JPS6029653A - ガスセンサ - Google Patents

ガスセンサ

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Publication number
JPS6029653A
JPS6029653A JP13770983A JP13770983A JPS6029653A JP S6029653 A JPS6029653 A JP S6029653A JP 13770983 A JP13770983 A JP 13770983A JP 13770983 A JP13770983 A JP 13770983A JP S6029653 A JPS6029653 A JP S6029653A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
gas sensor
sensor element
heat treatment
ultrafine particle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13770983A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasushi Kawabuchi
靖 河渕
Kenichi Kizawa
賢一 鬼沢
Masateru Suwa
正輝 諏訪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP13770983A priority Critical patent/JPS6029653A/ja
Publication of JPS6029653A publication Critical patent/JPS6029653A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はガスセンーリーに光り!民にガス選択性に優れ
た金属酸化物超微粒子ガスセンサ素子に関する。
〔発明の背景〕
都市ガス[C)’441用力ヌセンサ素子としては、現
在S n O2焼結体型の半導体式素子が市場の大半を
占めている。しかしそれらは雑カス、主としてアルコー
ルに対して誤動作をすることが問題となっている。触媒
に工夫を擬らした素子が開発されているものの製品ロッ
ト間のバラツキが大きく、また経時変化して特性が劣化
してし捷うというのが現状である。このためメタンガス
に対して商いガス選択性を有し、信頼性に優れ経時劣化
のないセンサ素子が要求されている。
センサ素子を構成する金属酸化物粒子の粒径を極めて微
細にするとガス選択1’4gが向上する可能性がある。
超微粒子ガスセンサの製法としては、減圧酸素雰囲気中
で金楓又はその酸化物を蒸発させる方法(ガス中蒸発法
)が知られている(特開昭5!5−27925ほか)。
しかしこのガス中蒸発法による超微粒子センサ素子には
膜の強度が弱く、基板−\の付着力が弱いという欠点が
あり実用的でない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、fnJ述した超微粒子化の効果を引き
出し、かつカス中蒸発法にみられる欠点のないセンサ素
子を提供することにある。
〔発明の概要〕
ガス中蒸発法では蒸発した原子か基板に付漸、堆積する
ことによってセンサ素子を作製するが、その付着力及び
超微粒子のバッキング密度が小さなことが欠点となって
いた。そこでスバツタリング法によって膜を作製し、更
にその膜に熱部J’ffiを加えてガス感度を高めた組
織を得ようとするものである。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例として金践酸化物を酸化第2ス
ズとしたときの素子特性を図面を用いて説明する。
本発明ではスパッタリング時のガス圧力を従来のスパッ
タリング技術のカス圧力+5X10−2torr 以下
)よりも高くすることにより、酸化第2スズを超微粒子
化する。第1図にガス出力と超微粒子の熱処理m■の充
填密度1との関係および、にれに550CX12時間の
熱処理を加えることによって充填密度2を高めた関係を
示す。第2図に熱処理による表面組域の変化および第3
図に同じく熱処理によるガス選択性の改善を示す。第1
図、第2図に示すように本発明による熱処理によって光
横密[を高め、同時に表面に長さ10μm以下のクラン
ク3が入った組織にすることによってガスセンサ素子の
ガス選択性を高める効果がある。
また、第4図にスパッタリング後の超微粒子膜の断面図
で、4は基板、5は低密度超微粒子層、6は高密度超微
粒子層を示し、第5図に表面クランクの幅とガス選択性
との関係を示す、第4図に示すような本発明による膜組
織とすることによりクラックの幅を1μm以下に制σ1
jすることができる。第5図に示すようにクランク幅が
1μm以下ならば小さい程カス選択性を高めることがで
き、ガスセンサ素子の特性向上の効果がある。
〔発明の効果〕
不発明によれば、ガスセンサ素子のガス選択性を従来の
5倍以上に高め、1年以上の長期間に亘る安定性と信頼
性を得ることができるので、品性能カスセンサのセンサ
素子を作製できる効果かある。−!た、メタンに対する
カス選択性に優11、同時に経時変化がほとんどなくメ
タンガスセンサ素子として使用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は熱処理の前後におけるスパッタリングガス圧力
と超微粒子ガスセンサの充填密度を示す線図、第2図は
熱処理の@汝における超微粒子ガスセンサの表面組織図
、第3図は熱処理の前後における超微粒子ガスセンサの
ガス選択性金示す線図、第4(凶はスパッタ膜の断面図
、第5図は表面クラックの幅とカス選択性の関係図であ
る。 1・・・熱処理前の光填密1及、2・・・熱処理後の充
填密第1図 スハ0ノヲがス五力(Torr ) 第 Z 図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 11粒径が1μn1以下の金属酸化物超微粒子か集合し
    た膜を、電極を設けた絶縁基板上へ密着して構成し電気
    抵抗変化を測定することによるガス感応部分を有するこ
    とを特徴とするガスセンサ。
JP13770983A 1983-07-29 1983-07-29 ガスセンサ Pending JPS6029653A (ja)

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JP13770983A JPS6029653A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 ガスセンサ

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JP13770983A JPS6029653A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 ガスセンサ

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JPS6029653A true JPS6029653A (ja) 1985-02-15

Family

ID=15204985

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JP13770983A Pending JPS6029653A (ja) 1983-07-29 1983-07-29 ガスセンサ

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JP (1) JPS6029653A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6283641A (ja) * 1985-10-08 1987-04-17 Sharp Corp 電界効果型半導体センサ
JPH02193051A (ja) * 1989-01-20 1990-07-30 Stanley Electric Co Ltd 有機半導体を用いたガスセンサ
JPH04115126A (ja) * 1989-12-26 1992-04-16 Barnstead Thermolyne Corp 極低温液体レベル検出装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6283641A (ja) * 1985-10-08 1987-04-17 Sharp Corp 電界効果型半導体センサ
JPH02193051A (ja) * 1989-01-20 1990-07-30 Stanley Electric Co Ltd 有機半導体を用いたガスセンサ
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