しなカラ
メチルアルコール９６８５６５ｇ、エチレンクリコール
３１７９．７９ｇ、水１２６．９８ｇ、シリコーン系界
面活性剤１５．４２　ｇ、　＋３１で使用したと同じメ
タノール分散コロイド状シリカ１２８５ｇとアルミニウ
ムアセチルアセトナ−）　！１８．５’　５　ｇ全添加
り充分攪拌を行なってコーティング組成物とした。

（５）　塗布、キュア 、　まず前項（３）で調製した第１層コーティング組成
物を用いて、前項（２）の透明基体に浸漬コート法（引
き上げ速度１０ａｏ／分）で塗布し、９０℃で９０分間
加熱した。ついで第１層の上に前記第２層コーティング
組成物を液除去コート法（下降速度４■／分）で塗布し
、９０℃で４時間加熱硬化させた。

得られた基体は全光線透過率が９７．７％で良好な反射
防止効果を有し２反射光色は赤紫色の均一なもので全面
にムラがなかった。

比較例１ （１）　塗布およびキュア 実施例１と同様にしてアンダーコート層および第１層コ
ーティング組成物を塗布、キュア後、実施例１と同じ第
２層コーティング組成物を浸漬コート法（引き上げ速度
４師／分）で塗布し、９０℃で４時間加熱硬化した。

得られた基体は反射防止効果を有していたが。

反射光色は不均一であり全面に段付状のヨコムラを生じ
ていた。

特許出願人　東し株式会社 手続補正書、６０洛、２３．□ 昭和　年　月　日 特許庁長官　志賀　学　殿 １１．事件の表示 昭和５９年特許願第７８６７８号 ２、発明の名称 反射防止膜の形成方法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都中央区日本橋室町２丁目２番地５、補正に
より増加する発明の、数　なし６、補正の対象 明細書中 （１）第６頁第１１〜１２行目の「液除去法にて塗布し
てするならば」を「液除去コート法にて塗布するならば
」と補正します。

（２）　第１１頁第２０行目の「アルミニウムジｎ−ブ
トキシドモノ」を「アルミニウムジ−ｎ−ブトキシドモ
ノ」と補正します。

（３）　第１６頁第６〜８行目の「γ−グリシドキシプ
ロ、ピルトリフエノキシシラン、」を削除します。

（４）　第１７頁第１１行目のｊ（３，４−エポキシ」
をＩ（３，４−エポキシ」と補正します。

（５）　第１９頁第１６行目の、「Ｎ−β（アミノエチ
ル）」を「Ｎ−β−（アミノエチル）」と補正します。

（６）　第２１頁第６行目の「アルミニウムモロ−ブト
キシド」を「アルミニウムジ−ｎ−ブトキシド」と補正
します。

（７）　第２２頁第８行目の「溶融」を「溶媒」と補正
します。

（８）　第２３頁第１０行目の「５０〜１５０°ＣＪを
５「５０〜２５０’ＣＪと補正します。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基材の両面に液状組成物を２層ずつ塗布し、それぞれを
   乾燥および／または硬化させることにより２層から々る
   反射光色を有する反射防止膜を形成する方法において、
   該反射防止膜の基材側の層（第１層）を膜厚２０〜５０
   ００ｎｍで塗布し。 該第１層の上に設けられる層（第２層）を液除去コート
   法で膜厚２０”ｖ１００１］ｎｍに塗布し、かつ第１層
   の屈折率が基材と第２層のいずれの屈折率よシも高くな
   るようにしたことを特徴とする反射防止膜の形成方法。