JPS6095704A - 磁気ヘツドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気ヘットおよびぞの＃造方法に係り、鳴に■
Ｔ且等の部局波信号の高保磁力記録媒体への記＠再生に
好適な磁気ヘッドおよびその製造方法に関するものであ
る。

〔発ツｊの背景〕

従来の磁気ヘッドは、第１図に示すように、トラック幅
と同じ厚さの高飽和磁束密度磁性体才たは磁性積層膜１
１．１１’をそれぞれ非磁性体１２１２’と１３．１３
’とで狭んだ構造のものを突き合わせた構成としである
が、トラック合わせか困難であるなどの欠点を鳴してい
る。

第２図に示す磁気ヘッドは、ギャップ２ｏの近傍のみ・
と高飽オロイム東密展の磁性イ′ｔｈ層脱２１．２１’
とし、これらはそれぞれフェライト等の高透磁率磁性携
料よりなるコア２２．２２’に付着させた構成としヱあ
るが、この場合は、磁性積層膜２１と、コア２２との接
合面２３および磁性積層ＰＭ２１′とコア２２′との接
合面２３′か疑似ギャップとし作用し起−丹生特性が劣
化するという欠点がめる。

丈だ、第３図１こ示す磁気ヘッドは、図示のようなギャ
ップ３０を磁１１４：）ｔＲ層膜３１と３１’の間に形
成し、他の部分はｐＰ磁性体３２とし、磁性積層膜３１
　、３１’はそれぞれ＾透磁フェライト３３，３３’に
付着させた構成としてあり、第２図の磁気ヘッドの欠点
をなくすことができるが、非磁性体３２を充填するとき
に、非磁性体３２か、Ｓ練用再３４に流入して巻線用溝
３４をふさいでし韮うりで、非鋒曲俳３２を充填してギ
ャップ３０そ形成する面そ研磨俊、巻−ｉｉ’ＬＪ４そ
（与力ロエーづ−る必要がめり、このときに磁８績ｍｂ
！Ｘ：ｎ’をリノ断しないように、ρ）つ、非磁性体３
２か残らないように加工するのが困離であるという欠点
がある。

〔発明の目的〕

本発明は上ｉ己に論みつなされ７；もので、その１的と
−ず−るとごろは、尚保磁力記録媒体に対し−Ｃも後れ
た記録再生％性をボし、シアノ・も、上圧性を向上する
ことができる磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する
ことをこめる。

（、ｑ？Ｌ明の概ｉ’＝　） 本発明の弔１の特徴は、それぞれ先端部が山形に楢成さ
イしていて、その先端に作動ギャップ形成面が形成され
た２昭の尚透磁率フェライトブロックの対向表面にそれ
ぞれ被層しであるフェライトより飽和磁束密度が大きい
ＩＱ飽和磁束密度磁性膜による磁路が上記高透磁率フェ
ライトブロックのうぢ少なくとも一方に設けた巻線用溝
の少なくとも一部で切ｌｖＴされた構成の侭、気ヘッド
とした点にある。第２の特徴は、２個の重速磁率フェラ
イト材の加工部にそれぞれトラック閘規ｉｆ＋ｌＪ用の
ははり字形状の溝を設け、少なくとも一方の上記フェラ
イト徊に上記向に直交する方向に巻線用丙）・設ける工
程と、上記２個のフェライト材の加工ｍＪの上記も溝の
表面に上記フェライト材より飽和磁束密度か大きい市飽
第１」磁束密に磁性膜を被層させる工程と、上詑硯性膜
か被層された上記各群に非磁性材を九塙する工程と、上
記非磁性材ならびに上記磁性膜の不要部を除去して所定
のトラック幅の動作ギャップ形成面を形成する工程と、
この動作ギャップ形成面形成工程を終了後上記巻線用溝
内に充填された上記非磁性材および上ｆｆｃＥ巻線用溝
に被層された上記磁性膜の少なくとも一部を研削する工
程と、上記各工程を終了した一対のブロックのうち少な
くとも一方のギャップ形成面に所要の厚さの非磁性層を
形成し、上記一対のブロックをそれぞれのギャップ形成
面か対向するように突き合わせて接合して一体化する工
程と、一体化された上記ブロックを所定の位置にで切断
して磁気ヘッドチップを得る工程を経て磁気ヘッドを製
造するようにした点にある。

〔発明の実施例〕

以下本発明を第４図に示した実施例および第５因、第６
図を用いて詳細に祝明する。

第４図は本発明の磁気ヘッドの実施例を示す要部斜視図
で、第４図（ａ）〜（ｄｌはそれぞれ異なる実施例を示
している。第４図において、３０はキヤノプ、３１．３
１’は高飽和磁束密度磁性積層膜、３２は非磁性体、３
３．３３’はそれぞれ磁性積層膜３１、、ｊｌ’を付層
させである高透磁率フェライト３４は巻線用溝である。

そして、キャップ３００部分においては、尚透磁率フェ
ライト３３．３３’はそれぞれ山形に加工してあり、し
たがって、それぞれ山形の磁性積層膜３１　、３１’の
頭部を突き合わせてキャップ３０ヲ構成しである。

ところで、第４図（ａ）においては、磁性積層膜３１′
の巻線用溝３４の部分はすべて研削した構成としてあり
、第４図（ｂ）〜（ｅ）においては、磁性積層膜３１′
の巻線用溝３４０部分は、それぞれ異なる一部分３５で
研削した構成としである。

したがって、磁性積層膜３１′による磁路は巻線用溝３
４のところで切断されており、磁気ヘッドとしての磁路
は、第５図に破線矢印３６で示したようになるが、高保
磁力記録媒体に高周波信号を記録するときは、磁路断面
積が小さくて飽和しやすいギャップ３０．３０’の近傍
が高飽）口磁束密度磁性積層膜３１　、３１’となって
いるので、十分に記録でき、また、再生時にも十分に性
能を発（軍てさる。篩保磁カメタルテープ（１−１ｃキ
１４０００ｅ）に本発明に係る磁気−・ソドでｉ１録、
再生した結果によれは、第３図に示す磁性積層膜３１’
が巻線用溝３４０部分で切断されていない従来の磁気ヘ
ッドと全く同等の特性が得られた。

次に、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法の一実施例に
ついて、第６図に示した製造工程図にもとづいて説明す
る。

（ａ）　まず、第６図（ａ）に示すよ・うに、胤−Ｚｎ
ポ高透磁率フェライト材４０．４０’の加工面４１ζご
それぞれ図示のようなほぼＷ字形状の壽４２ａ。

４２ｂ　、　４２ａ’　、　４２ｂ’ｆピッチ祠度１μ
ｍにＷ１削加工する（フェライト材４０’ζごついでは
図示省略）。

（ｂ）　次に、フェライト材４０′には、第６図（ｂ）
に示ずように、溝４２ａ’　、　４２ｂ’とほぼ直父す
る方向にほぼＣ字形状の巻線用溝３４を研ｉす加工する
。

（Ｃ）　次に、第６図（Ｃ）に示すように、フェライト
材４０．４０’の加工面側に高飽和磁束密度磁性膜（フ
ェライトより飽和磁束苦瓜か太きい。

なお、積層膜としてもよい）３１．３１’をそれぞれス
パッタ法、蒸着法、メッキ法、気相法などにより付層さ
せる。なお、ここでは、アモルファス合金磁性膜とした
が、Ｆｅ　＝’ＡＩ　−８ｉ系合金系磁性膜あるいはＦ
ｅ　−Ｎｉ系系合金磁性膜もよい。

（ｄ）　次に、第６図（ｄ）に示すように、磁性Ｊｉ３
１．　（（３１′　・）にてコートされたフェライト材
４０（４０′）のｎｕ　４２ａ　、　４２ｂ　（４２ａ
’　、　４２ｂ’　）やフェライト材４０′の巻線用１
′＃３４に低融点ガラスなどの非磁性体３２をアモルフ
ァス合金匝性膜の結晶化温度より低い温贋で元横する。

（ｅ）　次に、充填した非磁性体３２と磁性膜３１　（
３１つの一部を０１削、研磨し、作動ギャップ３０．３
０’（第４図、第５図参照）形成向を形←し、第６図（
ｅ）に示すよつに１−る。この場合１．トラフ　（り幅
ｔを±２μｍの精度で出すようにする。

（ｆ）　次に、第６図（ｆ）に示すように、フェライト
相４θ′の巻線用溝３４に充填された非磁性体３２をほ
ぼＣ字形に成形された砥石でイν［６１」削除する。こ
のとき、磁性膜３１′もすべてＡｌｔ削すれは第４図（
ａ）に示す磁気ヘッドが得られ、磁性膜３１′を部分的
に研１９Ｉｌすれは、その状況に応じて第４図（ｂ）〜
（ｅ）に示す磁気ヘッドが得られる。

なお、第６図（ｆ）の４３は磁性膜３１′が切断されて
いる個所を示す。

（）　次に、溝４２ａ’　、　４２ｂ’と巻線用溝３４
とを加工したフェライト材４０′と溝４２ａ　、　４２
ｂのみを加工したフェライト相４０の接合面（加工側の
而）にそれぞれ５ｉＯｚ　の薄膜をスパッタ法で規制さ
れたキャップ長の厚さに形成し、第６図（ｇ）に示すよ
うに、作動ギャップ向が一致するように突き合イっせて
接合する。なお、接着は低融点カラスを使用して行った
。薄膜はアルミナでもよい。

１）次に、第６図（ｈ）に示すように、接合したフェラ
イトブロック４４からコア厚みＴのヘッドチップ４５を
切り出す。これにより、第４因に示す磁気ヘッドが得ら
れる。

上記した本発明の製造方法の実施例によれば、第６図（
ｇ）に示す接合工程に石いて非磁性体３２が巻線用溝３
４に流入することがないので、歩留りが向上する。また
、製造工程に無理かないので生産性を向上できる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれは、高保磁力記録媒
体に対しても優れた記録再生特性を示し、しかも、製造
にあたり歩留りが向上し、かつ、生産性を同上できると
いう効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図はそれぞれ従来の磁気ヘッドの斜視図、
第４図（ａ）〜（ｅ）はそれぞれ本発明の磁気ヘッドの
異なる実施例を示す斜視図、第５図は第４図の磁気ヘッ
ドの磁路説明図、第６図は本発明の第４図に示す磁気ヘ
ッドの製造方法の一実施例を説明するための製造工程図
である。 ３０．３０’・・・ギャップ ３１．３１’・・・尚飽和磁束密度磁性膜３２・・・非
磁性体 ３３．３３’・・・高透磁率フェライト３４・・・巻線
用溝　３５・・・磁性膜３１′σり切断ｉｆμ３６・・
・磁路 ４０．４０’・・・高透磁率フェライト材４１　・・　
刀ロエαａ ４２　ａ　＋　４２　ｂ　ｒ　４２　ａ’　＋　４２　
ｂ’　・・・％４４・・・フェライトブロック ４５・・・ヘッドチップ 第１凶　第２０ 第１ ２ 拓４　口 （ｆｅ）　第Ｓ躬

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　少なくとも一方には巻線用溝が設けてあり、それ
   ぞれ先端ｇｌｉを山形に構成してその先端に作動ギャッ
   プ形成面を形成して対向表面にそれぞれフェライトより
   飽和磁束密度が大きい高飽和磁束密度磁匪膜を被着させ
   である２個の高透磁率フェライトブロックを備え、該２
   個の高透磁率フェライトブロックを前記作動ギャップ形
   成面の＾飽和磁束密度両性膜同志が対接する如く突き合
   わせて接合し、前記２個の高透磁率フェライトブロック
   間に生ずる前記巻蕨用溝以外の空ｊＩｊには非磁性材を
   充填しである磁気ヘッドにおいて、１！＋Ｉ記高飽和磁
   束密度値性膜によるａ路が前ｄｃ巻線用溝の少なくとも
   一部で切断された構成としであることを特峨と吏る磁気
   ヘッド。　・ ２．２個の高透磁率フェライト材の加工面にそれぞれト
   ラック幅規制用のほぼ〜Ｖ字形状の鉾を設け、少なくと
   も一方の前記フェライト材に前記性に直交する方向に金
   庫用溝を設ける工程と、前記２個のフェライト拐の加工
   面の前記も尚の表面に前記フェライト材より飽和磁束密
   度が大きい高飽和磁束密度ｄ１性膜を被着さぜる工程と
   、前ｄ己ぽ、回層が阪渣さイまた前Ｉｉ己各溝に非磁性
   材を光樋、する工、ツと、ｍＪ記非磁性材ならびに前ｔ
   ピ磁性膜の不要部を除去してＷｆ定のトラック幅の動作
   ギャクプ形成面を形成する工程と、該動作ギヤツブ形成
   面形成１糎を終了後前ｄし巻紳用溝内に充填された前８
   ピ非磁性ねおよＯ・前記巻脚用γ付に被着された前記磁
   性膜の少なくとも一部を研削する工程と一６σ記各工程
   を終了した一対のブロックのうち少なくとも一方のギヤ
   □ツブ形成面にＩツｒ要の厚さの１１．磁性層を形成し
   、前ｈＬニ一対のブロックをそれぞれのギヤツブ形Ｒ１
   面が対向するように突き合イつせて接合して一体化する
   工程と、一体化されたＮｊｊ記フリフロック１定の位置
   にて切断して磁気ヘッドチップを得る工程とそ経て磁気
   ヘッドを製造することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
   法。