JPS603149A - 厚膜回路の製造方法 - Google Patents
厚膜回路の製造方法Info
- Publication number
- JPS603149A JPS603149A JP58111231A JP11123183A JPS603149A JP S603149 A JPS603149 A JP S603149A JP 58111231 A JP58111231 A JP 58111231A JP 11123183 A JP11123183 A JP 11123183A JP S603149 A JPS603149 A JP S603149A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor
- paste
- contact
- substrate
- thick film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はラジオ、テレビ、ビデオテープレコーダー等に
利用可能な厚膜回路の製造方法に関するものである。
利用可能な厚膜回路の製造方法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
第1図は厚膜回路の一例を示す。アルミテセラミック製
の基板100の上面および下面に印刷された厚膜ペース
トは乾燥および焼成されて第1の導体1o1 、第2の
導体1o2.抵抗体103a。
の基板100の上面および下面に印刷された厚膜ペース
トは乾燥および焼成されて第1の導体1o1 、第2の
導体1o2.抵抗体103a。
1o3bを形成している。104は、スル叶−ル内に形
成された上面の導体101と下面の導体102を絡ぐ、
経絡導体であり、両面に厚膜回路を形成した回路基板を
なしている。
成された上面の導体101と下面の導体102を絡ぐ、
経絡導体であり、両面に厚膜回路を形成した回路基板を
なしている。
従来、第1図のような両面厚膜回路を形成する工程は、
第2図に示す工程が一般的であった。すなわち、まず表
面導体印刷工程biCでセラミック製の基板100の片
面に銀−パラジウム金属粉を含む導体ペーストをスクリ
ーン法により印刷する。
第2図に示す工程が一般的であった。すなわち、まず表
面導体印刷工程biCでセラミック製の基板100の片
面に銀−パラジウム金属粉を含む導体ペーストをスクリ
ーン法により印刷する。
次に乾燥・焼成工程Cにて前記導体ペーストの加熱乾燥
を行ない、引き続き、セラミック製の基板を網状コンベ
アベルトにのせて、基板温度が約850℃となるように
赤外線ランプを備えたトンネル炉中を15分間通過させ
て焼成を行ない、第2の導体102を形成する。次いで
表裏反転工程dにてセラミック製の基板10αコ妨の面
が上になるように反転する。次に裏面導体印刷工程eに
て、表面導体印刷工程すと同様に導体ペーストをスクリ
ーン法により印刷する。この際、スルーポール内に導体
ペーストが入る様に、印刷時にスルーボールの下面側を
真空ポンプにより減圧する。次に乾燥・焼成工程f を
乾燥・焼成工程Cと同様に行ない、第1の導体101お
よび経絡導体104を形成する。次に裏面抵抗体印刷工
程qにて導体101にその両端が重なるように抵抗体ペ
ーストをスクリーン法により印刷する。しかるのちに前
記と同様に乾燥・焼成工程りにて焼成し、抵抗体103
a、103bを形成していた。
を行ない、引き続き、セラミック製の基板を網状コンベ
アベルトにのせて、基板温度が約850℃となるように
赤外線ランプを備えたトンネル炉中を15分間通過させ
て焼成を行ない、第2の導体102を形成する。次いで
表裏反転工程dにてセラミック製の基板10αコ妨の面
が上になるように反転する。次に裏面導体印刷工程eに
て、表面導体印刷工程すと同様に導体ペーストをスクリ
ーン法により印刷する。この際、スルーポール内に導体
ペーストが入る様に、印刷時にスルーボールの下面側を
真空ポンプにより減圧する。次に乾燥・焼成工程f を
乾燥・焼成工程Cと同様に行ない、第1の導体101お
よび経絡導体104を形成する。次に裏面抵抗体印刷工
程qにて導体101にその両端が重なるように抵抗体ペ
ーストをスクリーン法により印刷する。しかるのちに前
記と同様に乾燥・焼成工程りにて焼成し、抵抗体103
a、103bを形成していた。
この従来の両面厚膜回路の形成法は、乾燥焼成工程が多
く、乾燥・焼成に要する時間も長いため問題となってい
た。このため本発明者らは、Cの乾燥・焼成工程のうち
焼成工程の省略を試みたが、焼成時に導体102が下面
となり網状コンベアベルトに接するため、その接点では
焼成に必要な空気が十分に得られず不完全焼成となった
。その後、抵抗体ペーストを印刷し再び焼成を行なう場
合であっても、第2の導体102が下面となり網状コン
ベアベルトに接するため、前記の不完全焼成を完壁に防
止することはできなかった。このだめ従来のように印刷
・乾燥・焼成を3回も繰り返すことを余儀なくされてい
た。
く、乾燥・焼成に要する時間も長いため問題となってい
た。このため本発明者らは、Cの乾燥・焼成工程のうち
焼成工程の省略を試みたが、焼成時に導体102が下面
となり網状コンベアベルトに接するため、その接点では
焼成に必要な空気が十分に得られず不完全焼成となった
。その後、抵抗体ペーストを印刷し再び焼成を行なう場
合であっても、第2の導体102が下面となり網状コン
ベアベルトに接するため、前記の不完全焼成を完壁に防
止することはできなかった。このだめ従来のように印刷
・乾燥・焼成を3回も繰り返すことを余儀なくされてい
た。
発明の目的
本発明は、前記従来の欠点を除き、両面厚膜回路を少な
い乾燥・焼成回数で製造でき、また少ないスペースで製
造できるようにするものである。
い乾燥・焼成回数で製造でき、また少ないスペースで製
造できるようにするものである。
発明の構成
本発明者らは前記従来の欠点に鑑み、鋭意研究を重ねた
結果、本発明に至った。すなわち本発明によれば、基板
の両面に厚膜導体を形成し、かつその片面には厚膜抵抗
体を形成した厚膜回路の製造法において、基板の両面に
導体ペーストを印刷し、その両面の導体を1回の工程で
同時に焼成し、導体焼成工程を簡略化している。この時
、焼成炉内で基板の搬送コンベアと接触した面の不完全
焼成部を改良するため、前記搬送コンベアと接触した導
体側の基板面に他の厚膜ペーストを印刷し乾燥したのち
、次いで他の厚膜ペーストを印刷した側の基板面が搬送
コンベアに接触しないようにして、前記他の厚膜ペース
ト乾燥物を焼成するのと同時に、前記導体の不完全焼成
部をも再度焼成して、完全に焼成するものである。さら
にこれを詳しく説明すると、基板の第1の面に導体ペー
ストを印刷する工程と、この基板を反転する工程と、こ
の基板の第2の面に導体ペーストを印刷する工程と、こ
の基板を乾燥および焼成する工程と、この基板を再び反
転する工程と、この基板の第1の面に抵抗体ペースト、
導体ペースト、絶縁体ペーストのうちから選ばれる少な
くとも1種のペーストを印刷する工程と、この基板を再
び乾燥および焼成する工程とからなる厚膜回路の製造方
法である。
結果、本発明に至った。すなわち本発明によれば、基板
の両面に厚膜導体を形成し、かつその片面には厚膜抵抗
体を形成した厚膜回路の製造法において、基板の両面に
導体ペーストを印刷し、その両面の導体を1回の工程で
同時に焼成し、導体焼成工程を簡略化している。この時
、焼成炉内で基板の搬送コンベアと接触した面の不完全
焼成部を改良するため、前記搬送コンベアと接触した導
体側の基板面に他の厚膜ペーストを印刷し乾燥したのち
、次いで他の厚膜ペーストを印刷した側の基板面が搬送
コンベアに接触しないようにして、前記他の厚膜ペース
ト乾燥物を焼成するのと同時に、前記導体の不完全焼成
部をも再度焼成して、完全に焼成するものである。さら
にこれを詳しく説明すると、基板の第1の面に導体ペー
ストを印刷する工程と、この基板を反転する工程と、こ
の基板の第2の面に導体ペーストを印刷する工程と、こ
の基板を乾燥および焼成する工程と、この基板を再び反
転する工程と、この基板の第1の面に抵抗体ペースト、
導体ペースト、絶縁体ペーストのうちから選ばれる少な
くとも1種のペーストを印刷する工程と、この基板を再
び乾燥および焼成する工程とからなる厚膜回路の製造方
法である。
実施例の説明
次に本発明の実施例を第3図により説明する。
第3図aはアルミナ製の基板1上にスクリーン印刷され
た導体ペーストを加熱し、溶剤を乾燥することにより第
1の導体を形成したものを示す。
た導体ペーストを加熱し、溶剤を乾燥することにより第
1の導体を形成したものを示す。
第3図すは次の工程で、基板の上面と下面を反転し、未
だ導体が印刷されていない面に導体をスクリーン印刷法
により印刷し、加熱により溶剤を乾燥させ第2の導体4
を形成したのち、電動機により駆動される網状コンベア
ベルト6に載置された印刷基板を示す。印刷基板は網状
コンベアベルト5により、トンネル状焼成炉の中に送り
込まれる。トンネル状焼成炉は網状コンベアベルト6の
上方および下方に複数の近赤外線ランプが設けられてお
り、基板の上下両面より近赤外線により約850℃の温
度で15〜20分間加熱される。このとき第2の導体4
は上から近赤外線により十分に加熱され、かつ焼成炉内
には酸素を十分に含んだ空気が満たされているので、完
全に焼成されている。第1の導体2は網状コンベアベル
ト5により、ところどころに近赤外線が直接光らずに形
部ができるため温度が十分に上らず、焼成不完全とな′
る場合もあり、まだ網状コンベアベルト5と第1の導体
の接点は十分な酸素が行きわたらずに、焼成不完全の状
態になる場合もあるが、次の工程でこの点は解消される
。3は第1の導体と第2の導体を絡ぐだめの経絡孔であ
る。焼成されて炉を出てきだ基板は室温まで冷却され1
次の工程へ移る。第3図Cは次の工程で、基板の上面と
下面を再び反転し、第1の導体2の形成されている面上
に、その両端が第1の導体2に重なるように抵抗体ペー
ストをスクリーン印刷法により印刷し、加熱により溶剤
を乾燥させ抵抗体6a 、6bを形成したのち、前記導
体(第1の導体および第2の導体)の焼成と同様にして
抵抗体6a、6bを焼成する。ここで前記導体の焼成時
に網状コンベアベルト5に接触していた面は抵抗体6a
、6bを焼成する時には網状コンベアベルトに接触しな
いことになる。したがって前記導体焼成時の焼成、不完
全な状態の部分があっても、抵抗体6a 、6bの焼成
時には十分に焼成され、完全な焼成体となる。
だ導体が印刷されていない面に導体をスクリーン印刷法
により印刷し、加熱により溶剤を乾燥させ第2の導体4
を形成したのち、電動機により駆動される網状コンベア
ベルト6に載置された印刷基板を示す。印刷基板は網状
コンベアベルト5により、トンネル状焼成炉の中に送り
込まれる。トンネル状焼成炉は網状コンベアベルト6の
上方および下方に複数の近赤外線ランプが設けられてお
り、基板の上下両面より近赤外線により約850℃の温
度で15〜20分間加熱される。このとき第2の導体4
は上から近赤外線により十分に加熱され、かつ焼成炉内
には酸素を十分に含んだ空気が満たされているので、完
全に焼成されている。第1の導体2は網状コンベアベル
ト5により、ところどころに近赤外線が直接光らずに形
部ができるため温度が十分に上らず、焼成不完全とな′
る場合もあり、まだ網状コンベアベルト5と第1の導体
の接点は十分な酸素が行きわたらずに、焼成不完全の状
態になる場合もあるが、次の工程でこの点は解消される
。3は第1の導体と第2の導体を絡ぐだめの経絡孔であ
る。焼成されて炉を出てきだ基板は室温まで冷却され1
次の工程へ移る。第3図Cは次の工程で、基板の上面と
下面を再び反転し、第1の導体2の形成されている面上
に、その両端が第1の導体2に重なるように抵抗体ペー
ストをスクリーン印刷法により印刷し、加熱により溶剤
を乾燥させ抵抗体6a 、6bを形成したのち、前記導
体(第1の導体および第2の導体)の焼成と同様にして
抵抗体6a、6bを焼成する。ここで前記導体の焼成時
に網状コンベアベルト5に接触していた面は抵抗体6a
、6bを焼成する時には網状コンベアベルトに接触しな
いことになる。したがって前記導体焼成時の焼成、不完
全な状態の部分があっても、抵抗体6a 、6bの焼成
時には十分に焼成され、完全な焼成体となる。
本実施例では導体ペーストとしてパラジウム/銀粉末と
ガラスフリットと樹脂バインダーと有機溶剤とからなる
公知の導体ペーストを用いた。導体ペーストは前記パラ
ジウム/銀粉末の替りに金捷たけ銅またはニッケルであ
っても良い。抵抗体ペーストは酸化ルテニウム粉末とガ
ラスフリットと樹脂バインダーと有機溶剤とからなる公
知の抵抗体ペーストを用いた。
ガラスフリットと樹脂バインダーと有機溶剤とからなる
公知の導体ペーストを用いた。導体ペーストは前記パラ
ジウム/銀粉末の替りに金捷たけ銅またはニッケルであ
っても良い。抵抗体ペーストは酸化ルテニウム粉末とガ
ラスフリットと樹脂バインダーと有機溶剤とからなる公
知の抵抗体ペーストを用いた。
乃、お、本発明において印刷はスクリーン印刷。
オフセット印刷等が実用可能であるが、他に厚膜ペース
トを吐出するノズルをパターン配線テータ捷たは抵抗体
レイアウトデータに基づき移動させ基板上に直接厚膜ペ
ーストの配線回路または抵抗体を描画する方法であって
も良い。
トを吐出するノズルをパターン配線テータ捷たは抵抗体
レイアウトデータに基づき移動させ基板上に直接厚膜ペ
ーストの配線回路または抵抗体を描画する方法であって
も良い。
発明の効果
以上のように本発明は基板の両面に形成された導体を同
時に焼成する際にできる導体と搬送コンベアの接触部の
悪影響を、搬送コンベアと接触した導体側の面に他の厚
膜ペースト乾燥物を形成し前記他の厚膜ペースト乾燥物
の形成面が搬送コンベアに接触しないように焼成するこ
とにより解決しているだめ、導体部の電気特性が安定し
、両面厚膜回路を少ない焼成回数で製造でき、寸だ少な
いスペースで製造できるようになった。
時に焼成する際にできる導体と搬送コンベアの接触部の
悪影響を、搬送コンベアと接触した導体側の面に他の厚
膜ペースト乾燥物を形成し前記他の厚膜ペースト乾燥物
の形成面が搬送コンベアに接触しないように焼成するこ
とにより解決しているだめ、導体部の電気特性が安定し
、両面厚膜回路を少ない焼成回数で製造でき、寸だ少な
いスペースで製造できるようになった。
第1図は厚膜回路の一例を示す断面図、第2図は従来の
両面厚膜回路の製造工程の一例を示すフローチャート図
、第3図a、第3図す、第3図Cは本発明の一実施例に
おける両面厚膜回路の製造方法の工程中における基板の
断面図である。 1.100・・・・・基板、2,101・・・・・第1
の導体、4,102・・・・・第2の導体、5・・・・
・網状コンベアベルト、6a 、6b 、103a 、
103b=−・・抵抗体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 @3図 2
両面厚膜回路の製造工程の一例を示すフローチャート図
、第3図a、第3図す、第3図Cは本発明の一実施例に
おける両面厚膜回路の製造方法の工程中における基板の
断面図である。 1.100・・・・・基板、2,101・・・・・第1
の導体、4,102・・・・・第2の導体、5・・・・
・網状コンベアベルト、6a 、6b 、103a 、
103b=−・・抵抗体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 @3図 2
Claims (2)
- (1)基板の第1の面に導体ペーストを印刷する工程と
、前記基板を反転する工程と、前記基板の第2の面に導
体ペーストを印刷する工程と、前記基板を乾燥および焼
成する工程と、前記基板を再び反転する工程と、前記基
板の第1の面に抵抗体ペースト、導体ペースト、絶縁体
ペーストのうちから選ばれる少なくとも1種のペースト
を印刷する工程と、前記基板を再び乾燥および焼成する
工程とからなる厚膜回路の製造方法。 - (2)焼成の熱源が近赤外線ランプである特許請求の範
囲第1項に記載の厚膜回路の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111231A JPS603149A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 厚膜回路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58111231A JPS603149A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 厚膜回路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS603149A true JPS603149A (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=14555880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58111231A Pending JPS603149A (ja) | 1983-06-20 | 1983-06-20 | 厚膜回路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603149A (ja) |
-
1983
- 1983-06-20 JP JP58111231A patent/JPS603149A/ja active Pending
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