JPS6097951A - チオ−ルスルホン酸誘導体の新規製造法 - Google Patents
チオ−ルスルホン酸誘導体の新規製造法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
- C07D339/02—Five-membered rings
- C07D339/04—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 2, e.g. lipoic acid
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は殺虫・殺ダニ作用、殺菌作用を有し、農薬とし
て有用なチオーpスμホン酸誘導体の製造法に関する。
て有用なチオーpスμホン酸誘導体の製造法に関する。
更に詳しくは、本発明は一般式
〔式中、R−r +12はそれぞれ低級ア〃キ〃基ま子
のいずれかを含みうる5’&いし6員の複素環基を示す
〕で表わされる化合物またはその塩と一般式 %式%) 〔式中、R3は■低級ア〃キル基、ハロゲン、低級アル
コキシ基もしくは低級アルキルチオ基で置換されていて
もよいアリール基■低級アμコキシ基を有していてもよ
い低級ア〃キ/L’基または■アラルキル基を示す〕で
表わされる化合物またはその塩とを酸性下で反応させる
ことを特徴とする一般式 〔式中、Rよ 、R2、R3は前記と同意義を示す〕で
表わされるチオールスルホン酸誘導体またはその塩の製
造方法に関する。
のいずれかを含みうる5’&いし6員の複素環基を示す
〕で表わされる化合物またはその塩と一般式 %式%) 〔式中、R3は■低級ア〃キル基、ハロゲン、低級アル
コキシ基もしくは低級アルキルチオ基で置換されていて
もよいアリール基■低級アμコキシ基を有していてもよ
い低級ア〃キ/L’基または■アラルキル基を示す〕で
表わされる化合物またはその塩とを酸性下で反応させる
ことを特徴とする一般式 〔式中、Rよ 、R2、R3は前記と同意義を示す〕で
表わされるチオールスルホン酸誘導体またはその塩の製
造方法に関する。
本発明の目的化合物(1)は、文献上公知の化合物であ
シ、この化合物自身が強力な殺虫作用を有することは特
公昭4518847及び特公昭45−36727等に記
載されている。
シ、この化合物自身が強力な殺虫作用を有することは特
公昭4518847及び特公昭45−36727等に記
載されている。
この化合物(1)の製造法については、上記特公昭45
−18847及び特公昭45−36727等に、N、N
−ジアルキルジハロゲノプロビルアミンとアレンチオス
ルホン酸塩またはアルカンチオスルホン酸塩とを反応さ
せる方法が記載されているが、目的化合物の収量が低く
、又副生成物が多量に生成するという欠点を有し、工業
的製法として満足すべきものとれいえない。
−18847及び特公昭45−36727等に、N、N
−ジアルキルジハロゲノプロビルアミンとアレンチオス
ルホン酸塩またはアルカンチオスルホン酸塩とを反応さ
せる方法が記載されているが、目的化合物の収量が低く
、又副生成物が多量に生成するという欠点を有し、工業
的製法として満足すべきものとれいえない。
本発明者等は、ざらによシ容易に、より高純度にかつ高
収率にこの目的化合物(I)を製造する方法を探系開発
すべく鋭意研究を続けたところ、化合物(l[l)と化
合物(1)とが意外にも反応して極めて良好な収率で高
純度の化合物(I)を生成するとの知見を得、さらにこ
れらの知見に基づき、種々検討した結果、本発明を完成
した。
収率にこの目的化合物(I)を製造する方法を探系開発
すべく鋭意研究を続けたところ、化合物(l[l)と化
合物(1)とが意外にも反応して極めて良好な収率で高
純度の化合物(I)を生成するとの知見を得、さらにこ
れらの知見に基づき、種々検討した結果、本発明を完成
した。
上記一般式において、R,、R3はそれぞれ例えばメチ
/l/、エチ/”+ n−プロピlvlイソプロピA/
。
/l/、エチ/”+ n−プロピlvlイソプロピA/
。
n−ブチ/l/、イソブチル、5ee−ブチル、 te
rt −ブチル等の直鎖または分校状の炭素数1から4
の低級アルキル基、tたは例えばシクロペンチル。
rt −ブチル等の直鎖または分校状の炭素数1から4
の低級アルキル基、tたは例えばシクロペンチル。
μホリノ、チアゾリジニy等のR,、R2が合して苫ら
に酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子のいずれかを含
みうる5ないし6員の複素環基を示し、R3は■(a)
例えばメチル、エチ/I/In−プロピル。
に酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子のいずれかを含
みうる5ないし6員の複素環基を示し、R3は■(a)
例えばメチル、エチ/I/In−プロピル。
イソプロピ3/ 、 n−ブチμ、イソブチμ、冠−ブ
チ/’+tert−ブチル等の直M4状または分枝状の
炭素数1から4の低級アルキル基、6〕例えばフッ素、
81素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、(C)例えばメト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n
−ブトキシ、イソブトキシ、5ec−ブトキシ+ te
rt−ブトキシ等の直鎖または分校状の炭素数1から4
の低級アルコキシ基、または/および(d)例え、ばメ
チルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピ
ルチオ、n−ブチルチオ。
チ/’+tert−ブチル等の直M4状または分枝状の
炭素数1から4の低級アルキル基、6〕例えばフッ素、
81素、臭素、ヨウ素等のハロゲン、(C)例えばメト
キシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n
−ブトキシ、イソブトキシ、5ec−ブトキシ+ te
rt−ブトキシ等の直鎖または分校状の炭素数1から4
の低級アルコキシ基、または/および(d)例え、ばメ
チルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピ
ルチオ、n−ブチルチオ。
イソブチルチオ、式−ブチルチオ+ tert−ブチル
チオ等の直鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア〃
キμチオ基等で置換されていてもよい、例えばフェニ°
μ、ナフチ/L/3%のアリール基■例えばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブト
キシ、イソグトキシ、5ec−ブトキシ+tert−ブ
トキシ等の直鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア
ルコキシ基を有していてもよい、例えばメチル、エチ/
L/ 、 B−プロピμ。
チオ等の直鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア〃
キμチオ基等で置換されていてもよい、例えばフェニ°
μ、ナフチ/L/3%のアリール基■例えばメトキシ、
エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブト
キシ、イソグトキシ、5ec−ブトキシ+tert−ブ
トキシ等の直鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア
ルコキシ基を有していてもよい、例えばメチル、エチ/
L/ 、 B−プロピμ。
イソプロピμ、n−ブチlv、イソブチル、戴−プチ/
l/+tert−ブチμ等の直鎖または分校状の炭素数
1から4の低級アルキル基または■例えばベンジル、フ
ェネチル等のアラμキル基を示す。
l/+tert−ブチμ等の直鎖または分校状の炭素数
1から4の低級アルキル基または■例えばベンジル、フ
ェネチル等のアラμキル基を示す。
R3で示される伝)低級アルキル基、(b〕ハロゲン。
(Q) i 級ア〃コキシ基もしくは+a+低級低級ア
ルキルチオ基換されていてもよいアリール基において、
(a)低級アルキル基1缶〕ハロゲン、(C〕低低級ア
ニコキシ基しくは[d)低級アμキμチオ基等の置換分
はアリール基の任意の位置に1〜3個置換されていても
よい。
ルキルチオ基換されていてもよいアリール基において、
(a)低級アルキル基1缶〕ハロゲン、(C〕低低級ア
ニコキシ基しくは[d)低級アμキμチオ基等の置換分
はアリール基の任意の位置に1〜3個置換されていても
よい。
R3で示される低級アルコキシ基を有していてもよい低
級アルキル基において、低級アμコキシ基は低級アルキ
ル基の任意の位置に1〜3個置換されていてもよい。
級アルキル基において、低級アμコキシ基は低級アルキ
ル基の任意の位置に1〜3個置換されていてもよい。
上記のうち好ましくは、R,、R2がそれぞれ直鎖また
は分校状の炭素数1から4の低級アμキ〃基、R3が直
鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア〃キ〃基、ハ
ロゲン、直鎖または分校状の炭素数1から4の低級アμ
コギシ基もしくは直鎖または分校状の炭素数1から4の
低級アルキルチオ基で置換されていてもよいアリール基
である。
は分校状の炭素数1から4の低級アμキ〃基、R3が直
鎖または分校状の炭素数1から4の低級ア〃キ〃基、ハ
ロゲン、直鎖または分校状の炭素数1から4の低級アμ
コギシ基もしくは直鎖または分校状の炭素数1から4の
低級アルキルチオ基で置換されていてもよいアリール基
である。
本発明方法の目的化合物(I)の塩としては、例えば塩
酸、硫酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸、p
−トルエンスμホン酸、シュウ酸。
酸、硫酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸、p
−トルエンスμホン酸、シュウ酸。
マレイン酸等の有機酸等との酸付加塩が用いられる。
目的化合物(I)またはその塩は、化合物(I[)また
はその塩と化合物(III)またはその塩とをpH5以
下の酸性条件下で反応させることにより製造される。
はその塩と化合物(III)またはその塩とをpH5以
下の酸性条件下で反応させることにより製造される。
本反応に用いられる原料化合物(Ill)の塩としては
、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスル木ン酸、シュウ酸、マレイ
ン酸等の有機酸等との塩が挙げられ、もう一方の原料化
合物(If)の塩化しては、例えばナトリウム1カリウ
ム等lのアルカリ金属、力μシウム、マグネシウム等の
アルカリ土類金属、アンモニウム根等との塩があげられ
る。
、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスル木ン酸、シュウ酸、マレイ
ン酸等の有機酸等との塩が挙げられ、もう一方の原料化
合物(If)の塩化しては、例えばナトリウム1カリウ
ム等lのアルカリ金属、力μシウム、マグネシウム等の
アルカリ土類金属、アンモニウム根等との塩があげられ
る。
原料の化合物<m>またはその塩は、分子内に1個の不
斉炭素原子と ン8−.O(スルホキ7ド)結合が存在
するために、これらの立体配置に基づく4種の立体異性
体が存在する。これらの4種の立体異性体は、それぞれ
光学活性体として単離して用いてもよく、又光学活性体
を適宜の割合で混合して用いてもよい。
斉炭素原子と ン8−.O(スルホキ7ド)結合が存在
するために、これらの立体配置に基づく4種の立体異性
体が存在する。これらの4種の立体異性体は、それぞれ
光学活性体として単離して用いてもよく、又光学活性体
を適宜の割合で混合して用いてもよい。
本反応において、原料の化合物(II)またはその塩は
、もう一方の原料化合物(III)またはその塩に対し
てほぼ2倍七μから大過剰量を用いてもよい。
、もう一方の原料化合物(III)またはその塩に対し
てほぼ2倍七μから大過剰量を用いてもよい。
本反応をpH5以下の酸性領域に保つために、例えば、
塩酸、硫酸、リン酸等の無核酸、例えばベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸。
塩酸、硫酸、リン酸等の無核酸、例えばベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸。
蓚酸、マレイン酸等の有機酸等が用いられる。酸の添加
量は、反応液のpH値を5以下に保つ程度的0.1から
3規定程度になるように加えれば良い。かかる酸は反応
の開始時に一度に加えておいてもよく又反応の進行過程
で、反応液のpH値管を酸性領域に保つ程度に少しずつ
加えてもよい。
量は、反応液のpH値を5以下に保つ程度的0.1から
3規定程度になるように加えれば良い。かかる酸は反応
の開始時に一度に加えておいてもよく又反応の進行過程
で、反応液のpH値管を酸性領域に保つ程度に少しずつ
加えてもよい。
反応は通常溶媒中で行なわれる。適当な溶媒と千ルアル
コール、イソプロピルアルコール等の炭素数1から3の
低級アルコール類、アセトン、ア割合で混合して用いら
れる。このうち、好ましくは水、酢酸、水と酢酸との混
合溶媒である。
コール、イソプロピルアルコール等の炭素数1から3の
低級アルコール類、アセトン、ア割合で混合して用いら
れる。このうち、好ましくは水、酢酸、水と酢酸との混
合溶媒である。
反応は約5℃から室温(約15℃)で進行するが、例え
ば約60〜100°Cにまで加熱してもよい0反応時間
は反応温度等によシ異なるが通常30分から4時間程度
である。
ば約60〜100°Cにまで加熱してもよい0反応時間
は反応温度等によシ異なるが通常30分から4時間程度
である。
このようにして得られる目的化合物(1)またはその塩
は、例えば蒸留、減圧蒸留、溶媒抽出、液性変換、転溶
、濃縮、減圧m縮、結晶化、再結晶等の自体公知の手段
により単離精製される。さらに具体的に示せば、例えば
反応終了後、反応液を適当なアルカリ(例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム)水溶液にて冷却ないし加熱
下、pH4〜6附近に調節すれば化合物(I)を高純度
の結晶として単離することができる。又場合によっては
反応液の有機溶媒を濃縮留去後、例えばエーテル、クロ
ロホルム、ベンゼン等の水と混和しない有機溶媒の存在
下に適当なアルカリ(例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等)水溶液にて中和後、二層分離して有機層を
とシ、以下常法に従って結晶化しても良い。
は、例えば蒸留、減圧蒸留、溶媒抽出、液性変換、転溶
、濃縮、減圧m縮、結晶化、再結晶等の自体公知の手段
により単離精製される。さらに具体的に示せば、例えば
反応終了後、反応液を適当なアルカリ(例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム)水溶液にて冷却ないし加熱
下、pH4〜6附近に調節すれば化合物(I)を高純度
の結晶として単離することができる。又場合によっては
反応液の有機溶媒を濃縮留去後、例えばエーテル、クロ
ロホルム、ベンゼン等の水と混和しない有機溶媒の存在
下に適当なアルカリ(例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等)水溶液にて中和後、二層分離して有機層を
とシ、以下常法に従って結晶化しても良い。
化合物(I)の結晶化が困難な場合は前記の二層分離し
た有機層に例えば塩化水素等の無機酸、蓚酸、p−トル
エンスルホン酸、ピクリン酸等の有機酸を加えることに
より化合物(1)を結晶性の塩として単離することもで
きる。
た有機層に例えば塩化水素等の無機酸、蓚酸、p−トル
エンスルホン酸、ピクリン酸等の有機酸を加えることに
より化合物(1)を結晶性の塩として単離することもで
きる。
本発明に用いられる原料化合物(m)またはその塩は、
自体公知の方法、例えばアグリカルチュラ/l’−アン
ド・バイオロジカル−ケミストリー(Agr、 Bio
l、 Chem、+ ) 34巻 935〜940頁、
1974年に記載の方法によって製造できる。
自体公知の方法、例えばアグリカルチュラ/l’−アン
ド・バイオロジカル−ケミストリー(Agr、 Bio
l、 Chem、+ ) 34巻 935〜940頁、
1974年に記載の方法によって製造できる。
即ち、化合物(m)は、一般式
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物またはその塩を酸性下で酸化することにより製造され
る。本反応に用いられる化合物(TV)の塩としては、
例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸、例えばマレ
イン酸、シ、つ酸、アマール酸、p−)ルエンスμホン
酸等の有機酸等との塩が挙げられる。
物またはその塩を酸性下で酸化することにより製造され
る。本反応に用いられる化合物(TV)の塩としては、
例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の無機酸、例えばマレ
イン酸、シ、つ酸、アマール酸、p−)ルエンスμホン
酸等の有機酸等との塩が挙げられる。
本反応に用いられる酸化剤としては、有機及び無機の過
酸が挙げられ、これらの過酸としては具体的には、たと
えば過ぎ酸、過酢酸、トリフμオロ過酢酸、僅マレイン
i俊、過安息香酸1m−クロロ過安息査酸、モノ過7タ
ル酸、p−トルエン過ス〃ホン酸等の過カルボン酸およ
び過スルホン酸等の有機過酸、過酸化水素水、過ヨウ素
酸、過硫酸等の無機の過酸類が用いられる。またこれら
の過酸類は単独で、また二種以上の過酸の混合物として
用いられる。このうち特に過酸化水素ψ工好ましい。酸
化剤は通常、原料化合物(IV)に対して少なくとも当
量が用いられるが、約1.1から1.2倍モ/L’fi
を用いるのが好ましい。しかしまた酸化剤を化合物(I
V)に対し3倍モlv:11またはそれ以上の大過剰量
を用いることも可能である。
酸が挙げられ、これらの過酸としては具体的には、たと
えば過ぎ酸、過酢酸、トリフμオロ過酢酸、僅マレイン
i俊、過安息香酸1m−クロロ過安息査酸、モノ過7タ
ル酸、p−トルエン過ス〃ホン酸等の過カルボン酸およ
び過スルホン酸等の有機過酸、過酸化水素水、過ヨウ素
酸、過硫酸等の無機の過酸類が用いられる。またこれら
の過酸類は単独で、また二種以上の過酸の混合物として
用いられる。このうち特に過酸化水素ψ工好ましい。酸
化剤は通常、原料化合物(IV)に対して少なくとも当
量が用いられるが、約1.1から1.2倍モ/L’fi
を用いるのが好ましい。しかしまた酸化剤を化合物(I
V)に対し3倍モlv:11またはそれ以上の大過剰量
を用いることも可能である。
この酸化反応は通常、適当な溶媒の存在下で行なわれる
。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択された酸化
剤によって異なるが、たとえばジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジメチルホルムアミド、テトフヒドロフラン、
アセトニトリA/ 、 水。
。溶媒の選択は特に原料物質の溶解性と選択された酸化
剤によって異なるが、たとえばジクロロメタン、クロロ
ホルム、ジメチルホルムアミド、テトフヒドロフラン、
アセトニトリA/ 、 水。
1)−一
酢酸、酢酸エチル等が単独またはこれらの適宜の割合の
混合溶媒として用いられる。上記の溶媒のうち特に水、
酢酸が好ましい。
混合溶媒として用いられる。上記の溶媒のうち特に水、
酢酸が好ましい。
反応温度は、約−10から60℃、好ましくは約Oから
40°Cである。反応時間は1から4時間程度である。
40°Cである。反応時間は1から4時間程度である。
反応終了後、反応液はそのまま次反応に用いることもで
きるが、さらにベンゼン、クロロホルム。
きるが、さらにベンゼン、クロロホルム。
エーテル等の水と混和しがたい有機溶媒を加え、冷却し
ながら適当なアルカリ(例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等)水溶液にて中和し、分液後、得られる有
機層を濃縮することにより化合物(11)を遊離塩基の
型として単離した後、次反応に供することもできる。又
、このようにして単離された化合物(m)を常法により
例えば塩酸。
ながら適当なアルカリ(例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等)水溶液にて中和し、分液後、得られる有
機層を濃縮することにより化合物(11)を遊離塩基の
型として単離した後、次反応に供することもできる。又
、このようにして単離された化合物(m)を常法により
例えば塩酸。
硫酸、臭化水素酸等の無機酸、マレイン酸、Vユウ酸、
アマール酸、p−)/&エンスμホン酸等の有機酸との
塩とし、次反応に供することもできる。
アマール酸、p−)/&エンスμホン酸等の有機酸との
塩とし、次反応に供することもできる。
原料化合物(n)またはその塩は、すでに文献公知であ
り、例えば特開昭56−7753に記載の方法によシ製
造される。
り、例えば特開昭56−7753に記載の方法によシ製
造される。
トグフフィー等によって単離精製される。
次に参考例、実施例を示し本発明をさらに詳述する。
なお実施例等におけるN、M、Rスペクトルは60、M
Hz(溶媒:d−)IJフルオロ酢酸)での測定値をτ
値で示し、ここにおいて用いられる記号は各々次のよう
な意義を有する。
Hz(溶媒:d−)IJフルオロ酢酸)での測定値をτ
値で示し、ここにおいて用いられる記号は各々次のよう
な意義を有する。
8、シングレットi d +ダブレット;t、トリプレ
ットiql”+クアルテット; ABqr T A B
型のり1/L/チット: qn +クラインテラF i
m +マμチプレットHJ+結合定数。
ットiql”+クアルテット; ABqr T A B
型のり1/L/チット: qn +クラインテラF i
m +マμチプレットHJ+結合定数。
参考例1
4−(N、N−ジメチルアミノ)−1,2−ジチオラン
−1−オキサイド塩酸塩の製造4−(N、N−ジメチル
アミノ)−1,2−ジチオラン蓚酸塩47.8flを秤
取し、水200g+/を加え溶解する。これにベンゼン
75m1を加え、液温25°C附近に保ちながら攪拌下
に28%水酸化ナトリウム水溶液35m1を加え中和す
る。この中和液を濾過し、結晶ンろ液とに分ける。結晶
は更にベンゼン25g/を用いて充分洗浄し、洗液は先
の炉液と合し、分液ロートにてベンゼン層と水層に分液
する。ベンゼン層を15%塩酸58肩lで抽出し、得ら
れる水溶液を先の水溶液と合わせる。
−1−オキサイド塩酸塩の製造4−(N、N−ジメチル
アミノ)−1,2−ジチオラン蓚酸塩47.8flを秤
取し、水200g+/を加え溶解する。これにベンゼン
75m1を加え、液温25°C附近に保ちながら攪拌下
に28%水酸化ナトリウム水溶液35m1を加え中和す
る。この中和液を濾過し、結晶ンろ液とに分ける。結晶
は更にベンゼン25g/を用いて充分洗浄し、洗液は先
の炉液と合し、分液ロートにてベンゼン層と水層に分液
する。ベンゼン層を15%塩酸58肩lで抽出し、得ら
れる水溶液を先の水溶液と合わせる。
この水溶液全液温10℃に保ちながら攪拌下で30%過
酸化水素水22Fをこの溶液に約1時間で滴加する。消
却終了後室温で1時間攪拌する。
酸化水素水22Fをこの溶液に約1時間で滴加する。消
却終了後室温で1時間攪拌する。
得られる反応溶液をほぼ減圧乾固し、ついでエタノ−μ
m50g?i加えて、スラリー状とした後、ろ過し得ら
れる粉末を乾燥すると標記化合物34.3f(収率85
%)が得られる。
m50g?i加えて、スラリー状とした後、ろ過し得ら
れる粉末を乾燥すると標記化合物34.3f(収率85
%)が得られる。
1、R,J/KBrtf11078
ax
UV λ”” mn:241
ax
NMR: 5 、7−6 、5 (5H、m) 、6.
92(6H,s)鳳粘軟:152.・5℃〜167’C
(分解)上記と同様の方法により下記化合物が得られる
。
92(6H,s)鳳粘軟:152.・5℃〜167’C
(分解)上記と同様の方法により下記化合物が得られる
。
4−(N、N−ジメチルアミノ)−1,2−ジチオラン
−1−オキサイド塩酸塩 NMR5,52(11(、qn)、6.48(4H,d
、J−5,5Hz) 、6.56(4H,qr) 18
.47(6H。
−1−オキサイド塩酸塩 NMR5,52(11(、qn)、6.48(4H,d
、J−5,5Hz) 、6.56(4H,qr) 18
.47(6H。
t、J−7,0Hz)
4−(N、N−メチμエチ〃アミノ)−1,2−ジチオ
ラン−1−オキサイド塩酸塩 1、B、 yKBr il 1o a 5ax NMR5−56(IHlqn)、6.44(4H+d、
J−6,0Hz)、6.65(2H,qr)、8.62
(3H。
ラン−1−オキサイド塩酸塩 1、B、 yKBr il 1o a 5ax NMR5−56(IHlqn)、6.44(4H+d、
J−6,0Hz)、6.65(2H,qr)、8.62
(3H。
t+J=70Hz)、7.05(3H,5)4−(N、
N−メチルシクロヘキシルアミノ)−1,2−ジチオラ
ン−1−オキサイド塩酸塩KBr −1 1、R,ν 3 1087 ax NMR5−5−52(IHl、6.38(4H+d、J
=7.0Hz)、6.59(IH,m)、?、58.5
(IOH。
N−メチルシクロヘキシルアミノ)−1,2−ジチオラ
ン−1−オキサイド塩酸塩KBr −1 1、R,ν 3 1087 ax NMR5−5−52(IHl、6.38(4H+d、J
=7.0Hz)、6.59(IH,m)、?、58.5
(IOH。
m)、6.96(3H,d、J=5Hz)4−(N、N
−ジシクロへキシルアミノ)−1゜2−ジチオラン−1
−オキサイド塩酸塩NMR5,55(11,m)、6.
40(4H,d、、T−6,5Hz)、6.90(2H
,m)、8.0〜9.2(20H。
−ジシクロへキシルアミノ)−1゜2−ジチオラン−1
−オキサイド塩酸塩NMR5,55(11,m)、6.
40(4H,d、、T−6,5Hz)、6.90(2H
,m)、8.0〜9.2(20H。
m)
4−(N、W−ピペリジノ−1,2−ジチオラン−1−
オキサイド塩酸塩 NMR5,58(IH,m)、6.46(4H,d、J
=5.5Hz) 、5.9〜7.1(4H,m)、7.
98(6H。
オキサイド塩酸塩 NMR5,58(IH,m)、6.46(4H,d、J
=5.5Hz) 、5.9〜7.1(4H,m)、7.
98(6H。
m)
4−上止;北!モルホリノ矢−1,2−ジチオラン−1
−オキサイド塩酸塩 KBr −1 ■、R,j’ cI11098 ax NMR5−58(IH+m)、6−43(4H1d、J
=5−OHz)、5.70(4H,m) 、6.24(
4H+m)実施例1 S、S’−12−(ジメチルアミノ)トリメチレン〕ビ
ヌーベンゼンチオスルホナートの製造水150g?IC
ペンセンスルフィン酸ソーダ68、ilを加え、攪拌溶
解する。これに20%塩酸76.7xlを加え、ベンゼ
ンスルフィン酸溶液とする。これに30W/V%の4−
(N、N−ジメチルアミノ)−1,2−ジチオラン−1
−オキサイド塩酸塩水溶液134.4xlを加え更に2
0%塩酸97m1を加え、50℃で4時間攪拌する。反
応終了後液温t−50℃附近に保ちながら、28%水酸
化ナトリウム水溶液にてpHを4に保ちながら徐々に中
和を行う。中和終了1鍬は水酸化ナトリウム水溶液の消
費がほとんどなくなる時点で28%水酸化ナトリウム消
費量は約140m/で中和には2から3時間を要す。中
和終了後は析出した結晶を濾過し水200g/で洗浄後
乾燥すると標記化合物が得られる。収量84.6F(収
率98.0%) 融点:82−83°C 実施例2 8.8’−42−(ジメチルアミノ)トリメチレン〕ビ
スーベンゼンチオスルホナートの製造下記に示す溶w:
100 ttlを加え、これにベンゼンスルフィン酸ソ
ーダ34.5fと20%塩酸38.4xlを加え、ベン
ゼンス/I/フィン酸溶液とする。次いで4−(N 、
y−ジメチルアミノ)−t 。
−オキサイド塩酸塩 KBr −1 ■、R,j’ cI11098 ax NMR5−58(IH+m)、6−43(4H1d、J
=5−OHz)、5.70(4H,m) 、6.24(
4H+m)実施例1 S、S’−12−(ジメチルアミノ)トリメチレン〕ビ
ヌーベンゼンチオスルホナートの製造水150g?IC
ペンセンスルフィン酸ソーダ68、ilを加え、攪拌溶
解する。これに20%塩酸76.7xlを加え、ベンゼ
ンスルフィン酸溶液とする。これに30W/V%の4−
(N、N−ジメチルアミノ)−1,2−ジチオラン−1
−オキサイド塩酸塩水溶液134.4xlを加え更に2
0%塩酸97m1を加え、50℃で4時間攪拌する。反
応終了後液温t−50℃附近に保ちながら、28%水酸
化ナトリウム水溶液にてpHを4に保ちながら徐々に中
和を行う。中和終了1鍬は水酸化ナトリウム水溶液の消
費がほとんどなくなる時点で28%水酸化ナトリウム消
費量は約140m/で中和には2から3時間を要す。中
和終了後は析出した結晶を濾過し水200g/で洗浄後
乾燥すると標記化合物が得られる。収量84.6F(収
率98.0%) 融点:82−83°C 実施例2 8.8’−42−(ジメチルアミノ)トリメチレン〕ビ
スーベンゼンチオスルホナートの製造下記に示す溶w:
100 ttlを加え、これにベンゼンスルフィン酸ソ
ーダ34.5fと20%塩酸38.4xlを加え、ベン
ゼンス/I/フィン酸溶液とする。次いで4−(N 、
y−ジメチルアミノ)−t 。
2−ジチオラン−1−オキサイド塩酸塩の結晶16.5
1を加え、更に20%塩酸50m1を添加し、60°1
.5時間反応を行う。反応終了後減圧にて溶媒留去後、
残渣に水150g/を加え、スて中和する。
1を加え、更に20%塩酸50m1を添加し、60°1
.5時間反応を行う。反応終了後減圧にて溶媒留去後、
残渣に水150g/を加え、スて中和する。
以下実施例1と同様にして標記化合物が得られる。
用いた溶媒と収量(収率)tl−1記に示す。
実施例3
実施例1の方法と同様にして得られるチオールスルホン
酸誘導体を以下に示す。
酸誘導体を以下に示す。
(1)8 、8’−[2−(ジメチルアミノ)トリメチ
レン〕ビスーエチルチオスルホナート 収率95%融点
78.5〜80°C(分解) 元素分析値: C11H27N04S4として計算値(
(5)C:28.62 H:5.89 M:3.03測
定値c%)C:28.62 H:5.90 N:3.0
3KBr −1 工Rνmax3 1315+ 1130Hia R5,
85(IH,m)、6.24(4H,a 、J−6,0
Hz) 、6.79(6H1d+J−5,0Hz)。
レン〕ビスーエチルチオスルホナート 収率95%融点
78.5〜80°C(分解) 元素分析値: C11H27N04S4として計算値(
(5)C:28.62 H:5.89 M:3.03測
定値c%)C:28.62 H:5.90 N:3.0
3KBr −1 工Rνmax3 1315+ 1130Hia R5,
85(IH,m)、6.24(4H,a 、J−6,0
Hz) 、6.79(6H1d+J−5,0Hz)。
6.39(4H,qr、)、8.43(6H,t、、T
−7,0H2) (2)8 、8’−[2−(ジメチルアミノ)トリメチ
レン]ビスーβ−エトキシエチμチオスルホナート元素
分析値 C’i3 H29”0684として計算値((
6)C:36.86 H:6.90 N:3.30測定
値(%)C:3a涛2 Hニア、05 N:3.70工
Rν液膿ax’ 1320. 1120ax NMR6,68(5H,8)、7.65(6H,8)(
3)S 、 S’−C2−(ジメチルアミノ)トリメチ
レン〕ビスーベンヂ〃チオスμホナート蓚酸塩 収率9
0% 融点 151℃(分解) 元素分析値 C2□H27H08S4 として計算値C
%)C:45.88 H:4.95 N:2.55測定
値(資)c:45.58 H:4.90 N:2.51
1RpKBrcs−’ 1320+ 1130ax NMR6,60(I H1m ) 、7−15 (4H
+ d 、J −6−0Hz)、7−1’9(6H,d
、J=5.0H2)。
−7,0H2) (2)8 、8’−[2−(ジメチルアミノ)トリメチ
レン]ビスーβ−エトキシエチμチオスルホナート元素
分析値 C’i3 H29”0684として計算値((
6)C:36.86 H:6.90 N:3.30測定
値(%)C:3a涛2 Hニア、05 N:3.70工
Rν液膿ax’ 1320. 1120ax NMR6,68(5H,8)、7.65(6H,8)(
3)S 、 S’−C2−(ジメチルアミノ)トリメチ
レン〕ビスーベンヂ〃チオスμホナート蓚酸塩 収率9
0% 融点 151℃(分解) 元素分析値 C2□H27H08S4 として計算値C
%)C:45.88 H:4.95 N:2.55測定
値(資)c:45.58 H:4.90 N:2.51
1RpKBrcs−’ 1320+ 1130ax NMR6,60(I H1m ) 、7−15 (4H
+ d 、J −6−0Hz)、7−1’9(6H,d
、J=5.0H2)。
2.43(ioH,a)、5.23(4H,m)114
〜115°C 元素分析値 C□9’25N0484 として計算値−
)C:49.64 H:5.48 M:3.05測定値
(資)C:49.74 ■:5.69 N:3.03K
Br −4 IRJ/ cII 1320. 1134ax NMR6,99(5H,s)、7.83(6H,s)。
〜115°C 元素分析値 C□9’25N0484 として計算値−
)C:49.64 H:5.48 M:3.05測定値
(資)C:49.74 ■:5.69 N:3.03K
Br −4 IRJ/ cII 1320. 1134ax NMR6,99(5H,s)、7.83(6H,s)。
2.21,2.66(8H,ABqr、J−8Hz)。
7.55(6H,5)
(5)8.8’−C2−(ジメチルアミノ)トリメチレ
今オ ン〕ビスーp−クロロペンゼゝシツ(ルホナート 収率
95% 融点 143〜144℃ 元素分析値 017H19C12NO484として計算
値(%JC:40.79 H:3.83 N:2.80
測定値(資)C:41.04 )I:3.79 1i:
2.53IRJ/KBrcm’ 1324.1143a
X NMR6,92(5H,s)、7.78(6H,s)、
2.13゜2−42(8Et+ABqr9.T=9.0
Hz)(6)S、S’−[2−(ジメチルアミノ)トリ
メチレン〕ビスーp−メトキシベンゼンチオス〃ホナー
ト 収率90% 融点 115.5〜117℃元素分析
値 C工9 H25NO6S4 として計算値(%)C
:48.53 H:5.62 N:2.69測定値(6
)C:48.33 H:5.59 N:2.58IRL
I酎耐311326. 1137HMR6,79(5■
、s)、7.80(6H,s)。
今オ ン〕ビスーp−クロロペンゼゝシツ(ルホナート 収率
95% 融点 143〜144℃ 元素分析値 017H19C12NO484として計算
値(%JC:40.79 H:3.83 N:2.80
測定値(資)C:41.04 )I:3.79 1i:
2.53IRJ/KBrcm’ 1324.1143a
X NMR6,92(5H,s)、7.78(6H,s)、
2.13゜2−42(8Et+ABqr9.T=9.0
Hz)(6)S、S’−[2−(ジメチルアミノ)トリ
メチレン〕ビスーp−メトキシベンゼンチオス〃ホナー
ト 収率90% 融点 115.5〜117℃元素分析
値 C工9 H25NO6S4 として計算値(%)C
:48.53 H:5.62 N:2.69測定値(6
)C:48.33 H:5.59 N:2.58IRL
I酎耐311326. 1137HMR6,79(5■
、s)、7.80(6H,s)。
2.14,2.94(8H,ABqr、J−9,0Hz
)。
)。
6.08(6H,5)
(7)8.S’−[2−(ジメチルアミノ)トリメチレ
ン〕ビスーp−メチルチオベンゼンチオスルホナート
収率91% 融点 102〜104℃元素分析値 C工
9H25NO4s5として計算値(イ)C:43.57
)I:4.81 N:2.67鑵’I危値(%JC:
43.34 H:4.76 N:2.54工RvKBr
6’ 1320 、 1142aX NMR6,97(5H,臼)、7.82(6H,s)。
ン〕ビスーp−メチルチオベンゼンチオスルホナート
収率91% 融点 102〜104℃元素分析値 C工
9H25NO4s5として計算値(イ)C:43.57
)I:4.81 N:2.67鑵’I危値(%JC:
43.34 H:4.76 N:2.54工RvKBr
6’ 1320 、 1142aX NMR6,97(5H,臼)、7.82(6H,s)。
2.22.2.68(8H,ABclr 、 J=8.
5Hz)。
5Hz)。
7.46(6H,s)
(3)8.8’−〔2−(ジメチルアミノ)トリメチレ
ン〕ビスーβ−ナフチfie?チオスルホナート 収率
90% 融点 110〜115’0 元素分析値 C25■25 N04 S4として計算値
C%IC:56.47 H:4.74 N:2.63測
定値(6)c:56.07 H:4.68 N:2.6
0IRJ/KBrex’ 1313. 1122+11
aX NMR6,93(5H,a)、7.87(6H,a)。
ン〕ビスーβ−ナフチfie?チオスルホナート 収率
90% 融点 110〜115’0 元素分析値 C25■25 N04 S4として計算値
C%IC:56.47 H:4.74 N:2.63測
定値(6)c:56.07 H:4.68 N:2.6
0IRJ/KBrex’ 1313. 1122+11
aX NMR6,93(5H,a)、7.87(6H,a)。
1.85−2.4(14H+m)
(9)8 、8’−[2−(メチμエチμアミノ)トリ
メチレン〕ビスーp−トルエンチオスルホナート収率
89% 融点 97〜98°C 元素分析値 C2oH27M04S4として計算値(%
)C:50.71 H:5.74 N:2.96測定値
(%)C:50.45 H:5.53 H:2.79K
Br −1 工RIJn1aXaI11320,1135NMR2−
16+2.61(4H1ABqr、J−8,5Hz)。
メチレン〕ビスーp−トルエンチオスルホナート収率
89% 融点 97〜98°C 元素分析値 C2oH27M04S4として計算値(%
)C:50.71 H:5.74 N:2.96測定値
(%)C:50.45 H:5.53 H:2.79K
Br −1 工RIJn1aXaI11320,1135NMR2−
16+2.61(4H1ABqr、J−8,5Hz)。
7.62(6H,s)、6.92(5)1.s)、7.
58(2H,qr ) 、9.09(31(、t 、、
T−7,0Hz)。
58(2H,qr ) 、9.09(31(、t 、、
T−7,0Hz)。
7.86(3H,8)
αO8,S’−(2−(メチ〃シクロヘキシμアミノ)
トリメチレン〕ビスーp−トルエンチオヌρホナート
収率91% 融点 120〜121℃元素分析値 C2
6■35 NO4s4として計算値翰C?5Q、55
H:5.71 N:2.27測定値(博C:5Q、12
a:5.73 N:2.311Rv”rcIr’ 1
330.1140ax NMR2,07,2,47(4■r AB q r +
J−8−5Hz ) 、5−49 (I H9m )
、6.38 (4H、d +J=7.0Hz)、7.
36(6H,s)、6.59(IH,m) 、7.5〜
8.7(lOH,m)。
トリメチレン〕ビスーp−トルエンチオヌρホナート
収率91% 融点 120〜121℃元素分析値 C2
6■35 NO4s4として計算値翰C?5Q、55
H:5.71 N:2.27測定値(博C:5Q、12
a:5.73 N:2.311Rv”rcIr’ 1
330.1140ax NMR2,07,2,47(4■r AB q r +
J−8−5Hz ) 、5−49 (I H9m )
、6.38 (4H、d +J=7.0Hz)、7.
36(6H,s)、6.59(IH,m) 、7.5〜
8.7(lOH,m)。
6.96 (3Fi−、de J −5−OK z )
(ロ)8 、8’−C2−(ジシクロヘキV/I/アミ
ノ)トリメチレン〕ビス−p−)/I/エンチオスpホ
ナート 収率92% 融点 104〜106°0元素分
析値 C29■4□No4S、として計算値(支)B:
58.45 H:6.93 N:2.35測定値((6
)C:58.39 H:6.91 N:2.33HMR
2,14,2,60(4H,ABqr、J=8.5Hz
)+6゜90(5H,a) 、7.52(6H,a)、
6.90(2H,m) 、8.0−9.2(20H+m
)Q2s + s’−c 2−ピペリジノ−トリメチレ
ンシービス−p−トルエンチオスルホナート 収率95
%融点 122〜123℃ 元素分析値 C22■29 NO4”4 として計算値
((5)C:52.87 H:5.85 N:2.80
測定値(イ)c:52.76 ’H:5.72 N:2
.82IRvKBrtx’ 1315. 1140lL
X NMR2,22+2.65(4H,ABqr、J=8.
5Hz)+6.96(5H,a)、7.68(4H,m
)。
(ロ)8 、8’−C2−(ジシクロヘキV/I/アミ
ノ)トリメチレン〕ビス−p−)/I/エンチオスpホ
ナート 収率92% 融点 104〜106°0元素分
析値 C29■4□No4S、として計算値(支)B:
58.45 H:6.93 N:2.35測定値((6
)C:58.39 H:6.91 N:2.33HMR
2,14,2,60(4H,ABqr、J=8.5Hz
)+6゜90(5H,a) 、7.52(6H,a)、
6.90(2H,m) 、8.0−9.2(20H+m
)Q2s + s’−c 2−ピペリジノ−トリメチレ
ンシービス−p−トルエンチオスルホナート 収率95
%融点 122〜123℃ 元素分析値 C22■29 NO4”4 として計算値
((5)C:52.87 H:5.85 N:2.80
測定値(イ)c:52.76 ’H:5.72 N:2
.82IRvKBrtx’ 1315. 1140lL
X NMR2,22+2.65(4H,ABqr、J=8.
5Hz)+6.96(5H,a)、7.68(4H,m
)。
8.60(6H,m)
(至)S 、 S’−(2−モルホリノ−トリメチレン
)−ビス−p−トルエンチオスルホナート 収率95頭
融点 124〜125°0 元素分析値 023 H31NO4s4 として計算値
c%)C:53.77 H:6.08 N:2.73測
定値c%)C:53.55 H:6.33 N:2.6
7IRUKB”C11−11320,1135ax NMR2,21,2,63(4H,ABqr、J=8.
0Hz)。
)−ビス−p−トルエンチオスルホナート 収率95頭
融点 124〜125°0 元素分析値 023 H31NO4s4 として計算値
c%)C:53.77 H:6.08 N:2.73測
定値c%)C:53.55 H:6.33 N:2.6
7IRUKB”C11−11320,1135ax NMR2,21,2,63(4H,ABqr、J=8.
0Hz)。
6.93(5H,a)、7.54(6H,s)、6.4
2(4H,m)、6.93(4H,m)
2(4H,m)、6.93(4H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 〔式中、Rエ 、R2はそれぞれ低級アμキμ基まのい
ずれかを含みうる5ないし6員の複素環基を示す〕て表
わされる化合物またはその塩と一般弐3So2H 〔式中、R3は■低級ア〃キμ基、ハロゲン、低級アル
コキシ基もしくは低級アμキμチオ基で置換されていて
もよいアリール基■低級アμコキシ基を有していてもよ
い低級ア〃キμ基または[相]アヲルキ〃基を示す〕で
表わされる化合物またはその塩とを酸性下で反応させる
ことを特徴とする一般式 〔式中、Rエ 、R2+ R3は前記と同意義を示す〕
で表わされるチオーρスμホン酸誘導体またはその塩の
製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58206205A JPS6097951A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | チオ−ルスルホン酸誘導体の新規製造法 |
| EP84112927A EP0140352B1 (en) | 1983-11-02 | 1984-10-26 | Novel process for producing thiolsulfonic acid derivatives |
| DE8484112927T DE3460876D1 (en) | 1983-11-02 | 1984-10-26 | Novel process for producing thiolsulfonic acid derivatives |
| KR1019840006871A KR900000890B1 (ko) | 1983-11-02 | 1984-11-02 | 티올 설폰산 유도체의 제조 방법 |
| US07/257,125 US4910331A (en) | 1983-11-02 | 1988-10-07 | Novel process for producing thiolsulfonic acid derivatives |
| SG847/88A SG84788G (en) | 1983-11-02 | 1988-11-30 | Novel process for producing thiolsulfonic acid derivatives |
| HK639/89A HK63989A (en) | 1983-11-02 | 1989-08-10 | Novel process for producing thiolsulfonic acid derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58206205A JPS6097951A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | チオ−ルスルホン酸誘導体の新規製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6097951A true JPS6097951A (ja) | 1985-05-31 |
| JPS6332350B2 JPS6332350B2 (ja) | 1988-06-29 |
Family
ID=16519519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58206205A Granted JPS6097951A (ja) | 1983-11-02 | 1983-11-02 | チオ−ルスルホン酸誘導体の新規製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
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Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1989
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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