JPS6041969Y2 - 紫外線洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は冷却効果の優れた紫外線洗浄装置に関するもの
である。

紫外線ランプより発生するオゾンを利用して汚染物を分
解洗浄することが従来より行なわれている。

例えばシリコンウェハーに感光レジストを塗付する際の
前処理として、主洗浄後にシリコンウェハーに付着した
大気中の有機汚染物を塗布直前に追加洗浄することによ
り分解したり、電子ビームによるスパッタリング蒸着の
際に基体に付着した真空ポンプの油などによる有機汚染
物を同じく追加洗浄すると塗布膜あるいは蒸着膜の密着
性を著しく向上できることが明らかになっている。

ところで紫外線ランプ、例えば低圧水銀ランプを点灯す
ると、主として波長が２５４ｎｍの水銀共鳴線の紫外線
が外部に放出され、従として１８５ｎｍの紫外線が、更
には他の波長のものがわずかに放出される。

そして、波長−１８５ｎｍの紫外線によってオゾンが生
威し、次にこのオゾンが波長２５４ｎｍの紫外線により
分解されて発生基の酸素が生威し、この発生基の酸素が
有機汚染物を分解してガス状態で飛散する。

この紫外線ランプは、従来は出力の低い螢光灯タイプの
ものが使用されていたが、近時は電流密度が大きくてア
ーク長あたりの出力が従来の５〜ｗ倍にも達する高出力
低圧水銀灯が開発され、この低圧水銀灯を使用して小型
で洗浄能力の大きい紫外線洗浄装置が実用化されつ）あ
る。

しかしながら、紫外線ランプが高出力なるが故に発熱量
が大きく、装置が小型化することとあいまって装置が高
温となる問題点があり、効率よく冷却することが要請さ
れる。

そこで本考案は、冷却効果が優れ、高出力低圧水銀灯の
紫外線ランプを使用しても高温の弊害が生じることのな
い紫外線洗浄装置を提供することを目的とし、その構成
は、被洗浄体に対置される紫外線ランプを上部に備え、
この紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオゾン
の分解により生成される発生基の酸素により被洗浄体の
表面に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外
線洗浄装置であって、水冷された上部冷却板および側方
冷却板と、上部冷却板との間に空間を形成して、ランプ
の直上部以外に配設された１すのこヨ状の上部ミラーと
、側方冷却板との間に空間を形成して配設された側方ミ
ラーとを備え、ランプの発熱により昇温した空気が上昇
して上部ミラーの間隙より前記空間に入り、両冷却板に
より冷却されながら側方を下降することを特徴とする。

以下に図面に示す実施例に基いて本考案を具体的に説明
する。

第１図は装置の断面図を示すが、装置箱１には灯体２が
内蔵されて二重構造をなし、発生したオゾンが外部に漏
洩しないようになっている。

灯体２の内部上方には紫外線ランプ３としてＵ字状の３
５０Ｗ高出力低圧水銀灯が２本配設され、紫外線が被洗
浄体の置かれる下方に向けて照射される。

灯体２の天井部および側部上方の外面には冷却水路４が
固着されており、その天井部が上部冷却板５、側部上方
が側方冷却板６をそれぞれ構成している。

そして上部ミラー７は、上部冷却板５に棒状に固着され
たミラー保持具９に直交して固着されているが、この上
部ミラー７は紫外線ランプ３の直上部以外の部分に分割
して配設されており、第２図に示す様に１すのこヨ状を
なしている。

従って、上部冷却板５と上部ミラー７との間には空間１
０が形成されるとともに上部ミラー７．７間に間隙が形
成される。

なお、もし紫外線ランプ３の直上部にも上部ミラー７を
設けても、この部分で反射された紫外線はランプ３に再
び吸収されてしまって被洗浄体方向への照射にはほとん
ど寄与せず、上部ミラー７．７間に間隙が形成されるこ
とによって被洗浄体方向への紫外線の照射量が低下する
ことはほとんどない。

次に、側方ミラー８は、側方冷却板６に縦方向に棒状に
固着されたミラー保持具９に固着され、側方ミラー８と
側方冷却板６との間には空間１１が形成されるが、この
縦方向の空間１１は横方向の空間１０と連通している。

而して、冷却水路４に通水するとともに紫外線ランプ３
を点灯して洗浄操作を開始すると、紫外線ランプ３の発
熱により周囲の空気は昇温しで上昇するが、この熱風は
第１図の矢印で示す如く、上部ミラー７．７の間隙から
空間１０、更に空間１１を通って下降するが、空間１０
および空間１１を通過する際に水冷された上部冷却板５
および側方冷却板６およびミラー保持具９により効率よ
く冷却されて紫外線ランプ３の周囲に戻り、この循環を
繰返す。

この様に本考案は、上部ミラー７を１すのこヨ状に配設
し、空間１０および空間１１を形成したので、紫外線ラ
ンプ３で加熱された空気は拡散することなく、全ての熱
風が空間１０および空間１１を通過し、この際に両冷却
板５，６に接触するので確実に冷却されて下降する。

従って冷却効率が非常に優れ、アーク長あたりの出力が
非常に大きな低圧水銀灯を小型の装置内にコンンパクト
に組込んでも装置が高温となる弊害を防止することがで
きる。

そして、水冷方式を採用したので、冷却効率が大きいこ
とはもとより、風冷方式の様に冷却風が装置外部に排出
されず、この排出空気にオゾンが混入して漏洩する恐れ
がない。

また、側方ミラー８を配設したので紫外線の被洗浄体方
向への照射量を増大させることができる利点も有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案実施例の断面図、第２図は同じく要部の
斜視図である。 １・・・・・・装置箱、２・・・・・・灯体、３・・・
・・・紫外線ランプ、４・・・・・・冷却水路、５・・
・・・・上部冷却板、６・・・・・・側方冷却板、７・
・・・・・上部ミラー 訃・・・・・側方ミラー ９・
・・・・・ミラー保持具、１０，１１・・・・・・空間
。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 被洗浄体に対置される紫外線ランプを上部に備え、この
   紫外線ランプの光でオゾンを発生させ、このオゾンの分
   解により生威される発生基の酸素により被洗浄体の表面
   に付着する有機汚染物などを分解して洗浄する紫外線洗
   浄装置であって、水冷された上部冷却板および側方冷却
   板と、上部冷却板との間に空間を形成して、ランプの直
   上部以外に配設された１すのこヨ状の上部ミラーと、側
   方冷却板との間に空間を形成して配設された側方ミラー
   とを備え、ランプの発熱により昇温した空気が上昇して
   上部ミラーの間隙より前記空間に入り、両冷却板により
   冷却されながら側方を下降することを特徴とする紫外線
   洗浄装置。