JPS604941A - 画像形成材料 - Google Patents
画像形成材料Info
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- JPS604941A JPS604941A JP11344683A JP11344683A JPS604941A JP S604941 A JPS604941 A JP S604941A JP 11344683 A JP11344683 A JP 11344683A JP 11344683 A JP11344683 A JP 11344683A JP S604941 A JPS604941 A JP S604941A
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- metallic
- image forming
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/58—Processes for obtaining metallic images by vapour deposition or physical development
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は物理現像により可視画像を得る型の画像形成材
料に関する。
料に関する。
（従来技術）
物理現像は潜像をなす金属現像核を被還元性の金属イオ
ンと還元剤を含む現像液で処理して、成長した金属粒子
からなる可視画像を与°える過、程を言う。
ンと還元剤を含む現像液で処理して、成長した金属粒子
からなる可視画像を与°える過、程を言う。
近年、銀塩の資源的有限性、並びに、価格の高騰及び変
動から非銀塩感光材料が見直されているが非銀塩を用い
たものは未だ例が少ないものである。例えばＦｅ がＦ
ｅ となる反応を利用し、Ｆｅ により貴金属イオンを
還元して金属現像核とし、物理現像を行なう方法やキノ
ン類、水素供与体及び核形成可能な金属化合物を用い、
露光により生成したハイドロキノン類の還元力を利用し
て金属化合物から金属現像核を形成し、物理現像を行な
って銅を析出させる方法（昭和５７年度写真学会年次大
会予稿集）等がその例として挙げられる。しかしこれら
はいずれもせいぜいプリント基板に使用されているに過
ぎないものである。
動から非銀塩感光材料が見直されているが非銀塩を用い
たものは未だ例が少ないものである。例えばＦｅ がＦ
ｅ となる反応を利用し、Ｆｅ により貴金属イオンを
還元して金属現像核とし、物理現像を行なう方法やキノ
ン類、水素供与体及び核形成可能な金属化合物を用い、
露光により生成したハイドロキノン類の還元力を利用し
て金属化合物から金属現像核を形成し、物理現像を行な
って銅を析出させる方法（昭和５７年度写真学会年次大
会予稿集）等がその例として挙げられる。しかしこれら
はいずれもせいぜいプリント基板に使用されているに過
ぎないものである。
本発明者等は物理現像用の画像形成材料として還元され
て金属現像核となる金属化合物とジアゾ基又はアジド基
を有する化合物とを含有する親水性バインダ一層を有す
る画像形成４４月を開示している（特願昭５５−１８２
６６１号）。
て金属現像核となる金属化合物とジアゾ基又はアジド基
を有する化合物とを含有する親水性バインダ一層を有す
る画像形成４４月を開示している（特願昭５５−１８２
６６１号）。
かかる画像形成材料においては、金、白金、パラジウム
、銀、鉄、銅などの金属化合物の還元による生成物を現
像核として物理現像を行なう際に、それ自身光分解性で
あるジアゾ基又はアシト基を有する化合物を用いるとそ
れらの化合物により現像が有効に抑制されるものである
。
、銀、鉄、銅などの金属化合物の還元による生成物を現
像核として物理現像を行なう際に、それ自身光分解性で
あるジアゾ基又はアシト基を有する化合物を用いるとそ
れらの化合物により現像が有効に抑制されるものである
。
この画像形成材料を用いてパターン露光、還元及び物理
現像を行うことにより透過光学濃度が４．０以上ある可
視画像が得られ、階調のある黒色画像も必要に応じて形
成でき、各成分が溶解系であるため解像力が高く、減力
可能である等の利点を有するため、この画像形成材料は
リスフィルムの代替物或いはマスク材などに利用できる
ものである。
現像を行うことにより透過光学濃度が４．０以上ある可
視画像が得られ、階調のある黒色画像も必要に応じて形
成でき、各成分が溶解系であるため解像力が高く、減力
可能である等の利点を有するため、この画像形成材料は
リスフィルムの代替物或いはマスク材などに利用できる
ものである。
以上の様に種々の利点を有する反面、上記画像形成材料
中の現像抑制剤には、ジアゾ化合物、又はアジド化合物
を用いる為にいくつかの欠点を有する。例えばジアゾ化
合物の場合、一般にはジアゾニウム塩化合物が用いられ
る為、耐水性が悪く湿度に対して不安定であり保存性が
悪い。その為安定剤が必要とされるが、中には感材生成
分に悪影響を与え感材インキの安定性の問題が生じる。
中の現像抑制剤には、ジアゾ化合物、又はアジド化合物
を用いる為にいくつかの欠点を有する。例えばジアゾ化
合物の場合、一般にはジアゾニウム塩化合物が用いられ
る為、耐水性が悪く湿度に対して不安定であり保存性が
悪い。その為安定剤が必要とされるが、中には感材生成
分に悪影響を与え感材インキの安定性の問題が生じる。
又、ジアゾニウム塩化合物、アジド化合物は露光時に分
解し画像形成層中のバインダーと反応し露光部の硬化が
生じ、物理現像時に現像液が浸透しにくく画像の解像性
が悪くなったり逆に現像液の浸透を良くする為、画像形
成層の強度（硬膜度）を低下させること等を行なった場
合、塗膜の溶解、損傷が生じ良好な画像が得られず画像
形成層の強度制御が難しい等の問題が生じる。
解し画像形成層中のバインダーと反応し露光部の硬化が
生じ、物理現像時に現像液が浸透しにくく画像の解像性
が悪くなったり逆に現像液の浸透を良くする為、画像形
成層の強度（硬膜度）を低下させること等を行なった場
合、塗膜の溶解、損傷が生じ良好な画像が得られず画像
形成層の強度制御が難しい等の問題が生じる。
（発明の目的）
本発明は上記従来技術の欠点を解消し、耐水性がすぐれ
、しかも、現像液の浸透性のすぐれた画像形成材料を提
供することにある。
、しかも、現像液の浸透性のすぐれた画像形成材料を提
供することにある。
（発明の構成）
本発明の画像形成材料は、基体表面に画像形成層が形成
され、該画像形成層は還元されて金属現像核となる金属
化合物と現像抑制剤を含有する親水性バインダ一層から
なる画像形成材料において、現像抑制剤としてキノンジ
アジドを含有することを特徴とするものである。
され、該画像形成層は還元されて金属現像核となる金属
化合物と現像抑制剤を含有する親水性バインダ一層から
なる画像形成材料において、現像抑制剤としてキノンジ
アジドを含有することを特徴とするものである。
本発明者等の研究によればナフトキノンジアジド化合物
を現像抑制剤として用いるとナフトキノンジアジド化合
物が光分解しアルカリ可溶性のインデンカルボン酸化合
物となることがらこの化合物を画像形成層に含有するこ
とによシ画像形成材料をアルカリ性物理現像液に浸漬し
て露光部に画像を形成するため、従来技術の欠点が解消
されることが見いだされた。
を現像抑制剤として用いるとナフトキノンジアジド化合
物が光分解しアルカリ可溶性のインデンカルボン酸化合
物となることがらこの化合物を画像形成層に含有するこ
とによシ画像形成材料をアルカリ性物理現像液に浸漬し
て露光部に画像を形成するため、従来技術の欠点が解消
されることが見いだされた。
以下に本発明について詳細に説明する。
本発明の画像形成材料Ａは第１図に示すように基体１の
表面に画像形成層２を有するものである。
表面に画像形成層２を有するものである。
基体１としては、ガラス、木、紙、プラスチックフィル
ム、織布、不織布等の任意の固体材料が用いられるが、
なかでもポリエステルフィルム、トリアセテートフィル
ムなどのプラスチックフィルムが特に好ましく用いられ
る。これら基体１には、必要に応じて、コロナ放電処理
、プライマー処理などの接着性改良のだめの前処理をし
てから、画像形成層−２を設ける。
ム、織布、不織布等の任意の固体材料が用いられるが、
なかでもポリエステルフィルム、トリアセテートフィル
ムなどのプラスチックフィルムが特に好ましく用いられ
る。これら基体１には、必要に応じて、コロナ放電処理
、プライマー処理などの接着性改良のだめの前処理をし
てから、画像形成層−２を設ける。
画像形成層２は、親水性バインダ一層中に、還元されて
金属現像核となる金属錯化合物若しくは金属化合物およ
び現像抑制剤を分散、好ましくは溶解させてなる。
金属現像核となる金属錯化合物若しくは金属化合物およ
び現像抑制剤を分散、好ましくは溶解させてなる。
バインダーとしては、たとえば、ゼラチン、カゼイン、
グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子、カ
ルボキンメチルセルロース、卵白アルブミン、ポリビニ
ルアルコール（部分ケン化ポリ酢酸ビニル）、ポリアク
リル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合体などが
用いられるが、水溶性ないし親水性樹脂である限りにお
いて、上記以外のものも使用可能である。
グルー、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子、カ
ルボキンメチルセルロース、卵白アルブミン、ポリビニ
ルアルコール（部分ケン化ポリ酢酸ビニル）、ポリアク
リル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、
ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合体などが
用いられるが、水溶性ないし親水性樹脂である限りにお
いて、上記以外のものも使用可能である。
次に還元されて金属現像核となる金属錯化合物若しくは
金属化合物について説明する。
金属化合物について説明する。
まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
はパラジウム、金、銀、白金、銅等の責なる金属の錯化
合物が用いられ、これらの金属のイオンに対し電子トチ
−となる配位子としては通常知られているものを用いる
ことができ、例えば錯化合物として次のようなものを挙
げることができる。： ビス（エチレンジアミン）パラジウム（■）塩−ジクロ
ロエチレンジアミンパラジウムｆＵ）塩、ジクロロ（エ
チレンジアミン）白金（■塩、テトラクロロジアンミン
白金側塩、ジクロロビス（エチレンジアミン）白金（閉
場、テトラエチルアンモニウム銅（Ｉｌｌ塩、ビス（エ
チレンジアミン銅） （ＩＩ）塩。
はパラジウム、金、銀、白金、銅等の責なる金属の錯化
合物が用いられ、これらの金属のイオンに対し電子トチ
−となる配位子としては通常知られているものを用いる
ことができ、例えば錯化合物として次のようなものを挙
げることができる。： ビス（エチレンジアミン）パラジウム（■）塩−ジクロ
ロエチレンジアミンパラジウムｆＵ）塩、ジクロロ（エ
チレンジアミン）白金（■塩、テトラクロロジアンミン
白金側塩、ジクロロビス（エチレンジアミン）白金（閉
場、テトラエチルアンモニウム銅（Ｉｌｌ塩、ビス（エ
チレンジアミン銅） （ＩＩ）塩。
更に金属の錯化合物を形成する配位子としては、２力所
以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤を
用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いため
に好適である。キレート化剤としては第１級、第２級若
しくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケトン
類を挙げることができ、より具体的には次のようなもの
を挙げることができる； ジメチルグリオキシム、ジチゾン、オキシン、アセチル
アセトン、グリシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリ
ロ三酢酸、ウラミルニ酢酸。
以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤を
用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いため
に好適である。キレート化剤としては第１級、第２級若
しくは第３級アミン類、オキシム類、イミン類、ケトン
類を挙げることができ、より具体的には次のようなもの
を挙げることができる； ジメチルグリオキシム、ジチゾン、オキシン、アセチル
アセトン、グリシン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリ
ロ三酢酸、ウラミルニ酢酸。
上記のキレート化剤を用いたものとしてはビス（２、２
’−ビピリジン）パラジウム（Ｉｌｌ塩、ビス（アセチ
ルアセトナート）パラジウム（Ｉｆ）、ビス（Ｎ、Ｎ−
ジエチルエチレンジアミン）銅（ｎ）塩、ビス（２、２
’−ビピリジン）銅（Ｉｆ）塩、ビス（１，１０−フェ
ナントロリン）銅（ＩＩ） ｍ、ビス（ジメチルグリオ
キシマート）銅（■）、ビス（アセチルアセトナート）
銅（ｎ）、ビス（アセチルアセトナート）白金（Ｉｌｌ
などが好ましい。
’−ビピリジン）パラジウム（Ｉｌｌ塩、ビス（アセチ
ルアセトナート）パラジウム（Ｉｆ）、ビス（Ｎ、Ｎ−
ジエチルエチレンジアミン）銅（ｎ）塩、ビス（２、２
’−ビピリジン）銅（Ｉｆ）塩、ビス（１，１０−フェ
ナントロリン）銅（ＩＩ） ｍ、ビス（ジメチルグリオ
キシマート）銅（■）、ビス（アセチルアセトナート）
銅（ｎ）、ビス（アセチルアセトナート）白金（Ｉｌｌ
などが好ましい。
還元されて金属現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅等の貴なる金属の塩化物、
硝酸塩などの水溶性塩、たとえば無電解メッキのアクチ
ベーター液中に含まれる塩化パラジウム、硝酸銀、４塩
化水素金などの塩も用いられ、特にパラジウムの塩が好
ましく用いられる。
ラジウム、金、銀、白金、銅等の貴なる金属の塩化物、
硝酸塩などの水溶性塩、たとえば無電解メッキのアクチ
ベーター液中に含まれる塩化パラジウム、硝酸銀、４塩
化水素金などの塩も用いられ、特にパラジウムの塩が好
ましく用いられる。
現像抑制剤としては、キノンジアジド化合物が用いられ
、特に以下のＯ−ナフトキノン化合物が使用される； ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸、ナ
フトキノン−↓、２−ジアジドー４−スルホン酸、また
これらスルホン酸の塩、更にナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸から得られる下記式（１）のエ
ステル誘導体等ナフトキノン−１，２−ジアジド骨格を
持つ限り使用可能である。
、特に以下のＯ−ナフトキノン化合物が使用される； ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸、ナ
フトキノン−↓、２−ジアジドー４−スルホン酸、また
これらスルホン酸の塩、更にナフトキノン−１，２−ジ
アジド−５−スルホン酸から得られる下記式（１）のエ
ステル誘導体等ナフトキノン−１，２−ジアジド骨格を
持つ限り使用可能である。
但し上式（１）において刊は次の（ａ）〜（ｅ）である
。
。
ＣＨ。
（ｄ）ノボラ、り樹脂
（ｅ）ヒドロキシ樹脂
画像形成層２中には上記したノくインダー１００部に対
して金属化合物若しくは金属錯化合物を０．１〜１００
部、特に１〜１０部、ナフトキノンジアジド骨格を有す
る化合物を０．２〜５０部−特に１〜２０部の割合で含
ませることが好ましい。
して金属化合物若しくは金属錯化合物を０．１〜１００
部、特に１〜１０部、ナフトキノンジアジド骨格を有す
る化合物を０．２〜５０部−特に１〜２０部の割合で含
ませることが好ましい。
前記した画像形成材料を用いる画像形成法について説明
すると、まず画像形成層２にたとえば第２図に示すよう
に透過原稿３を介して、パターン露光を行う。これによ
り、露光部２人において、選択的に且つ露光量に応じた
程度にナフトキノンジアジド化合物を分解させる。
すると、まず画像形成層２にたとえば第２図に示すよう
に透過原稿３を介して、パターン露光を行う。これによ
り、露光部２人において、選択的に且つ露光量に応じた
程度にナフトキノンジアジド化合物を分解させる。
光源としては前記したナフトキノンジアジド化合物を分
解できる光源ならば任意のものが用いられる。
解できる光源ならば任意のものが用いられる。
次いでこのようにしてパターン露光により、ナフトキノ
ンジアジド化合物がパターン状に分解された潜像を有す
る画像形成層２に還元剤水溶液を浸漬により接触させて
画像形成層２中にほぼ一様に金属現像核を発生させる。
ンジアジド化合物がパターン状に分解された潜像を有す
る画像形成層２に還元剤水溶液を浸漬により接触させて
画像形成層２中にほぼ一様に金属現像核を発生させる。
還元剤としては、塩化第１スズ、硫酸第１スズ、水素化
ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボラザン、ジエチル
アミンボラザン、トリメチルアミンボラザン、その他ボ
ラザン誘導体、ボラン、ジボラン、メチルジボラン等の
ボラン誘導体、ヒドラジン等を用いることができる。特
に好ましくは、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第１スズ溶
液（Ｗｃｉｓｓ液）あるいは市販の無電−解メツキ用の
センシタイザ−液などが用いられるが、一般には強力な
還元剤であればすべて使用できる。
ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボラザン、ジエチル
アミンボラザン、トリメチルアミンボラザン、その他ボ
ラザン誘導体、ボラン、ジボラン、メチルジボラン等の
ボラン誘導体、ヒドラジン等を用いることができる。特
に好ましくは、酸性塩化第１スズ溶液、硫酸第１スズ溶
液（Ｗｃｉｓｓ液）あるいは市販の無電−解メツキ用の
センシタイザ−液などが用いられるが、一般には強力な
還元剤であればすべて使用できる。
更に、このようにして得られた金属現像核とナフトキノ
ンジアジド化合物の選択的分解による潜像を有する画像
形成層に物理現像液を浸漬により接触させて第３図に示
すごとく露光部に金属現像核を中心として現像液中の金
属が還元により析出した、可視像２Ｂを形成する。
ンジアジド化合物の選択的分解による潜像を有する画像
形成層に物理現像液を浸漬により接触させて第３図に示
すごとく露光部に金属現像核を中心として現像液中の金
属が還元により析出した、可視像２Ｂを形成する。
物理現像液としては、水溶性の被還元性重金属塩および
還元剤を含む水溶液が必要に応じて加温した状態で使用
される。
還元剤を含む水溶液が必要に応じて加温した状態で使用
される。
被還元性重金属塩としては、例えばニッケル、コバルト
、鉄及びクロム等の■ｂ族金属、銅等のＩｂ族金属の水
溶塩が単独で又は混合して使用される。
、鉄及びクロム等の■ｂ族金属、銅等のＩｂ族金属の水
溶塩が単独で又は混合して使用される。
これら被還元性重金属塩は物理現像液中に、たとえば１
０〜］、 ＯＯ９／ｌの割合で含まれる。
０〜］、 ＯＯ９／ｌの割合で含まれる。
還元剤としては、例えば次亜リン酸、次亜リン酸ナトリ
ウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマリ
ン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、ト
リメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジボ
ラン、ジボラザン、ボラゼン、ボラジン、ｔ−フ゛チル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２．５−／レチジン
ボラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン
、ジメチルホスフィンボラン、フェニルアルシンボラン
、ジメチルアルシンボランンボラン、ジエチルスチビン
ボランなど力玉使用できる。
ウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマリ
ン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、ト
リメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジボ
ラン、ジボラザン、ボラゼン、ボラジン、ｔ−フ゛チル
アミンボラザン、ピリジンボラン、２．５−／レチジン
ボラン、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン
、ジメチルホスフィンボラン、フェニルアルシンボラン
、ジメチルアルシンボランンボラン、ジエチルスチビン
ボランなど力玉使用できる。
これら還元剤は、物理現像液中に、たとえし！０、１〜
５ ０ ９／ｌ の割合で用し）られる。
５ ０ ９／ｌ の割合で用し）られる。
（発明の効果）
以上の本発明により現像抑制剤にナフトキノンジアジド
化合物を用いた画像形成材料（↓抑＄１１剤の耐水性が
良く、画像形成層中の）（インダーと露光時に反応し、
露だ部の硬膜度が異常に上がらない為、又、露光部がア
ルカリ可溶性とｌよる為、アルカリ性物理現像が良好に
行なわれ黒色画像を得ることができる。
化合物を用いた画像形成材料（↓抑＄１１剤の耐水性が
良く、画像形成層中の）（インダーと露光時に反応し、
露だ部の硬膜度が異常に上がらない為、又、露光部がア
ルカリ可溶性とｌよる為、アルカリ性物理現像が良好に
行なわれ黒色画像を得ることができる。
（実施例）
以下に本発明を実施例を掲げて更に具体的に説明する。
実施例１
感光液
上記感材をポリエステルフィルム（東し製ルミラーＴ−
１．００）をプラズマ処理した表面にワイヤバーＡ ３
６ により塗布し、８０℃で乾燥し厚み４μｍの塗膜
を得た。作製した感材の感光層に超高圧水銀灯（波長４
０５冊、７５Ｗ）を用いネガフィルムを介して６０秒間
密着露光し次し）で２０℃の還元浴（奥野製薬製、ナイ
フラッド７５４−Ｒ２、アミノボラン系還元剤、５倍希
釈）に２０秒浸漬し更に２０℃物理現像浴（奥野製薬製
、ＴＭＰ化学ニッケル）に１２０秒浸漬い５０線／イン
チ５チの網点の画像が再現された。
１．００）をプラズマ処理した表面にワイヤバーＡ ３
６ により塗布し、８０℃で乾燥し厚み４μｍの塗膜
を得た。作製した感材の感光層に超高圧水銀灯（波長４
０５冊、７５Ｗ）を用いネガフィルムを介して６０秒間
密着露光し次し）で２０℃の還元浴（奥野製薬製、ナイ
フラッド７５４−Ｒ２、アミノボラン系還元剤、５倍希
釈）に２０秒浸漬し更に２０℃物理現像浴（奥野製薬製
、ＴＭＰ化学ニッケル）に１２０秒浸漬い５０線／イン
チ５チの網点の画像が再現された。
又、上記で作製した感材は耐水強度としては十分であり
現像中の塗膜損傷することなく２０℃８０％ＲＨ下で１
０日以上抑制剤は分解することなく抑制効果を維持した
。
現像中の塗膜損傷することなく２０℃８０％ＲＨ下で１
０日以上抑制剤は分解することなく抑制効果を維持した
。
比較例１
感光液
上記感光液を実施例１と同様にして感材を作製し同様に
して露光を行ない、２０℃の還元浴（奥野製薬製ナイク
ラッド７５４几−２５倍希釈）に１５秒浸漬し、更に２
０″Ｇ物理現像浴（奥野製薬製、ＴＭＰ化学ニッケル）
に１００秒浸漬し、１５０線／インチ、５チ網点の画像
が再現された。
して露光を行ない、２０℃の還元浴（奥野製薬製ナイク
ラッド７５４几−２５倍希釈）に１５秒浸漬し、更に２
０″Ｇ物理現像浴（奥野製薬製、ＴＭＰ化学ニッケル）
に１００秒浸漬し、１５０線／インチ、５チ網点の画像
が再現された。
父上記で作製した感材は２０″Ｃ１８０％ＲＨの条件下
で１０日間放置したところ抑制剤の分解により抑制効果
が低下しカプリを生じた。
で１０日間放置したところ抑制剤の分解により抑制効果
が低下しカプリを生じた。
実施例２
感光液
上記感光液けん濁液を実施例１と同様にして感材を作製
し同様にして露光を行ない、２０ ”Ｃ還元浴（奥野製
薬製ナイクラッド７５４４２ ５倍希釈）に１５秒浸漬
し更に２０ ”Ｃ物理現像浴（奥野製薬製ＴＭＰ化学ニ
ッケル）に１２０秒浸漬し１５０線／インチ ５チ網点
の画像が再現された。父上記で作製した感材は２０”Ｃ
８０％ＲＨ下で１０日間以上抑制剤が安定であり抑制効
果を維持した。
し同様にして露光を行ない、２０ ”Ｃ還元浴（奥野製
薬製ナイクラッド７５４４２ ５倍希釈）に１５秒浸漬
し更に２０ ”Ｃ物理現像浴（奥野製薬製ＴＭＰ化学ニ
ッケル）に１２０秒浸漬し１５０線／インチ ５チ網点
の画像が再現された。父上記で作製した感材は２０”Ｃ
８０％ＲＨ下で１０日間以上抑制剤が安定であり抑制効
果を維持した。
第１〜３図は本発明の画像形成材料の画１象形成工程を
示す断面図である。 １・・・・・・・・・支持体 ２・・・・・・・・・画像形成層 （２Ａ・・・露光部、 ２Ｂ・・・可視部）３・・・・
・・・・・透明原稿 Ａ・・・・・・・・・画像形成材料
示す断面図である。 １・・・・・・・・・支持体 ２・・・・・・・・・画像形成層 （２Ａ・・・露光部、 ２Ｂ・・・可視部）３・・・・
・・・・・透明原稿 Ａ・・・・・・・・・画像形成材料
Claims (1)
- 基体表面に画像形成層が形成され、該画像形成層は還元
されて金属現像核となる金属化合物と現像抑制剤を含有
する親水性バインダ一層からなる画像形成材料において
、現像抑制剤としてキノンジアレドを含有することを特
徴とする画像形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11344683A JPS604941A (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11344683A JPS604941A (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 画像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS604941A true JPS604941A (ja) | 1985-01-11 |
Family
ID=14612432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11344683A Pending JPS604941A (ja) | 1983-06-23 | 1983-06-23 | 画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS604941A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218864A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | ヒトｃ反応性タンパクの定量法 |
| JPS62218866A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | ヒトｃ反応性タンパク定量用試薬 |
-
1983
- 1983-06-23 JP JP11344683A patent/JPS604941A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218864A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | ヒトｃ反応性タンパクの定量法 |
| JPS62218866A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Hitachi Chem Co Ltd | ヒトｃ反応性タンパク定量用試薬 |
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