JPS6035532A - マスタスライス集積回路装置 - Google Patents
マスタスライス集積回路装置Info
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- JPS6035532A JPS6035532A JP58137698A JP13769883A JPS6035532A JP S6035532 A JPS6035532 A JP S6035532A JP 58137698 A JP58137698 A JP 58137698A JP 13769883 A JP13769883 A JP 13769883A JP S6035532 A JPS6035532 A JP S6035532A
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- Japan
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- cells
- basic
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- circuits
- basic cell
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/90—Masterslice integrated circuits
- H10D84/903—Masterslice integrated circuits comprising field effect technology
- H10D84/907—CMOS gate arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/01—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/90—Masterslice integrated circuits
- H10D84/996—Masterslice integrated circuits using combined field effect technology and bipolar technology
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明け、マスタスライス集積回路装置に関し、特に相
異なる駆動能力を有する複数移類の内部セルを有し、回
路設計の自由度を増大したゲートアレイLSI装置に関
する1 〔技術の背景〕 ゲートアレイLSI装儂ハ、半導体チップ上の予め定め
られた位置に入出力セルおよびベーシックセルが配信さ
れておシ顧客側において設訂1された配線パターンを用
いてこれらの各セル間を接続することによって作成され
るものである。したがって、顧客によって各セル間の接
続態様が異なシ、かつ要求される品質、性能等も異なる
ため、ゲートアレイLSI装置としては各セルの性能に
余裕があシかつ股引の自由度が大きいことが必要とさi
]る。
異なる駆動能力を有する複数移類の内部セルを有し、回
路設計の自由度を増大したゲートアレイLSI装置に関
する1 〔技術の背景〕 ゲートアレイLSI装儂ハ、半導体チップ上の予め定め
られた位置に入出力セルおよびベーシックセルが配信さ
れておシ顧客側において設訂1された配線パターンを用
いてこれらの各セル間を接続することによって作成され
るものである。したがって、顧客によって各セル間の接
続態様が異なシ、かつ要求される品質、性能等も異なる
ため、ゲートアレイLSI装置としては各セルの性能に
余裕があシかつ股引の自由度が大きいことが必要とさi
]る。
第1図は、従来形のゲートアレイLSI装置の半導体チ
ップ上の各セルの配置を示す。同図において、半導体チ
ップ1上には、内部セルすなわちベーシックセル2が例
えば行列状に配置されて内部セルアレイ3が形成されて
いる。そして、内部セルアレイ3を取シ囲むように入出
力セル4が配 ゛め1されている。
ップ上の各セルの配置を示す。同図において、半導体チ
ップ1上には、内部セルすなわちベーシックセル2が例
えば行列状に配置されて内部セルアレイ3が形成されて
いる。そして、内部セルアレイ3を取シ囲むように入出
力セル4が配 ゛め1されている。
このように配置されたベーシックセル2および入出力セ
ル40間を接続する配線を設計することによシ、顧客は
所望の機能を有するLSI装置を簡単に入手することが
可能になる。この場合、ベーシックセル2の組合せによ
り所望の機能を実現するための回路を形成し、該回路の
各入出力端子等は周辺の入出力セル4を介して外部回路
と接続される。
ル40間を接続する配線を設計することによシ、顧客は
所望の機能を有するLSI装置を簡単に入手することが
可能になる。この場合、ベーシックセル2の組合せによ
り所望の機能を実現するための回路を形成し、該回路の
各入出力端子等は周辺の入出力セル4を介して外部回路
と接続される。
ところが、第1図の従来形のゲートアレイLSI装置に
おいては、内部セルアレイ3に含まれるベーシックセル
2社すべて同一の駆動能力を不する単一種類のものが用
いられていたため、各ベーシックセル2に接続される配
線の長さによって回路の動作速度が大幅に変動しかつ各
ベーシックセルのファンアウト数も一定数以]に制限さ
れるため、回路設計の自由度を大きくすることができな
いという不都合があった。また、設計の自由度を増大す
るためにすべてのベーシックセル2の出力回路の駆動能
力を充分に大きくしておくと、各ベーシックセルの専有
面積が大きくなシ隼稍度が低下すると共に消費π℃力が
増大する等の不都合を生じ/こ。
おいては、内部セルアレイ3に含まれるベーシックセル
2社すべて同一の駆動能力を不する単一種類のものが用
いられていたため、各ベーシックセル2に接続される配
線の長さによって回路の動作速度が大幅に変動しかつ各
ベーシックセルのファンアウト数も一定数以]に制限さ
れるため、回路設計の自由度を大きくすることができな
いという不都合があった。また、設計の自由度を増大す
るためにすべてのベーシックセル2の出力回路の駆動能
力を充分に大きくしておくと、各ベーシックセルの専有
面積が大きくなシ隼稍度が低下すると共に消費π℃力が
増大する等の不都合を生じ/こ。
本発明の目的は、前述の従来形における問題点に鑑み、
マスタスライス集私回路装楢において、内部セルアレイ
中に駆動能力のllなる蝮数釉類のベーシックセルを配
置するという格想に〃・づき、回路設訂1の自由度を増
大し、回路の動作速度の向上および消費ら4カの低減勢
を可能にしてLSI装置の高性能化を図ることにある。
マスタスライス集私回路装楢において、内部セルアレイ
中に駆動能力のllなる蝮数釉類のベーシックセルを配
置するという格想に〃・づき、回路設訂1の自由度を増
大し、回路の動作速度の向上および消費ら4カの低減勢
を可能にしてLSI装置の高性能化を図ることにある。
そしてこの目的妓、本発明によれば、ベーシックセルア
レイと、該ベーシックセルアレイの周囲に配信され且つ
外部との信号の授受を行なう複数の入出力セルとをuU
lし、該ベーシックセルフレイは複数の第1ベーシツク
セル及び該第1ベーシツクセルよシも大々る出力駆動能
力を有する複数の第2ベーシツクセルとがアレイ状に配
置されてなることを%徴とするマスクスライス集私回路
装置を提供することによって達成される。
レイと、該ベーシックセルアレイの周囲に配信され且つ
外部との信号の授受を行なう複数の入出力セルとをuU
lし、該ベーシックセルフレイは複数の第1ベーシツク
セル及び該第1ベーシツクセルよシも大々る出力駆動能
力を有する複数の第2ベーシツクセルとがアレイ状に配
置されてなることを%徴とするマスクスライス集私回路
装置を提供することによって達成される。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。第2図
は、本発明の1実施例に係わるケートアレイLSI装置
の半導体チップ上の各セルの配置を示す。同図において
、半導体チップ5上には、第1の種類のベーシックセル
6がそれぞれ例えば行列状に配置された4つのベーシッ
クセルアレイ7−J 、 7−217−3 、7−4
、これらの各ベーシックアレイ7−1.7−2.7−3
.7−4の間に十字形に配置された第2のFt類のベー
シックセル8、およびこれらの各ベーシックセルが配置
された内部セルエリアの外周に配植、された入出力セル
9が形成されている。第1の種類のベーシックセル6は
比較的か動能力の小さい出力移を具(+7!iするもの
であり、第2の種類のベーシックセル8は大き々駆動能
力を泊する出力段を(litiえたものである。そして
、出カフアンアウト養(・が比較的少ない回路あるいは
出力端子に接続される配線長がそれほど長くない回路に
は第1の秒剣1のベーシックセル6が用いられ、ファン
アウト数が多い回路および出力配線が長くなる回路には
第2の′41・類のベーシックセル8が用いられる。こ
れによシ、ファンアウト数の増大または出力配線長の増
加によりて回路の動作速度が低下したシあるいは動作の
信頼骨が低下する船の不都合を防止することが可能にな
り、回路設計の自由度を増大させて高性能のLSI装置
を設訂1することができる。また、第2のfIII類の
ベーシックセル8を十字形状に配置して第1の種類のベ
ーシックセル6を4つのブロックすなわち4つのベーシ
ックセルアレイ7−1.7−2.7−3 、7−4 に
分vJシているため、各ベーシックセルアレイ間を接続
する配線を紀2の和類のページアクセル8を経由して行
なうことが可能になシ、各ベーシックセルアレイ間を接
続する長い配線をよシ大なる駆動能力を有するベーシッ
クセルによって駆動することかできるから、回路の動作
速度等が低下することが防止され高速度の回路を実現す
ることができる。
は、本発明の1実施例に係わるケートアレイLSI装置
の半導体チップ上の各セルの配置を示す。同図において
、半導体チップ5上には、第1の種類のベーシックセル
6がそれぞれ例えば行列状に配置された4つのベーシッ
クセルアレイ7−J 、 7−217−3 、7−4
、これらの各ベーシックアレイ7−1.7−2.7−3
.7−4の間に十字形に配置された第2のFt類のベー
シックセル8、およびこれらの各ベーシックセルが配置
された内部セルエリアの外周に配植、された入出力セル
9が形成されている。第1の種類のベーシックセル6は
比較的か動能力の小さい出力移を具(+7!iするもの
であり、第2の種類のベーシックセル8は大き々駆動能
力を泊する出力段を(litiえたものである。そして
、出カフアンアウト養(・が比較的少ない回路あるいは
出力端子に接続される配線長がそれほど長くない回路に
は第1の秒剣1のベーシックセル6が用いられ、ファン
アウト数が多い回路および出力配線が長くなる回路には
第2の′41・類のベーシックセル8が用いられる。こ
れによシ、ファンアウト数の増大または出力配線長の増
加によりて回路の動作速度が低下したシあるいは動作の
信頼骨が低下する船の不都合を防止することが可能にな
り、回路設計の自由度を増大させて高性能のLSI装置
を設訂1することができる。また、第2のfIII類の
ベーシックセル8を十字形状に配置して第1の種類のベ
ーシックセル6を4つのブロックすなわち4つのベーシ
ックセルアレイ7−1.7−2.7−3 、7−4 に
分vJシているため、各ベーシックセルアレイ間を接続
する配線を紀2の和類のページアクセル8を経由して行
なうことが可能になシ、各ベーシックセルアレイ間を接
続する長い配線をよシ大なる駆動能力を有するベーシッ
クセルによって駆動することかできるから、回路の動作
速度等が低下することが防止され高速度の回路を実現す
ることができる。
第3図は、本発明の他の実施例に係わるゲイトアレイL
SI装置の半導体チップ上の各セルの配置を示す。同図
において、半導体チップ10上には駆動能力の小さな第
1のIli類のベーシックセル11が4個と駆動能力の
大きな第2の種類のベーシックセルが2個組合わされて
構成されたベーシックセルユニツ)13が例えば行列状
に配置されてベーシックアレイ14が形成されている。
SI装置の半導体チップ上の各セルの配置を示す。同図
において、半導体チップ10上には駆動能力の小さな第
1のIli類のベーシックセル11が4個と駆動能力の
大きな第2の種類のベーシックセルが2個組合わされて
構成されたベーシックセルユニツ)13が例えば行列状
に配置されてベーシックアレイ14が形成されている。
各ベーシックセルユニツ)13は、例えば第2の15j
類のベーシックセリ12をはさむように第1L:D利1
類のベーシックセル11が配置されて構成されている。
類のベーシックセリ12をはさむように第1L:D利1
類のベーシックセル11が配置されて構成されている。
このようなベーシックセルアレイ14の外周ItCは入
出力セル15が記名、されている。
出力セル15が記名、されている。
第3図の装置においては、ファンアウト数の多い回路お
よび出力配線の長い回路は第2の種類のベーシックセル
12を用いて構成され、その他の回路はUλ1の種類の
ベーシックセルj1を用いて構成することができる。こ
れにより1半導体チップ10内の長い配線をよシ駆動能
力の大きなベーシックセル12によって駆動することが
可能になシ、回路の動作速度を向上させかつ設n1の自
重圧を増大させることが可能になる2゜ 第4図れ、上述の各実施例における各ベーシックセルに
用いられる基本回路の例を示す。第4図(a)の回路は
、トランジスタQ+ およびQ、と、抵抗R1e R,
l R3とを具備するインバータ回路である。この回路
は入力信号INが低レベルの時はトランジスタQ、がオ
ン、トランジスタQ、がオフとなって出力信号OUTが
高レベルとなシ、逆に入力信号INが高レベルの時はト
ランジスタQ。
よび出力配線の長い回路は第2の種類のベーシックセル
12を用いて構成され、その他の回路はUλ1の種類の
ベーシックセルj1を用いて構成することができる。こ
れにより1半導体チップ10内の長い配線をよシ駆動能
力の大きなベーシックセル12によって駆動することが
可能になシ、回路の動作速度を向上させかつ設n1の自
重圧を増大させることが可能になる2゜ 第4図れ、上述の各実施例における各ベーシックセルに
用いられる基本回路の例を示す。第4図(a)の回路は
、トランジスタQ+ およびQ、と、抵抗R1e R,
l R3とを具備するインバータ回路である。この回路
は入力信号INが低レベルの時はトランジスタQ、がオ
ン、トランジスタQ、がオフとなって出力信号OUTが
高レベルとなシ、逆に入力信号INが高レベルの時はト
ランジスタQ。
がオフ、トランジスタQ、がオンとなって出力信号OU
Tが低レベルとなる。
Tが低レベルとなる。
第4 [2,1(a)に示すインバータ回路を前述の各
実施例におけるベーシックセルとして用いる場合は、駆
動能力の小なる第1の種類のベーシックセルにおいては
トランジスタQ!のペース抵抗R1およびコレクタ抵抗
R3を比較的大きな値にしておき、駆動能力の大きな第
2の種類のベーシックセルとして用いる場合にはこれら
の各抵抗R2およびR。
実施例におけるベーシックセルとして用いる場合は、駆
動能力の小なる第1の種類のベーシックセルにおいては
トランジスタQ!のペース抵抗R1およびコレクタ抵抗
R3を比較的大きな値にしておき、駆動能力の大きな第
2の種類のベーシックセルとして用いる場合にはこれら
の各抵抗R2およびR。
をよシ小さくしておけばよい1゜
第4図(b)は第2の枦類のベーシックセルとして用い
られるよシ大なる駆動能力を有するインパーク回路の例
を示す。同図の回路は、トランジスタQs 、Q4−
Qa 、Qa、 タイオードDI、および抵抗R4r
Rt t Re %によってオi1成され、入力信号I
Nが低レベルの詩はトランジスタQ、がオン、トランジ
スタQ、かオフ、トランジスタQsがオン、トランジス
タQ、がオフとなって出力信号OUTが高レベルとなる
。また、入力信号INが高レベルの賭はトランジスタQ
、がオフ、トランジスタQ、がオン、トランジスタQs
がオフ、トランジスタQ、がオンと力って出力信号0T
JTが低レベルになる。
られるよシ大なる駆動能力を有するインパーク回路の例
を示す。同図の回路は、トランジスタQs 、Q4−
Qa 、Qa、 タイオードDI、および抵抗R4r
Rt t Re %によってオi1成され、入力信号I
Nが低レベルの詩はトランジスタQ、がオン、トランジ
スタQ、かオフ、トランジスタQsがオン、トランジス
タQ、がオフとなって出力信号OUTが高レベルとなる
。また、入力信号INが高レベルの賭はトランジスタQ
、がオフ、トランジスタQ、がオン、トランジスタQs
がオフ、トランジスタQ、がオンと力って出力信号0T
JTが低レベルになる。
第4図(b)の回路は出力段がいわゆるトーテムポール
形式となっておりよシ大きな駆動能力を有するから、前
述の各実施例において大きな駆動能力が心安とされる第
2の和知のベーシックセルに用いることができる。この
場合、第1の種類のベーシックセルとしては例えば第4
図(a)の回路が用いられる。
形式となっておりよシ大きな駆動能力を有するから、前
述の各実施例において大きな駆動能力が心安とされる第
2の和知のベーシックセルに用いることができる。この
場合、第1の種類のベーシックセルとしては例えば第4
図(a)の回路が用いられる。
第5図は、前述の各実施例におけるベーシックセルの出
力段の8S成を示す。第5図(a)はNチャンネルMO
8)ランジスタQ7およびPチャンネルMO8)ランジ
スタQ、によって構成されるCMOSバクファ回路を示
す。また第5図(b)はNPN )ランジスタQ、およ
びPNP )ランジスタQ、。によって構成されるバイ
ポーラ型バッファ回路を示す。
力段の8S成を示す。第5図(a)はNチャンネルMO
8)ランジスタQ7およびPチャンネルMO8)ランジ
スタQ、によって構成されるCMOSバクファ回路を示
す。また第5図(b)はNPN )ランジスタQ、およ
びPNP )ランジスタQ、。によって構成されるバイ
ポーラ型バッファ回路を示す。
そして、前述の各実施例において、第1の種類の駆動能
力の少なるベーシックセルとしては第5図falに示す
バッファ回路を出力段とするCMO8型O8回路を用い
、第2の種類のより大きな駆動能力を必要とするベーシ
ックセルの基本回路としては、あるいは該ベーシックセ
ルの出力段としては第5図(blに示すバイポーラ型の
バッファ回路を用いることができる。
力の少なるベーシックセルとしては第5図falに示す
バッファ回路を出力段とするCMO8型O8回路を用い
、第2の種類のより大きな駆動能力を必要とするベーシ
ックセルの基本回路としては、あるいは該ベーシックセ
ルの出力段としては第5図(blに示すバイポーラ型の
バッファ回路を用いることができる。
なお、前述の各実施例において、第2の種類のベーシッ
クセルの部分は、例えば大きな駆動能力をイjするバッ
ファ回路すなわちドライバのみを配置しておき、第1の
81J類のベーシックセルの出力を該ドライバを介して
他の回路に接続するようにしてもよい。また、第2のS
類のベーシックセルの部分には、例えば第1の種類のベ
ーシックセルと組合わせることによって第1の種類のベ
ーシックセルの駆動能力を大きくすることができる素子
、例えば第4図(a)に示す回路における抵抗R1およ
びR1とそれぞれ並列に接続される抵抗等のみを配置し
てもよい 第6図は、第3図のゲートアレイLSI装置のベーシッ
クセルユニット13の詳細々構造の19jlを平■i図
およびA−AM、における断面図にょ少示す。同図のベ
ーシックセルユニツ)lit、fllえばn型基板1G
および該n型基板16上に形成されたp型ウェル17上
に、それぞれ第1の径部のベーシックセルllaおよび
Ilbと、第2の種類のベーシックセル12a および
12bが形成されている。第1の種類のベーシックセル
llaはドレインまたれソースとなる3つのn型拡散層
と2つのゲート電極を具備し2個のnチャンネルMIS
)7ンジスタを構成している。第1の種類のベーシック
セルllbはドレインまたはソースとなる3つのn型拡
散層とベーシックセルllbと共連の2つのゲート電極
を有しておシ、どれらの各%極によって2つのpグヤン
ネルMIS トランジスタを構成している。このような
2つのベーシックセルI 1 a 、 I l +)を
用い、中外パターンによって各電極を適宜接続すること
によシ例えば卯5図(R)のバッファ回路あるいは種々
の基本ゲート回路@を構成することができる。第2のオ
」・類のベーシックセ/+/ 12 aおよび12b
il、それぞ第1.npn型バイポーラトランジスタお
よびpnp型バイポーラトランジスタを有しており、こ
れらのトランジスタを用いることKよシ例えば第5図(
b)のバッファ回路を構成することができる。
クセルの部分は、例えば大きな駆動能力をイjするバッ
ファ回路すなわちドライバのみを配置しておき、第1の
81J類のベーシックセルの出力を該ドライバを介して
他の回路に接続するようにしてもよい。また、第2のS
類のベーシックセルの部分には、例えば第1の種類のベ
ーシックセルと組合わせることによって第1の種類のベ
ーシックセルの駆動能力を大きくすることができる素子
、例えば第4図(a)に示す回路における抵抗R1およ
びR1とそれぞれ並列に接続される抵抗等のみを配置し
てもよい 第6図は、第3図のゲートアレイLSI装置のベーシッ
クセルユニット13の詳細々構造の19jlを平■i図
およびA−AM、における断面図にょ少示す。同図のベ
ーシックセルユニツ)lit、fllえばn型基板1G
および該n型基板16上に形成されたp型ウェル17上
に、それぞれ第1の径部のベーシックセルllaおよび
Ilbと、第2の種類のベーシックセル12a および
12bが形成されている。第1の種類のベーシックセル
llaはドレインまたれソースとなる3つのn型拡散層
と2つのゲート電極を具備し2個のnチャンネルMIS
)7ンジスタを構成している。第1の種類のベーシック
セルllbはドレインまたはソースとなる3つのn型拡
散層とベーシックセルllbと共連の2つのゲート電極
を有しておシ、どれらの各%極によって2つのpグヤン
ネルMIS トランジスタを構成している。このような
2つのベーシックセルI 1 a 、 I l +)を
用い、中外パターンによって各電極を適宜接続すること
によシ例えば卯5図(R)のバッファ回路あるいは種々
の基本ゲート回路@を構成することができる。第2のオ
」・類のベーシックセ/+/ 12 aおよび12b
il、それぞ第1.npn型バイポーラトランジスタお
よびpnp型バイポーラトランジスタを有しており、こ
れらのトランジスタを用いることKよシ例えば第5図(
b)のバッファ回路を構成することができる。
このように、本発明によれば、ベーシックセルとして駆
動能力の異なる複数種類の回路を用いることができるか
ら、ゲイトアレイLSI装置の回路膜引上の自由度が大
幅に増大すると共に、駆動能力不足による動作速度の低
″′F等を的確に防止してよυ高性能のLSI装置を実
現することができる。また、本発明によれば必要な箇所
にのみより大なる駆動能力を有する回路が用いられるか
ら無用の電力消費が防止されかつ回路の集積度をよシ大
きくすることが可能にkる。
動能力の異なる複数種類の回路を用いることができるか
ら、ゲイトアレイLSI装置の回路膜引上の自由度が大
幅に増大すると共に、駆動能力不足による動作速度の低
″′F等を的確に防止してよυ高性能のLSI装置を実
現することができる。また、本発明によれば必要な箇所
にのみより大なる駆動能力を有する回路が用いられるか
ら無用の電力消費が防止されかつ回路の集積度をよシ大
きくすることが可能にkる。
第1図は、従来形のゲートアレイLSI装置−の半導体
チップ上の各セルの配j°を示す平百図、第2図および
第3図は本発明の実施例に係わるゲートアレイLSI装
置の半導体チップ上の各セルの配置を示す平Uri図、
第4図および第5図は第2図および第3図の装置に用い
られる各ベーシックセルの回路構成を示す電気回路図、
ぞして第6図は第3図の装置におけるベーシックセルユ
ニットの構造の1例を示す平面図および断面図である。 1.5,10:半導体チップ、 2:ベーシックセル、 3.7−1.7−2.7−3.7−4.第4 :ベーシ
ックセルアレイ、 4.9,15:入出力セル、 6 、 ] il、 lla、Jib :第1のmMの
ベーシックセル、 8.12.12a、12b :第2の1ff類の4−シ
ックセル、 13:ベーシックセルユニット、 16−〇型基板、 ]7:pへ]ノウエル、 Qt 、Qt 、−Q+o : I・ランジスタ、R1
+ R,l・・・Ro:抵 抗、 DI :ダイオード。 唱許出願人 宮十通株式会社 特許出願代理人 弁理士青米 朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 /−1日 d 第5面 (CI) (b) 手続補正書 昭和59年9 月/10 特許庁長官志 賀 学 殿 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第137+598 号2、発明の
名称 マスクスライス集積回路装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称(522) 富士通株式会社 4、代理人 (外 3 名) 5、補正の対象 (1) #i細書の「特許請求の範囲」の欄(2)明細
書の「発明の詳細な説明」の榴6、補正の内容 (1)明細書の「特許請求の範囲」を別紙のとおり補正
する。 (2)明細書第4頁第12行から第20行に「そしてこ
の目的は、・・・・・・達成される。」とあるのを 「そしてこの目的は、本発明によれば、基板中央部に設
けられたベーシックセルアレイ部と、該ベーシックセル
アレイ部のR1/?iに配置なされ且つ外部との信号の
援受を行なう複数の入出力セルとを具備し、該ベーシッ
クセルアレイ部はアレイ状に配置された複数のベーシッ
クセルユニットを有し、該ベーシックセルユニットは、
PIM工SトランジスタおよびN型M工Sトランジスタ
を有する第1のベーシックセルと、PnP型バイポーラ
トランジスタおよびnun型バイポーラトランジスタを
有する第2のベーシックセルとを具備することを特徴と
するマスタスライス集積回路装置を提供することによっ
て達成される。」と補正する。 Z 添付書類の目録 補正特許請求の範囲 1通 2、特許請求の範囲 とを特徴とするマスクスライス集積回路装置。
チップ上の各セルの配j°を示す平百図、第2図および
第3図は本発明の実施例に係わるゲートアレイLSI装
置の半導体チップ上の各セルの配置を示す平Uri図、
第4図および第5図は第2図および第3図の装置に用い
られる各ベーシックセルの回路構成を示す電気回路図、
ぞして第6図は第3図の装置におけるベーシックセルユ
ニットの構造の1例を示す平面図および断面図である。 1.5,10:半導体チップ、 2:ベーシックセル、 3.7−1.7−2.7−3.7−4.第4 :ベーシ
ックセルアレイ、 4.9,15:入出力セル、 6 、 ] il、 lla、Jib :第1のmMの
ベーシックセル、 8.12.12a、12b :第2の1ff類の4−シ
ックセル、 13:ベーシックセルユニット、 16−〇型基板、 ]7:pへ]ノウエル、 Qt 、Qt 、−Q+o : I・ランジスタ、R1
+ R,l・・・Ro:抵 抗、 DI :ダイオード。 唱許出願人 宮十通株式会社 特許出願代理人 弁理士青米 朗 弁理士西舘和之 弁理士 内 1)幸 男 弁理士 山 口 昭 之 /−1日 d 第5面 (CI) (b) 手続補正書 昭和59年9 月/10 特許庁長官志 賀 学 殿 1、事件の表示 昭和58年 特許願 第137+598 号2、発明の
名称 マスクスライス集積回路装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称(522) 富士通株式会社 4、代理人 (外 3 名) 5、補正の対象 (1) #i細書の「特許請求の範囲」の欄(2)明細
書の「発明の詳細な説明」の榴6、補正の内容 (1)明細書の「特許請求の範囲」を別紙のとおり補正
する。 (2)明細書第4頁第12行から第20行に「そしてこ
の目的は、・・・・・・達成される。」とあるのを 「そしてこの目的は、本発明によれば、基板中央部に設
けられたベーシックセルアレイ部と、該ベーシックセル
アレイ部のR1/?iに配置なされ且つ外部との信号の
援受を行なう複数の入出力セルとを具備し、該ベーシッ
クセルアレイ部はアレイ状に配置された複数のベーシッ
クセルユニットを有し、該ベーシックセルユニットは、
PIM工SトランジスタおよびN型M工Sトランジスタ
を有する第1のベーシックセルと、PnP型バイポーラ
トランジスタおよびnun型バイポーラトランジスタを
有する第2のベーシックセルとを具備することを特徴と
するマスタスライス集積回路装置を提供することによっ
て達成される。」と補正する。 Z 添付書類の目録 補正特許請求の範囲 1通 2、特許請求の範囲 とを特徴とするマスクスライス集積回路装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ベーシックセルアレイと、該ベーシックセルアレイ
の周囲に配置され且つ外部との信号の授受を行なう複数
の入出力セルとを具備し、該ベーシックセルアレイは複
数の第1ベーシツクセル及び該第1ベーシツクセルより
も大なる出力駆動能力を有する複数の第2ベーシツクセ
ルとがアレイ状に配置されてなることを特徴とするマス
タスライス集積回路装置。 2 該第2ベーシツクセルが、複数の第1ベーシツクセ
ルを複数のブロックに分割する様に配置されていること
を特徴とする特許請求の範囲第1m記載のマスタスライ
ス集積回路装置。
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