JPS6070532A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はテープ状磁気記録媒体の製造方法、特に詳細に
は磁場配向処理が確実かつ、安定してなされるようにし
た磁気記録媒体の製造方法に関するものである。

近時、磁気記録においてはとみに高密度記録が要求され
ている。高密度記録は磁気記録再生装置や記録方式の改
良、改善によって実現可能であるが、また一方磁気記録
媒体を改良することによっても実現できる。

高密度記録化全実現する磁気記録媒体の改良の一例とし
て電磁変換特性の改善が知られており、特に磁性層の残
留磁束密度（Ｂｒ）と抗磁力（Ｈｃ　）ｖ高め、磁気ヒ
ステリシス曲線の角形形状性（角形性）全向上させるこ
とが効果的であることが知られている。一般的な磁気記
録媒体として従来より、強磁性微粉末を溶媒により溶解
された結合剤中に分散してなる磁性塗布液金、長尺、帯
状の非磁性支持体に塗布したいわゆる磁気テープが知ら
れており、この種の磁気記録媒体において角形性？向上
させる方法として、磁気記録媒体に対して外部磁界全印
加して強磁性微粉末の容易磁化軸全所望方向に配向させ
る方法が公知となっている。このようなテープ状の磁気
記録媒体に対して磁場配向処理金施す具体的技術として
は、例えば第１図に示すように、送出しロール１がら送
り出きれ連続移送されて巻取りロール２に巻き取られる
長尺、帯状の非磁性支持体３に、塗布ヘッド４を用いて
磁性塗布液５全塗布し塗膜５゛全層成い次に上記塗布ヘ
ッド４よりも支持体移送方向下流側（（配設した配向磁
石６によシ塗膜５゛全磁場配向処理し、次にこの配向磁
石６よりも下流側に配置膜した乾燥手段７により塗膜ｓ
ｌｖ乾燥、固化して磁性層全形成する技術が知られてい
る・また第２図に示すように、配向磁石６を乾燥手段７
内に配設することも公知となっている。なおこのような
技術の詳細は例えば、特公昭４．５−２１５４７号、同
５２−２６０２号、同５８−８４７０６号公報等に記載
されている・しかし上記のような従来の方法によって、
充分な角形性金儲える磁気記録媒体ケ得ることは極めて
困難であった。すなわち第１図に示されるような方法に
おいては、塗布ヘッド４から配向磁石６に移送される寸
での間に塗膜が乾燥しやすいので強磁性微粉末の容易磁
化軸が配向磁石６によって配向し難く、他方、配向磁石
６を通過してから乾燥手段７に入るまでの間に、一度配
向した容易磁化１１＋が無配向状態に戻りやすいのであ
る。丑だ第２図に示される方法においては、配向処理後
直ちに乾燥処理が行なわれるから一度配向した容易磁化
軸が元の無配向状態に戻ることは起こり難いが、それで
も容易磁化１１Ｑｉが配向し難いという不具合は上記第
１図の方法におけると同様に発生する。

本発明は、ｌ：記のような事情に鑑みてなされたもので
あり、磁場配向が確実かつ安定して行なわれ、よって角
形性の高い磁性層ｒ形成しうる磁気記録媒体の製造方法
全提供すること全目的とするものである・ 本発明は、前記磁場配向の成否が、磁場配向処理直前の
磁性塗布液粘度に大きく支配されているという知見に基
づいてなされたものであり、本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、連続的に移送される帯状の非磁性支持体上に
前述したような磁性塗布液を塗布する塗布手段全乾燥手
段内に設けて、該乾燥手段内で磁性塗布液の塗布全行な
うようにし、支持体上に層成された塗膜中に含まれる溶
媒が強磁性微粉゛末１００重量部に対して２１０〜５０
０重量部を占めるように該溶媒の蒸発濃度全前記乾燥手
段により制御しつつ、該乾燥手段内に配設した磁場配向
手段により前記塗膜中の強磁性微粉末全所定の方向に配
向処理した後、該塗膜を乾燥、固化することを特徴とす
るものである。

本発明者等の研究により、磁性塗膜の組成全上記のよう
に保って磁場配向処理？施すと磁場配向が確実に行なわ
れることが確認された。そして乾燥手段内に塗布手段゛
と磁場配向手段全役は乾燥手段の制御により上記塗膜の
組成全設定しつつ、磁性塗布液塗布後直ちに磁場配向を
行なうようにしているから、磁性塗布液塗布から磁場配
向処理までの間に塗膜が乾燥して上記組成が変化してし
まうことがなく、磁場配向処理は常に安定して上記組成
の塗膜に対して行なわれるようになる。また磁場配向は
乾燥手段内で行なわれるから、磁場配向処理が施された
塗膜は直ちに乾燥、固化し、したがって一度配向された
強磁性微粉末が無配向状態に戻り難くなっている・以下
、図面？参照して本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第３図は本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施する装
置の一例を示すものである・この第３図の装置において
は、前述した第２図の装置におけると同様に、非磁性支
持体３は送出しロール１から送り出され連続移送されて
巻嘔りロール２に巻き取られる。連続移送される非、鐵
性支持体３は相隣接する２基の乾燥手段１７．２７内を
通過するようになっている・これら乾燥手段１７．２７
はそれぞれ、乾燥風が導入される乾燥風導入口１７ａ。

２７ａと排風口１７ｂ、２７ｂとを備えるチャンバ１７
ｃ、２７ｃｉ有し、各乾燥風導入’０１７　ａ・２７ａ
に連通ずる通路内には一例として蒸気ヒータ１’８　、
２８の加熱部が配設され、これらヒータ１８，２８によ
ってチャンバ１７ｃ、２７ｃ内に乾燥風が送られるよう
になっている。長尺、帯状の非磁性支持体３の移送方向
上流側の乾燥手段２７内には、塗布ヘッド４と該ヘッド
４の下流側に配された配向・磁石６が設けられている。

そしてこの乾燥手段２７用の蒸気ヒータ２８に加熱用蒸
気を供給する蒸気管２９には制御弁２６が介設されてい
る。

連続移送される非磁性支持体３の表面（図において上表
面）には、上記塗布ヘッド４により磁性塗布液５が塗布
され、その塗膜５′が乾燥手段１７　、、２７によって
乾燥され固化して磁性層が形成される。磁性塗布液５は
強磁性微粉末を溶媒により溶解された結合剤（バインダ
ー）中に分散してなるものであり、本発明に使用する強
磁性微粉末としては、ｒ−Ｆｅｚ０３、Ｃｏ含含有ノー
Ｆｅ２０３、Ｆｅ５ｒ４、ｃｏ金含有Ｄ　Ｆｅ５ｒ４．
　ＣｒＯ２、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ合金、Ｃｏ−Ｎｉ　−Ｐｅ
合金等公知の強磁性微粉末が使用でき、具体的には、特
公昭４４−１４０９０号公報、特公昭４５−１８３７２
号公報、特公昭４７−２２０６２号公報、特公昭４７−
２２５１３号公報、特公昭４６−、２８４６６号公報、
特公昭４．６−３８７５５号公報、特公昭４７−４２８
６号公報、特公昭４７−１．２４２２号公報、特公昭４
７−１．７２８４号公報、特公昭４７−、１８５０９号
公報、特公昭４７−１８５７３号公報等に記載されてい
る・ 本発明に使用される結合剤（バインダー）としては従来
公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、紫外
線硬化樹脂またｌＩｉ電子線硬化樹脂やこれらの混合物
が使用される。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１０　、０００〜２００，０００重合度が約２０
０〜５００程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重谷体
、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、メ
タクリル酸ニス妾ル塩化ビニリチン共重合体、メタクリ
ル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンニジストマー
、ナイロン−シリコン系’ｆＮ　脂、ニトロセルロース
−ポリアミド樹脂、ポリ弗化ビニル、塩化ビジＩ）デン
アクリロニトリル共重合体、ブタジェンアクリロニトリ
ル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、
セルロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、
セルロースダイアセテート、セルローストリアセテート
、セルロースプロピオネート、ニトロセルロース等）、
スチレンブタジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ
樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混
合物等が使用されうる。

これらの樹脂の例示は特公昭３７　６８７７Ｍ３９−１
２５２８号、３９−１９２８２号、４０−５３４９号、
４０−２０９０７号、旧−９４６３号、旧−１４０５９
号、４１−１６９８５号、４２−６４２８号、／Ｉ２−
１１６２１号、４３−．４．６２３号、４．３−１５２
０６号、４．４．−２８８９号、４４−１７９４．７号
、４．４−１８２３２号、４５−１４０２０号、４．５
−　］／１５００号、４７−１８５７３号、４．７−２
２０６３号、４．７−２２０６４号、４．７−２２０６
８号、４７−２２０６９号、４．７−２２０７０号、４
７−２７８８６号等の公報になされている。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
２００　、０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解する捷での間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、ニポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、アルキッド樹脂、／リコ′ン樹脂、アクリル系反応樹
脂、ニポキンーボリアミド樹脂、ニトロセルロースメラ
ミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイノシアネート
グンポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイ
ノシアネートプ７ポリマーの混合物、ポリエステルポリ
オールとポリイ′ソシアネートの混合物、尿素ホルムア
ルデヒド ジオール／トリンエニルメタントリイソシアネ−トの混
合物、ポリアミン樹脂及びこれらの混合物等である。

これらの樹脂の例示は特公昭３９　−　８］０３号、４
、０−９７７！’１号、旧−７１９２号、４．１−８０
１６号、４４　−　１４２７５号、４２〜１８１７９号
．　４．３−］、２Ｑ８］号、４．４　−　２８０２３
号、４５　−　１４５０１号、４５−２４９０２号、４
．６　−　１．３１０３号、４．７−２２０６５号、４
７　−　２２０６６号、／１７　−　２２０６７号、４
７　−　２２０７２号、４７　−　２２０７３号、４７
　−　２８０４．５号、４７−２８０４、８号、７１．
７　−　２８９２２号等の公報になされている。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
他に添加剤が加えられる。強磁性微粉末と結合剤との混
合割合は、強磁性微粉末１００重量部に対して結合剤１
０〜２００重量部の範囲に設定される。

添加剤は分散剤、潤滑剤、研磨剤等が加えられる。

分散混練塗布の際に使用する有機溶媒としては、任意の
比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケト／、シクロヘキザノン等のケトン系：メタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコー
ル系：酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチ
ル、酢［グリコール、モノエチルエーテル等のエステル
系・−ｘ　−　７−　ル、クリコールジメチルエーテル
、りｌＪコールモノエチルエーテル、ジオキサンｑ　（
７）　ｙ　ＩＪ　コ−．　ｉしｘ−チル系．ベンゼン、
トルエン、キンレン等のクール系（芳香族炭化水素）：
メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素
、クロロホルム、エチレンクロライド）’　”）ン、ジ
クロルベンゼン等の塩素化炭化水素等力量使用できる。

非磁性支持体３は厚み２５〜］．　Ｏ　Ｏ　ｔｔ程度、
好捷しくは３〜４　０　ｔｔ程度のもの７５°子ｊ彦に
使用される。その素材としてはポ１ノエチンンテレフ゛
タレ〜１・、ポリエチレンナフタレート等ノホリエステ
ル類、ポリプロピレン等のホ１ノオレフイン類、モノ（
・ロースト１ノアセテート、セルロースダイアセテート
等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル等のビニル系＠
ｊ月旨、ポリカーボネ−１・等のプラスチックの他に、
アルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス等
も使用されうる。

支持体３」−へ前記の磁性塗布液５を塗布する方法とし
てはエアードクターコート、）゛レードコート、エアナ
イフコート、スクイズコー　ト　、含浸　コ　ー　ト　
、リ　ノく　ー　ス　ロ　ー　ノｌ／　二１−１・　、
トランスファーロールコート、り゛ラビャコート、キス
コート、キャストコート、スプレィコート等が利用出来
、その他の方法も可り旨であり、これらの具体的説明は
朝食１１τ発１１びつ「コーチインク工学Ｊ　２　５　
３Ｍ　〜２　７　７Ｆｊ（昭和４６。３．２０発行）に
詳細（てＲ己ｉ戊さ′Ｉ′１−ている。

配向磁石６としては、ソレノイド゛コイノ＋−（ｉ＝利
用した電気磁石、あるいは永久磁石のメｙ〕ｊが使用可
能であり、強磁性微粉末の容易１イ１１ｒｌｌ＋を効果
的に配向させるために種々の自己ｉｉ’ｉ力；可能であ
る。

次に以上説明した各月料から特定のものを選択使用し、
第３図の装置によー）てイ［強気ｄ己全に材料ケ製造し
た詳しい実施例について．ｉ苑’Ｊ−１する・ 〔第１実施例〕 次の組成物全ボールミルに入れ充分混練した後さらに結
合剤としてデスモジュールＬ−７５（バイエルｔＪ［ポ
リイソシアネート化合物の商品名）２重量部（以下部と
称する）？加えて、均一に混合分散して磁性塗布液５と
した。

Ｃｏ含有−１−Ｆｅ２Ｏ３粉末（強磁性微粉末）１００
部（窒素吸着比表面積３０ｒｒｔ／グ） ニトロセルロース　（結合剤）　ｌＯ部ポリウレタン二
分子量約３万　（結合剤）　１０部塩化ビニル−酢酸ビ
ニルービ 主ルアルコールの共重合体　（結合剤）　１０部ミリス
チン酸（潤滑剤）　２部 ノンチン　（潤滑剤）　１部 ｎ−酢酸ブチル（溶媒）　２２０部 非磁性支持体３としてポリエステルフィルム全使用し、
連続移送されるこの非磁性支持体３の表面に塗布ヘッド
４を用いて上記磁性塗布液５を塗布した。配向磁石６は
磁束密度１０００ガウス、長さ１ｍのもの全使用し、塗
布速度は５０ｍ／分（すなわち塗膜５′の配向磁石６内
滞在時間は２Ｘ１０”分）゛に設定した。

非磁性支持体３表面に塗布された塗膜５１は乾燥手段］
、　７　、２７によって乾燥、固化させるが、乾燥風温
度全操作する前記制御弁２６を制御して溶媒の蒸発濃度
を制御し、配向磁石６内に入る直前の塗膜５１中の溶媒
が強磁性微粉末１００部に対し２２０部となるように（
つまり塗布ヘッド４と配向磁石６の間で溶媒がほとんど
蒸発しないように）設定した。

上記のようにして、非磁性支持体３表面に塗膜５°が固
化されて磁性層が層成された磁気テープ全作製した。次
に該磁気テープに鏡面出し処理を施したのち、１部２イ
ンチ幅に裁断して試料扁１とし、その水平方向の角形比
（ＳＱ）ｖ測定した。この角形比は残留磁束密度（Ｂｒ
）ｉ飽和磁束密度（Ｂｍ）で除した値である。

比較試料として、上記試料蔦１と材料、塗布液塗布条件
は同一であるが、溶媒の蒸発濃度制御手段金儲えない第
１図、第２図の装置により作製された磁気テープ（それ
ぞれ試料屋２．扁３とする）全用意し、同様に角形比全
測定した。これらの測定結果を以下の第１表に示す。

第　１　表 どのように本発明方法による試料ＡＩの磁気テープは、
従来より非常に得難かった０、９０以上の角形比含有す
るものとなっている。

〔第２実施例〕 次の組成物ケボールミルに入れ充分混練したあと、さら
に結合剤としてデスモジュールＬ−７５（バイエル社製
ポリイソシアネート化合物の商品名）８部を加え、均一
に混合分散して磁性塗布液５とした。

Ｃｏ−含有−γ−Ｆｅ２０３（強磁性微粉末）１００部
（窒素吸着法比表面積３０　ｍ’／　？　）塩化ビニル
ー酢酸ヒニルービニルアルコールの共重合体　（結合剤
）　１　（）部 エポキシ樹脂　（結合剤）　１０部 ジメチルポリシロキサン　（潤滑剤）　１部（２５゛Ｃ
粘度１０００ｃｓ） パルミチン酸ブチル　（潤滑剤）　’　１　部Ａｅ２０
３　（研磨剤）　６部 ｎ−酢酸ブチル　（溶媒）　Ｘ部 溶媒のｎ−酢酸ブチル葡それぞれ１６０部、１８０部、
２００部、２１５部、２２２部。

２３０部として６種類の磁性塗布液５を調製し、これら
磁性塗布液５′（ｉｌ−１第３１２１の装詩ケ用い塗布
条件は前記第１実施例と同様に設定して、ポリエステル
フィルムからなる非線（＜１支持体３に塗布して磁気テ
ープｋ　？！Ｉた。乾燥手段２７における制御弁２６に
よる溶媒蒸発濃度の制御も、第１実施例におけると同様
、塗布ヘッド４と配向磁石６の間で溶媒がほとんど蒸発
しないように行なった。

以上のようにして得られた６種類の磁気テープにそれぞ
れ鏡面出し処理を施したのち、１部２インチ幅に裁断し
て試料Ａ４−扁９を作製し、それぞれの角形比全測定し
た。以下の第２表にその結果を示す。

第　２　表 上記第２表から明らかなように、磁場配向処理時の塗膜
５“の溶媒量が強磁性微粉末１．　Ｏ０重量部に対して
２００重量部以下となると角形比が０．９０に下回り、
極めて顕著な角形比向上効果は得られない。したがって
上記溶媒量は２１０重量部以上に設定することが必要で
あるが、５００重量部を超えると、塗膜の乾燥中に塗膜
面荒れ現象が生じ好丑しくないので５００重量部を上限
とする・ 〔第３実施例〕 次の組成物全ボールミルに入れ充分混練した後さらに結
合剤としてデスモジュールＬ−７５（バイエル社製ポリ
イソ／アネート化合物の商品名）５部を加え、均一に混
合分散して磁性塗布液５とした。

Ｃｏ含有−γ−Ｆ’ｅ２０３粉末（強磁性微粉末）１０
０部（窒素吸着比表面積３５ｍ′／グ） ニトロセルロース　（結合剤）　Ｉ、　０部ポリウレタ
ン二分子量約３万（結合剤）　１０部塩化ヒビニー酢酸
ヒニルービニルアルコールの共重合体　（結合剤）　１
０部 ステアリン酸　（潤滑剤）　２部 ジメチルポリシロキザン　（潤滑剤）　０．５部（］０
０ｃｐ） ｎ−酢酸ブチル　（溶媒）　２００部 ソクロヘキサノン　（溶媒）　３０部 この磁性塗布液５を、第３図の装置を用い塗布条件は前
記第１実施例と同様に設定して、ポリエステルフィルム
からなる非磁性支持体３に塗布して磁気テープを得た。

乾燥手段２７における制御弁２６による溶媒蒸発濃度の
制御も、第１実施例におけると同様、塗布ヘッド４と配
向磁石６の間で溶媒がほとんど蒸発しな゛いように行な
った。

そして配向磁石６として平均磁束密度１５００ガウスで
長さ１ｍのＳ−Ｎ対向永久磁石を用い、非磁性支持体３
の移送速度すなわち塗布液５の塗布速度を変えることに
より塗膜５゛の配向磁石６内滞在時間を下記のように５
通りに設定して５種の試料全作製し、それぞれの試料に
おける角形比全測定した。なお塗膜５′の配向磁石６内
滞在時間は、配向磁石６の長さを支持体移送速度で除し
てめた。角形比の測定結果？以下の第３表に示す。

第　３　表 この第３表から明らかなように、磁」易配向処理時の塗
膜５１の溶媒量全強磁性微粉末１００重量部に対して２
１０重量部以上に設定しても、塗膜５゛の磁場的滞在時
間を小さく設定すると角形比が０．９　ｉ下回ることが
あるので、塗膜５′の磁場的滞在時間は９　Ｘ　１０−
”分易上程度に設定することが望捷しい。なおこの塗膜
５゛の磁場的滞在時間は、塗布速度を小さく設定するこ
とによって高めることが可能であるが、通常の商業的な
磁気記録媒体製造において塗布速度全余りに小さく設定
すると生産性低下全招くので、該塗布速度は低くても５
０ｍ／分程度に設定するのが好ましい。

なお以上説明した第１〜第３実施例においては、塗布ヘ
ッド４と配向磁石６の間で、溶媒がほとんど蒸発しない
ように乾燥手段２７を制御しているが、塗布ヘッド４と
配向磁石６の間で溶媒をある程度蒸発させ、その結果配
向磁石６に入る。直前において塗膜５′中の溶媒量が前
述したような範囲に設定されるように乾燥手段２７を制
御しても構わない。

また第３図の装置においては、塗布ヘッド４が配向磁石
６に近接配置されているが、第４図に示すように、前記
乾燥風導入口２７ａ。

排風口２７ｂ、チャンバ２７Ｃ，ヒータ２８゜蒸気管２
９．制御弁２６と同様の乾燥風導入口３７ａ、排風口３
７ｂ、チャン”３’７ｃ＋ヒータ３８．蒸気管３９．制
御弁３６と？有する乾燥手段３７を、配向磁石６が配設
された乾燥手段２７から離して設置するとともにこの乾
燥手段３７内に塗布ヘッド４を配し。

該乾燥手段３７と乾燥手段２７の双方の制御によって、
配向磁石６に入る直前の塗膜５゛の溶媒量全所望値に設
定するようにしてもよい。

以上詳細に説明した通り本発明方法によれば、極めて高
い角形比を有し高密度記録の要望に応えうる磁気記録媒
体が提供されるものとなる。

【図面の簡単な説明】

第１．第２図は従来の磁気記録媒体の製造方法を実施す
る装置の概略図、 第３図は本発明方法全実施する装置の一例を示す概略図
、 第４図は本発明方法全実施する装置の他の例を示す概略
図である。 １・・・・・・・・・送出しロール　２・・・・・・・
・・巻取りロール３・・・・・・・・・非磁性支持体　
４・・・・・・・・・塗布ヘッド５・・・・・・・・磁
性塗布液　５“・・・・・・・・・塗　膜６・・・・・
・・・・配向磁石 ７．１７，２７．３７・・・乾燥手段 １Ｂ、２８．３８・・・・・・ヒ　−　タ２６．３６・
・・・・・・・・・・・制　御　弁第１頁の続き ０発　明　者　奥　津　俊　光　小田原市扇町≦内 ０発　明　者　藤　山　正　昭　小田原市扇町２：丁目
１旙１号　冨士写真フィルム株式会社：丁目１旙１号　
富士写真フィルム株式会社（自発〉手続補正書 昭和５８年１２月１２日 ２、発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 任　所　神奈川県南足柄市中沼２１０番地名　称　富士
写真フィルム株式会社 ４、代理人 ６、補正により増加する発明の数　な　し７、補正の対
象　明卵１磨のＦ発明の詳細な説明」の欄８、補正の内
容 １）明細書第１１頁第４行 「ニポキシ樹脂」を「■ポキシ樹脂」と訂正する。 ２）同頁第６〜７行

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）連続的に移送される帯状の非磁性支持体上に、強
   磁性微粉末を溶媒によシ溶解された結合剤中に分散して
   なる磁性塗布液を、乾燥手段内に配設した塗布手段によ
   り塗布し、支持体上に層成された塗膜中に含まれる溶媒
   が強磁性微粉末１００重量部に対して２１０〜５００重
   量部を占めるように該溶媒の蒸発濃度全前記乾燥手段に
   よ多制御しつつ、該乾燥手段内に配設した磁場配向手段
   により前記塗膜中の強磁性微粉末？所定の方向に配向処
   理した後、該塗膜全乾燥固化すること？特徴とする磁気
   記録媒体の製造方法・
2. （２）前記塗布液の塗布速度が５０ｍ／分以上であり、
   かつ前記塗膜の磁場配向手段内滞在時間が９　Ｘ　］、
   　０’−３分以上であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。−１−