JPS6048996A - 5−(e)−(2−ブロムビニル)−2’−デソキシウリジン及びその誘導体の製造法 - Google Patents
5−(e)−(2−ブロムビニル)−2’−デソキシウリジン及びその誘導体の製造法Info
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Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(lA)
R
(ここでRは、水素原子、1〜8個の炭素原子の鎖長を
持つアルカノイル基、非置換の又はパラ位に1〜4個の
炭素原子のアルキル基又はハロゲン原子で置換されたベ
ンゾイル基を意味する。)で示される5 −(B) −
(2−ブロムビニル)−2′−デソキシウリジン及びそ
の誘導体の製造法に関する。本発明は医薬分野で有用で
ある。
持つアルカノイル基、非置換の又はパラ位に1〜4個の
炭素原子のアルキル基又はハロゲン原子で置換されたベ
ンゾイル基を意味する。)で示される5 −(B) −
(2−ブロムビニル)−2′−デソキシウリジン及びそ
の誘導体の製造法に関する。本発明は医薬分野で有用で
ある。
5− (F;) −(2〜ブロムビニル)−2′−デソ
キシウリジン(VI、R=H)の製造法は文献で知(5
) られている。この化合物は今日まで最良の抗つイルム剤
であシ、Herpes 81mplec Iビールス及
びVaricella Zoster に対して試験管
内テ及ヒ生体内で最高の効果と最良の選択性を持つ非責
性化学療法剤である( E、DeO’1ercqら、
Free。
キシウリジン(VI、R=H)の製造法は文献で知(5
) られている。この化合物は今日まで最良の抗つイルム剤
であシ、Herpes 81mplec Iビールス及
びVaricella Zoster に対して試験管
内テ及ヒ生体内で最高の効果と最良の選択性を持つ非責
性化学療法剤である( E、DeO’1ercqら、
Free。
Natl、 Acaa、 8ci、USA 76、29
47/1979/; P、O0Mandga’lら、
Graefea Arch、 Ophthal−mol
、216゜261 /1981 / ; E 、 De
Olercqら、 Br1tisch Med。
47/1979/; P、O0Mandga’lら、
Graefea Arch、 Ophthal−mol
、216゜261 /1981 / ; E 、 De
Olercqら、 Br1tisch Med。
J、 2B1.1178/1980/)。
一つの方法は縮合である: 5− (E) −(2−ブ
ロムビニル)−tラシルがビス−〇 −) リメチルシ
リル誘導体として1−クロル−2−アンキシ−3Z5/
−ジー0−p−)シイルーα−り一エリスローベンタフ
ラノースと縮合される。(A。
ロムビニル)−tラシルがビス−〇 −) リメチルシ
リル誘導体として1−クロル−2−アンキシ−3Z5/
−ジー0−p−)シイルーα−り一エリスローベンタフ
ラノースと縮合される。(A。
S、、rones、 R,T、 Wag−ker、 P
、1.Barr及びE。
、1.Barr及びE。
DeOlercq、 O82915254)。
この方法の欠点は、出発物質5−ブロムビニル−ウラシ
ルの複雑な合成と低い収率にある。
ルの複雑な合成と低い収率にある。
生成物(Vl)は単一物では力く、α、βアノマーの混
合物を含み、そのうちβ形のみが実際に重要で(6) ある。5−ブロムビニルーウラシルハ、5−7セチルー
ウラシルから5−ビニル−ウラシルをへて作られる。5
−アセチル−ウラシルから計算して、化合物■(R=H
)の収率は10%よシ小さく、そのうえα異性体とβ異
性体のクロマトグラフ分割が必要である(A、S、Jo
nes、 G。
合物を含み、そのうちβ形のみが実際に重要で(6) ある。5−ブロムビニルーウラシルハ、5−7セチルー
ウラシルから5−ビニル−ウラシルをへて作られる。5
−アセチル−ウラシルから計算して、化合物■(R=H
)の収率は10%よシ小さく、そのうえα異性体とβ異
性体のクロマトグラフ分割が必要である(A、S、Jo
nes、 G。
”li’erhelst及びR、T 、Walkor、
TetraheclronLetters 45.4
415/1976/ )。現在、5− (Fi)−(2
−7’ロムビニル)−ウラシルは5−ホルミル−ウラシ
ルから5− (I) −(2−カルボキシビニル)−ウ
ラシルをへて高収率で作られている。上記の方法による
縮合はもちろん、たとえ縮合の際に用いられる、保護さ
れ、活、性化された糖誘導体が1−α位に塩素を含んで
いてもアノマー(α:β=11)を生じる( P、J、
Barr。
TetraheclronLetters 45.4
415/1976/ )。現在、5− (Fi)−(2
−7’ロムビニル)−ウラシルは5−ホルミル−ウラシ
ルから5− (I) −(2−カルボキシビニル)−ウ
ラシルをへて高収率で作られている。上記の方法による
縮合はもちろん、たとえ縮合の際に用いられる、保護さ
れ、活、性化された糖誘導体が1−α位に塩素を含んで
いてもアノマー(α:β=11)を生じる( P、J、
Barr。
A、S、Jones、 G、Verhelst及びR,
−T 、 Walker 。
−T 、 Walker 。
J 、Ohem、 Sac、 Perkin T 、
1665/1981 / )。
1665/1981 / )。
ベルタストレム法(D 、E 、Bergstrc:m
及びM。
及びM。
K、Ogawa、 JAO8100,8106/197
8/ ’) 及びその変法(A、 S、 Jones、
G、 Verhelst及びRoT。
8/ ’) 及びその変法(A、 S、 Jones、
G、 Verhelst及びRoT。
(7)
Wa’1ker、Tetrahedron Lette
rs、45,4415/1979/)は、縮合法として
好ましい。2′−デソキシウリジンからc−5−水銀−
2′−デソキシウリジンを作)、これをL12Pd01
4 とエチルアクリレートによ!り 5− (Fi)
−(カルボエトキシビニル)−2′−デソキシウリジン
とし、これから加水分解によシ化合物M(R=H)を得
る。出発物質としてβ−2′−デソキシウリジンを用い
るので、アノマー混合物は生じない。
rs、45,4415/1979/)は、縮合法として
好ましい。2′−デソキシウリジンからc−5−水銀−
2′−デソキシウリジンを作)、これをL12Pd01
4 とエチルアクリレートによ!り 5− (Fi)
−(カルボエトキシビニル)−2′−デソキシウリジン
とし、これから加水分解によシ化合物M(R=H)を得
る。出発物質としてβ−2′−デソキシウリジンを用い
るので、アノマー混合物は生じない。
この方法の欠点は、LiPd0A!4及び2′−デンキ
シウリジンが極めて高価であること、及び最終生成物を
カラムクロマトグラフによシ精製しなければならず、従
って製造コストが高くまた煩雑であることにある。
シウリジンが極めて高価であること、及び最終生成物を
カラムクロマトグラフによシ精製しなければならず、従
って製造コストが高くまた煩雑であることにある。
5− (E) −(2−ブロムビニル)−2′−デソキ
シウリジン(式■、R=H)は、5−エチル−21−デ
ソキシウリジンから臭素化によっても作られる( D、
BarWC+1ff及びP、Langen、 Nuq
leicAcids、 Res、 5pec、 Pub
l、Nr、 1 、29〜51 /1975/)。その
際、5−エチル−2′−デソキシ(8) ウリジンのβアノマーが3′、5′−ジー0−アセチル
−5−エチル−21−デンキシウリジンに転化し、次に
元素状臭素により臭素化され、続いて第三級塩基によっ
て脱ハロゲン化水素される。
シウリジン(式■、R=H)は、5−エチル−21−デ
ソキシウリジンから臭素化によっても作られる( D、
BarWC+1ff及びP、Langen、 Nuq
leicAcids、 Res、 5pec、 Pub
l、Nr、 1 、29〜51 /1975/)。その
際、5−エチル−2′−デソキシ(8) ウリジンのβアノマーが3′、5′−ジー0−アセチル
−5−エチル−21−デンキシウリジンに転化し、次に
元素状臭素により臭素化され、続いて第三級塩基によっ
て脱ハロゲン化水素される。
最後に脱アセチル化の後に最終生成物■(R=H)が生
じる。
じる。
この方法の欠点は、出発物質として用いられる5−エチ
ル−21−デンキシウリジンのβアノマーが、5−エチ
ル−21−デソキシウリジンの製造の際に生じるα、β
アノマー混合物の分割によシ得られねばならないことに
ある。さらに、この方法において臭素化の間にアノマー
化が起こシ得て、その際純粋のβ−ジアシル化合物(■
)から1:1の割合のα−及びβ−臭素化合物の混合物
が生じる。
ル−21−デンキシウリジンのβアノマーが、5−エチ
ル−21−デソキシウリジンの製造の際に生じるα、β
アノマー混合物の分割によシ得られねばならないことに
ある。さらに、この方法において臭素化の間にアノマー
化が起こシ得て、その際純粋のβ−ジアシル化合物(■
)から1:1の割合のα−及びβ−臭素化合物の混合物
が生じる。
本発明の目的は、別の出発物質を用いて化合物■の新規
な製造法を創作することである。
な製造法を創作することである。
本発明は、下記の反応式中の一般式■くことでRは先述
の意味を持つ。)の化合物が経済的に好ましい出発物質
であるととを見い出した。
の意味を持つ。)の化合物が経済的に好ましい出発物質
であるととを見い出した。
(9)
弐■で示される5−(E) −(2−ブロムビニル)−
2′−デソキシウリジン及びその誘導体の本発明に従う
製造法は、一般式Wの3/、5/−ジー0−アシル−5
−エチル−21−デンキシウリジンを元素状臭素と反応
させ、続いて得られた一般式Vのジブロム誘導体(式中
Rは先述の意味を持つ。)を、場合によシ単離後に、脱
ハロゲン化水素化し、その後場合によシ脱アシル化する
ことを特徴とする。
2′−デソキシウリジン及びその誘導体の本発明に従う
製造法は、一般式Wの3/、5/−ジー0−アシル−5
−エチル−21−デンキシウリジンを元素状臭素と反応
させ、続いて得られた一般式Vのジブロム誘導体(式中
Rは先述の意味を持つ。)を、場合によシ単離後に、脱
ハロゲン化水素化し、その後場合によシ脱アシル化する
ことを特徴とする。
00)
l M
y Vi
R
■ ■(β:α=:65:35)
(11)
この方法の好ましい実施態様においては、3′。
5′−ジー0−アシル−5−エチル−2′−デソキシウ
リジン(転)好ましくは3/、 sf −p−クロルベ
ンゾイル誘導体のα、βアノマー混合物1モルを、ハロ
ゲン化炭化水素、好ましくはジクロルメタン、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、テトラクロルメタン、又はこれ
らの混合物中に溶解し、そして光の作用下に2〜3モル
の臭素と反応させる。続いて、一般式Vの得られたジブ
ロム化合物を、反応溶液のまま直接に又は単離し改めて
ハロゲン化炭化水素好ましくはジクロルエタン中に溶解
した後に、過剰の第3級塩基たとえばトリエチルアミン
によって脱ハロゲン化水素化し、そして場合によシ最後
に短鎖アルカノール及びアルカリ金属アルコラードによ
ってアシル基を除去する。
リジン(転)好ましくは3/、 sf −p−クロルベ
ンゾイル誘導体のα、βアノマー混合物1モルを、ハロ
ゲン化炭化水素、好ましくはジクロルメタン、クロロホ
ルム、ジクロルエタン、テトラクロルメタン、又はこれ
らの混合物中に溶解し、そして光の作用下に2〜3モル
の臭素と反応させる。続いて、一般式Vの得られたジブ
ロム化合物を、反応溶液のまま直接に又は単離し改めて
ハロゲン化炭化水素好ましくはジクロルエタン中に溶解
した後に、過剰の第3級塩基たとえばトリエチルアミン
によって脱ハロゲン化水素化し、そして場合によシ最後
に短鎖アルカノール及びアルカリ金属アルコラードによ
ってアシル基を除去する。
得られた化合物■は医薬調製において使用できる。化合
物M(R: H又はR−代謝的に分離できるアシル基)
は、純粋な形で、又紘他の作用物質及び/又は結合剤、
溶剤、希釈剤、味つけ(12) 剤及び/又は他の助剤と混合されて用いられる。
物M(R: H又はR−代謝的に分離できるアシル基)
は、純粋な形で、又紘他の作用物質及び/又は結合剤、
溶剤、希釈剤、味つけ(12) 剤及び/又は他の助剤と混合されて用いられる。
この化合物は、自体公知のやシ方で溶液、エマルジョン
、懸濁物、粉末及びペーストとされる。
、懸濁物、粉末及びペーストとされる。
本化合物の医薬における使用は、事実上副作用がない。
本発明に従い作られた新規化合物は、式■でR: 0O
OH,及びR=p−クロルベンゾイルであるものでおる
。これらも本発明の対象である。
OH,及びR=p−クロルベンゾイルであるものでおる
。これらも本発明の対象である。
ジー0−アシル保護された出発化合物■は良好に臭素化
され、その合成は簡単であり、さらにエチル化合物の脱
アシル化及び再アシル化は必要ない。本発明に従う方法
の大きな利点はさらに、臭素化のためにα、βアノマー
混合物を使用できることである。従ってこの方法によっ
て収率が著しく高くなる。すなわち脱臭化水素の条件下
で化合物■のβ形の大部分がトリエチルアミン臭化水素
と共に沈澱され、そして全く多部分のβアノマーのみが
αアノマーと一緒に溶液中に留る。化合物■(純粋のβ
形)から出発して、化合物■の収率は22.5%であシ
、一方θ3) α、β混合物から出発して35.7%が得られる(糖化
合物■から計算)。
され、その合成は簡単であり、さらにエチル化合物の脱
アシル化及び再アシル化は必要ない。本発明に従う方法
の大きな利点はさらに、臭素化のためにα、βアノマー
混合物を使用できることである。従ってこの方法によっ
て収率が著しく高くなる。すなわち脱臭化水素の条件下
で化合物■のβ形の大部分がトリエチルアミン臭化水素
と共に沈澱され、そして全く多部分のβアノマーのみが
αアノマーと一緒に溶液中に留る。化合物■(純粋のβ
形)から出発して、化合物■の収率は22.5%であシ
、一方θ3) α、β混合物から出発して35.7%が得られる(糖化
合物■から計算)。
本発明を以下で実施例により更に説明するが、本発明は
これによシ限定されるもので社ない。
これによシ限定されるもので社ない。
実施例 1
1−1 出発’lE質p−クロルベンシイ/l/ −5
−エチル−2′−デソキシウリジン(βアノマー及びα
、βアノマー)の製造 (a) 2.4−ビスー〇−トリメチルシリルー5−エ
チル−ピリミジン(1) 減圧下で150℃で乾燥された5−エチルウラシル(I
)の1009 (0,71モル)を、200d(1,2
5モル)の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシ
ラザン(EMDS)と24時間かけて還流下で無水条件
で反応させる。
−エチル−2′−デソキシウリジン(βアノマー及びα
、βアノマー)の製造 (a) 2.4−ビスー〇−トリメチルシリルー5−エ
チル−ピリミジン(1) 減圧下で150℃で乾燥された5−エチルウラシル(I
)の1009 (0,71モル)を、200d(1,2
5モル)の1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシ
ラザン(EMDS)と24時間かけて還流下で無水条件
で反応させる。
生じた明澄な溶液から、常圧で過剰のHMDSを留去し
、残渣を減圧下で分留する。
、残渣を減圧下で分留する。
沸点=134℃/1735Pa、収量:197.4&(
97%) (b) 2’−デツキシー31.51−ジー0−p−ク
ロ04) ルベンゾイルーα、β−リボ7ラノオキシルクロライド
億) 10gの2′−デ/ンキシーD−リボースを190−の
無水メタノールに溶解し、続いて1%塩化水素含有無水
メタノール10m1を加え、20分後に作ヤたてのAt
20035gを加える。この混合物を濾紙で濾過し、液
を40℃で回転気化する。蒸気は5mlの無水ピリジン
で回収される。残渣(シロップ)を58−の無水ピリジ
ンに溶解し、そして水冷下に22.5−のp−クロルベ
ンゾイルクロライドを、温度が20℃と40℃2の間に
留るように加える。
97%) (b) 2’−デツキシー31.51−ジー0−p−ク
ロ04) ルベンゾイルーα、β−リボ7ラノオキシルクロライド
億) 10gの2′−デ/ンキシーD−リボースを190−の
無水メタノールに溶解し、続いて1%塩化水素含有無水
メタノール10m1を加え、20分後に作ヤたてのAt
20035gを加える。この混合物を濾紙で濾過し、液
を40℃で回転気化する。蒸気は5mlの無水ピリジン
で回収される。残渣(シロップ)を58−の無水ピリジ
ンに溶解し、そして水冷下に22.5−のp−クロルベ
ンゾイルクロライドを、温度が20℃と40℃2の間に
留るように加える。
フラスコをOaOノ、管で閉じ、室温で16時間放置す
る。50憾の水の添加後に溶液を二度75m1のジクロ
ルメタンで分液ロートによシ抽出し、抽出物を二度10
m1の10%KH(303水溶液で洗い、そしてNa2
EI04で乾燥する。溶剤の蒸発後に、残渣を75候の
無水エーテルに溶解し、溶液を0℃に冷却(15) する。塩酸を飽和した無水氷酢酸200m1を加えた後
K、乾いた塩酸ガスを導入し、白い生成物の沈澱が終る
まで続ける。この生成物を急いでF別し、氷冷したエー
テルで洗−1そして真空デシケータ−中でP2O5及び
KOHで乾燥する。生成物を再結晶することなく精製す
る。
る。50憾の水の添加後に溶液を二度75m1のジクロ
ルメタンで分液ロートによシ抽出し、抽出物を二度10
m1の10%KH(303水溶液で洗い、そしてNa2
EI04で乾燥する。溶剤の蒸発後に、残渣を75候の
無水エーテルに溶解し、溶液を0℃に冷却(15) する。塩酸を飽和した無水氷酢酸200m1を加えた後
K、乾いた塩酸ガスを導入し、白い生成物の沈澱が終る
まで続ける。この生成物を急いでF別し、氷冷したエー
テルで洗−1そして真空デシケータ−中でP2O5及び
KOHで乾燥する。生成物を再結晶することなく精製す
る。
融点118℃、収量24にI(75%)生成物は1:1
のα、βアノマー混合物を含む(薄層クロマトグラフ、
シリカゲルHF254 (Merck AGタイプ60
)、展剤系=クロロホルム/エーテル(7:l)。
のα、βアノマー混合物を含む(薄層クロマトグラフ、
シリカゲルHF254 (Merck AGタイプ60
)、展剤系=クロロホルム/エーテル(7:l)。
(c) 5’、5’−ジー0−p−クロルベンシイルー
5−エチル−2′−デソキシウリジン□□□)88.5
9 (0,51モル)の2,4−ビスー〇−トリメチル
シリルー5−エチル−ピリミジンl)を39001dの
無水アセトニトリルに溶解し、3009のモレキュラー
シーブ(Merck 4A )を直ちに加えたうぇで1
04.6g (0,243モル)の2′−デツキシーs
l、51(16) −シー 0− p−クロルベンシイルーα、β−D−リ
ボフラノシルクロライド(m)及び41.8gの乾燥H
fBr2を加える。撹拌下で2〜3分後に溶液は明澄に
なυ、そして結晶を分離しはじめる6混合物を5時間ゆ
っくりと撹拌し、そして室温で一夜放置する。31,5
1−ジー0−p−クロルベンシイルー4−〇−トリメチ
ルシリルー5−エチル−2′−デソキシウリジンの純粋
なβアノマーが晶出する。
5−エチル−2′−デソキシウリジン□□□)88.5
9 (0,51モル)の2,4−ビスー〇−トリメチル
シリルー5−エチル−ピリミジンl)を39001dの
無水アセトニトリルに溶解し、3009のモレキュラー
シーブ(Merck 4A )を直ちに加えたうぇで1
04.6g (0,243モル)の2′−デツキシーs
l、51(16) −シー 0− p−クロルベンシイルーα、β−D−リ
ボフラノシルクロライド(m)及び41.8gの乾燥H
fBr2を加える。撹拌下で2〜3分後に溶液は明澄に
なυ、そして結晶を分離しはじめる6混合物を5時間ゆ
っくりと撹拌し、そして室温で一夜放置する。31,5
1−ジー0−p−クロルベンシイルー4−〇−トリメチ
ルシリルー5−エチル−2′−デソキシウリジンの純粋
なβアノマーが晶出する。
(c/I ) β化合物(P/)の単離このスラッジを
V過しくP液はα、β 混合物を含む。)、そして150蛾の クロロホルムで三度洗う。フィルター には残渣としてモレキュラーシーブが 残る。−緒にしたクロロホルム溶液を 30%に工溶液50m1と共に分液ロートで振る。クロ
ロホルム相を””04 ”t’乾燥し、濾過し、そして
減圧気化させる。
V過しくP液はα、β 混合物を含む。)、そして150蛾の クロロホルムで三度洗う。フィルター には残渣としてモレキュラーシーブが 残る。−緒にしたクロロホルム溶液を 30%に工溶液50m1と共に分液ロートで振る。クロ
ロホルム相を””04 ”t’乾燥し、濾過し、そして
減圧気化させる。
残渣を96%エタノール4 J ト共K 2(17)
時間沸騰させる。冷却後に室温で純粋
のβ形■化合物が析出し、エタノール
から再結晶する。
融点196〜197℃、収量42.5
g(52,6%:化合物■から計
算して)
(c/I ) α、βアノマー混合物■の単離縮合後に
アセトニトリル溶液として の反応混合物を室温に12時間置き、 そして濾過し、スラッジを150−の クロロホルムに溶解する。残っタモレ キュラーシーブを150−のクロロホ ルムで三度洗う(β形yが溶解する)。
アセトニトリル溶液として の反応混合物を室温に12時間置き、 そして濾過し、スラッジを150−の クロロホルムに溶解する。残っタモレ キュラーシーブを150−のクロロホ ルムで三度洗う(β形yが溶解する)。
アセトニトリルF液(α、βアノマー溶液)を蒸発し、
残渣に1ノのクロロホ ルムを加える。沈澱物が形成され、こ れをV遇する。そして−緒にしたクロ ロホルム溶液全分液ロートで150m1の30%に工溶
液と共に振シ、クロロ ホルム相を分離し、MfSO4で乾燥し、(1B) そして濾過する。次に溶剤を留去し、 残渣を6ノの96%エタノールと共に 50分間還流下に加熱する。室温に冷 却後にα、β形生成物Qv)が析出する。
残渣に1ノのクロロホ ルムを加える。沈澱物が形成され、こ れをV遇する。そして−緒にしたクロ ロホルム溶液全分液ロートで150m1の30%に工溶
液と共に振シ、クロロ ホルム相を分離し、MfSO4で乾燥し、(1B) そして濾過する。次に溶剤を留去し、 残渣を6ノの96%エタノールと共に 50分間還流下に加熱する。室温に冷 却後にα、β形生成物Qv)が析出する。
収量96.!9(総状率73.8%)
異性体比β:α=3:1
1.2 アノマー混合物yからの5− (E) −(2
−プロムビニル) −27−デソキシウリジン(■、R
:H)の製造 26.69 (0,05モル)の3′、5′−ジー〇−
p−りpルベンゾイル−5−エチル−2′−デソキシウ
リジン(α、βアノマー混合物、β:α==3 : 1
)を350−の温無水ジクロルエタンに溶解し、光の作
用下で乾燥窒素流中で次に60m1の無水ジクロルエタ
ン中の6.8 d (0,125モル)の臭素を反応速
度に対応して滴下する(約20〜25分間)。臭素の添
加後に光照射を止め、反応混合物を更に15分間還流下
で窒素を多く流しながら沸騰させる。次に溶剤を回転気
(19) 化させ、20m1の無水ジクロルエタンヲ用いて再び蒸
発させる。続いて残渣(硬い泡)を140m1の無水ジ
クロルエタンに溶解し、そして10.4憾(0,075
モル)のトリエチルアミンを滴下する(約15分間かけ
る)。
−プロムビニル) −27−デソキシウリジン(■、R
:H)の製造 26.69 (0,05モル)の3′、5′−ジー〇−
p−りpルベンゾイル−5−エチル−2′−デソキシウ
リジン(α、βアノマー混合物、β:α==3 : 1
)を350−の温無水ジクロルエタンに溶解し、光の作
用下で乾燥窒素流中で次に60m1の無水ジクロルエタ
ン中の6.8 d (0,125モル)の臭素を反応速
度に対応して滴下する(約20〜25分間)。臭素の添
加後に光照射を止め、反応混合物を更に15分間還流下
で窒素を多く流しながら沸騰させる。次に溶剤を回転気
(19) 化させ、20m1の無水ジクロルエタンヲ用いて再び蒸
発させる。続いて残渣(硬い泡)を140m1の無水ジ
クロルエタンに溶解し、そして10.4憾(0,075
モル)のトリエチルアミンを滴下する(約15分間かけ
る)。
溶液から化合物β形Vi (R=p−クロルベンゾイル
)及びトリエチルアンモニウム臭化水素が析出し、濾過
後にジクロルエタンでそして続いて80%エタノールで
洗う。
)及びトリエチルアンモニウム臭化水素が析出し、濾過
後にジクロルエタンでそして続いて80%エタノールで
洗う。
残液は純粋なβ形V((R=p−クロルベンゾイル)で
ある。
ある。
収量14.8g(0,024モル=48%)脱アセチル
化は下記のように行われる二21.09(0,0545
モル)のM(R=p−クロルベンゾイル)を150d
(0,5モル) ノNaO0i(s 溶液により撹拌下
に室温で73時間で脱アセチル化する。Dowsx 5
0H+イオン交換材によって溶液のpHを5〜6に調節
する。イオン交換材を炉別し、メタノ−v f 洗つ。
化は下記のように行われる二21.09(0,0545
モル)のM(R=p−クロルベンゾイル)を150d
(0,5モル) ノNaO0i(s 溶液により撹拌下
に室温で73時間で脱アセチル化する。Dowsx 5
0H+イオン交換材によって溶液のpHを5〜6に調節
する。イオン交換材を炉別し、メタノ−v f 洗つ。
−緒にしたメタノール分画を(20)
蒸発し、残液を水から再結晶する。
融点175〜176℃、
収量7.49 Vi (R=H) (’92.6%)実
施例 2 純粋なβ形からの5− (E) −(2−ブロムビニ)
v ) −2’−デソキシウリジン(■、R=H)の製
造 純粋のβアノマー3/、5/−ジー0−p−クロルベン
シイルー5−エチル−2′−テソキシウリジン(βN
) 26.79 (o、o sモル)を温無水ジクロル
エタン350m1に溶解し、光及び窒素流のもとて60
m1の無水ジクロルエタン中の6.8rd、(209:
0.125モル)の臭素を反応速度に対応して滴下す
る(20〜25分間)。臭素の添加後に照射を止め1反
応混合物を15分間還流下で窒素を強く流し力から沸騰
させる。HBr残部を含む溶剤を回転気化させる。20
艷の無水ジクロルエタンを用いて気化を再び行う。
施例 2 純粋なβ形からの5− (E) −(2−ブロムビニ)
v ) −2’−デソキシウリジン(■、R=H)の製
造 純粋のβアノマー3/、5/−ジー0−p−クロルベン
シイルー5−エチル−2′−テソキシウリジン(βN
) 26.79 (o、o sモル)を温無水ジクロル
エタン350m1に溶解し、光及び窒素流のもとて60
m1の無水ジクロルエタン中の6.8rd、(209:
0.125モル)の臭素を反応速度に対応して滴下す
る(20〜25分間)。臭素の添加後に照射を止め1反
応混合物を15分間還流下で窒素を強く流し力から沸騰
させる。HBr残部を含む溶剤を回転気化させる。20
艷の無水ジクロルエタンを用いて気化を再び行う。
淡黄色の残渣を140mの無水ジク四ルエ(21)
タンに溶解し、10.4@9 (7,599二〇、07
5モル)のトリエチルアミンを滴下する(約15分間)
。溶液から化合物β形■(R=p−クロルベンゾイル)
及びトリエチルアンモニウム臭化水素が析出し、これを
濾過し、F滓をジクロルエタンで、そして次に80%エ
タノール(これに臭化水素が溶解する)で洗う。残渣(
化合物■、21゜Og==0.0345モル=69%)
を130m1(o、5モル)のNa0OHsによシ室温
で3時間かけて脱アシル化する。DoWθx50H+イ
オン交換材を用いて溶液の陣を5〜6に調節する。イオ
ン交換材を炉別し、メタノールで二度洗う。−緒にした
メタノール分画を回転気化させ、残渣を水から再結晶す
る。
5モル)のトリエチルアミンを滴下する(約15分間)
。溶液から化合物β形■(R=p−クロルベンゾイル)
及びトリエチルアンモニウム臭化水素が析出し、これを
濾過し、F滓をジクロルエタンで、そして次に80%エ
タノール(これに臭化水素が溶解する)で洗う。残渣(
化合物■、21゜Og==0.0345モル=69%)
を130m1(o、5モル)のNa0OHsによシ室温
で3時間かけて脱アシル化する。DoWθx50H+イ
オン交換材を用いて溶液の陣を5〜6に調節する。イオ
ン交換材を炉別し、メタノールで二度洗う。−緒にした
メタノール分画を回転気化させ、残渣を水から再結晶す
る。
融点175〜176℃、
収量10.61!(■、R==H)
(出発物質■から計算して65.7%、M(R==p−
クロルベンソイル)カラ計算して92.3%) (22) 化合物■(R=I)−10ルベンゾイル)(純粋なβ形
)から出発して化合物■の収率は22.5%、一方、α
、β混合物から出発して35.7%の収率が達成される
(糖化合物■に対して)。
クロルベンソイル)カラ計算して92.3%) (22) 化合物■(R=I)−10ルベンゾイル)(純粋なβ形
)から出発して化合物■の収率は22.5%、一方、α
、β混合物から出発して35.7%の収率が達成される
(糖化合物■に対して)。
実施例 6
1.079(2ミリモル)の5−エチル−(sl、sl
−ジ−p−クロルベンゾイル)−2′−テソキシウリジ
ンを25m1の無水クロロホルムに溶解し、500Wの
光照射下に5mlのクロロホルム中の0.11mの臭素
を滴下する。生じるHBrはN2によって吹き出される
。臭素の添加後に0.6mlのトリエチルアミンを加え
、更に10分間加熱する。溶剤を回転気化させ、場合に
よシ予めトリエチルアンモニウムブロマイドを水での抽
出により除き、残渣をエタノールから再結晶する。
−ジ−p−クロルベンゾイル)−2′−テソキシウリジ
ンを25m1の無水クロロホルムに溶解し、500Wの
光照射下に5mlのクロロホルム中の0.11mの臭素
を滴下する。生じるHBrはN2によって吹き出される
。臭素の添加後に0.6mlのトリエチルアミンを加え
、更に10分間加熱する。溶剤を回転気化させ、場合に
よシ予めトリエチルアンモニウムブロマイドを水での抽
出により除き、残渣をエタノールから再結晶する。
収量0.89=66%の5−(2−ブロムビニル) −
s′、51−ジ−p−クロルベンゾイル)−2′−β−
デソキシウリジン。
s′、51−ジ−p−クロルベンゾイル)−2′−β−
デソキシウリジン。
融点235℃
(23)
保護基をメタノール分解によシ除去する。
収量0.4g−理論値の60%、融点170℃実施例
4 340d(1ミリモル)のβ−3′、5′−ジアセチル
−5−エチル−2′−デソキシウリジンを100m1の
Co/4に溶解し、還流及び光の作用下(光ランプ25
0W)に350+II9の臭素を1〜2時間かけて加え
る。続いて溶剤を減圧下で除き、残渣を20鯖のジイソ
プロピルエチルアミンに溶解する。これを還流下で15
分間沸騰させ、次にs −(Fi) −(2−ブロムビ
ニル) −(sl、51−ジアセチル)−2′−β−デ
ソキシウリジンを単離する(融点164℃、アルコール
から針状)か、又は直ちに反応溶液のままで50m1の
アンモニア飽和メタノールでアセチル基を分離する。
4 340d(1ミリモル)のβ−3′、5′−ジアセチル
−5−エチル−2′−デソキシウリジンを100m1の
Co/4に溶解し、還流及び光の作用下(光ランプ25
0W)に350+II9の臭素を1〜2時間かけて加え
る。続いて溶剤を減圧下で除き、残渣を20鯖のジイソ
プロピルエチルアミンに溶解する。これを還流下で15
分間沸騰させ、次にs −(Fi) −(2−ブロムビ
ニル) −(sl、51−ジアセチル)−2′−β−デ
ソキシウリジンを単離する(融点164℃、アルコール
から針状)か、又は直ちに反応溶液のままで50m1の
アンモニア飽和メタノールでアセチル基を分離する。
溶剤の除去後に残渣をクロマトグラフにより精製する。
収量206■=62%の5−(2−ブロムビニル)−2
′−デソキシウリジン、 融点162〜163℃ (24) 実施例 5 600m1の四塩化炭素中の5.49 (10ミリモル
)のx、f、5L−ジアセチル−5−エチル−2′−デ
ンキシウリジン溶液に、還流、撹拌及び光の照射のもと
で1.1mlの臭素を乾燥窒素と共に吹き込む。次に1
0m1のトリエチルアミンを加え、更に15分間加熱す
る。溶液を涙過し、回転気化し、100m1のアンモニ
ア飽和メタノールで脱アセチル化し、そしてシリカゲル
(Merck)上でクロロホルム/メタノール(名)に
より溶離する。
′−デソキシウリジン、 融点162〜163℃ (24) 実施例 5 600m1の四塩化炭素中の5.49 (10ミリモル
)のx、f、5L−ジアセチル−5−エチル−2′−デ
ンキシウリジン溶液に、還流、撹拌及び光の照射のもと
で1.1mlの臭素を乾燥窒素と共に吹き込む。次に1
0m1のトリエチルアミンを加え、更に15分間加熱す
る。溶液を涙過し、回転気化し、100m1のアンモニ
ア飽和メタノールで脱アセチル化し、そしてシリカゲル
(Merck)上でクロロホルム/メタノール(名)に
より溶離する。
収量1.3g、融点169℃
(25)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 5− (E) −(2−ブロムビニル)−2′−
デソキシウリジン及び一般式■ R (ここでRは、1〜8個の炭素原子の鎖長のアルカノイ
ル基、非置換の又はパラ位に144個の炭素原子のアル
キル基又はハ四ゲン原子で置換されたベンゾイル基を意
味する。)で示される誘導体の製造方法において、一般
式■ (1) R で示される3: s/−ジー0−アシル−5−エチル−
2′−デソキシウリジンを元素状臭素と反応させ、次に
得られた一般式Vのジブロム誘導体 R を単離せずに又は単離した後に脱ハロゲン化水素化し、
更に5− (E) −(2−ブロムビニ# ) −2’
−デソキシウリジンを作る場合には脱アシル化すること
を特徴とする方法。 2一般式ヶ)のジアシル誘導体として3’、 5’−ジ
(2) −0−p−クロルベンシイルー5−エチル−2′−デソ
キシウリジンのα、βアノマー混合物を用いる特許請求
の範囲第1項記載の方法。 3、臭素化を光の作用下でハロゲン化炭化水素中で行い
、続いて得られたジブロム誘導体を反応溶液のまま直接
に又は単離し改めてハロゲン化炭化水素に溶解した後に
過剰の第三級塩基で脱ハロゲン化水素化し、そして脱ア
シル化する特許請求の範囲第1項又は第2項記載の方法
。 4、Rが0OOH,である特許請求の範囲第1項記載の
方法。 5、Rがp−クロルベンゾイルである特許請求の範囲第
1項記載の方法。 & 一般式■ Uバ (3) (ここでRは水素原子、1〜8個の炭素原子の鎖長のア
ルカノイル基、非置換の又はパラ位に1〜4個の炭素原
子のアルキル基又はハロゲン原子で置換されたベンゾイ
ル基を意味する。)で示される化合物を含む医薬の調製
法において、式(Vl)の化合物自体を又は他の作用物
質及び/又は結合剤、溶剤、希釈剤、味つけ剤及び/又
は他の助剤と混合して医薬となす方法。 7、Rが代謝的に分離できるアシル基である特許請求の
範囲第6項記載の方法。 8、式(Wl R (ここでRは0OOH3又はp−クロルベンゾイルを意
味する。)で示される5 −(”) −(2(4) 一ブロムビニル)−2′−デソキシウリジン誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15424383A JPS6048996A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 5−(e)−(2−ブロムビニル)−2’−デソキシウリジン及びその誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15424383A JPS6048996A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 5−(e)−(2−ブロムビニル)−2’−デソキシウリジン及びその誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6048996A true JPS6048996A (ja) | 1985-03-16 |
Family
ID=15579961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15424383A Pending JPS6048996A (ja) | 1983-08-25 | 1983-08-25 | 5−(e)−(2−ブロムビニル)−2’−デソキシウリジン及びその誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048996A (ja) |
-
1983
- 1983-08-25 JP JP15424383A patent/JPS6048996A/ja active Pending
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