JPS6110295A - 充填用機械 - Google Patents
充填用機械Info
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- JPS6110295A JPS6110295A JP60069875A JP6987585A JPS6110295A JP S6110295 A JPS6110295 A JP S6110295A JP 60069875 A JP60069875 A JP 60069875A JP 6987585 A JP6987585 A JP 6987585A JP S6110295 A JPS6110295 A JP S6110295A
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- hole
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- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0448—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
- H05K3/4053—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0438—Apparatus for making assemblies not otherwise provided for, e.g. package constructions
-
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
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- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/0134—Drum, e.g. rotary drum or dispenser with a plurality of openings
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0191—Using tape or non-metallic foil in a process, e.g. during filling of a hole with conductive paste
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
- H05K3/0088—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor for treatment of holes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は集積回路パッケージを形成する機械に関する
もので、より詳しくは平坦な新しいセラミック基板の複
数の穴に導電性インニルを充填する機械に関りる。
もので、より詳しくは平坦な新しいセラミック基板の複
数の穴に導電性インニルを充填する機械に関りる。
東槓回路バツノノージは一般にセラミックよりなる複数
の薄板状の平坦層ぐ形成される。典型的(は、底部のI
P?!4堅固イシ矩形であり、またlh居は中心を通L
・で穿設された孔を有lるW形となっている。集16同
路タイスが上方層の孔の」に{l7置乃るとともに底部
W4に取付(プられる。接合線がダイス上の信号路と前
記化の近くの内部層の面」に(fする1組の導体との電
気的な接続をなプ。
の薄板状の平坦層ぐ形成される。典型的(は、底部のI
P?!4堅固イシ矩形であり、またlh居は中心を通L
・で穿設された孔を有lるW形となっている。集16同
路タイスが上方層の孔の」に{l7置乃るとともに底部
W4に取付(プられる。接合線がダイス上の信号路と前
記化の近くの内部層の面」に(fする1組の導体との電
気的な接続をなプ。
これらの置体」の信号は上端のセラミックFialよび
内部のレラミック層を異通する穴に充填された導体によ
ー)(!端のしラミック層に伝送される。
内部のレラミック層を異通する穴に充填された導体によ
ー)(!端のしラミック層に伝送される。
そして、1一喘し?ラミツク層上の他の組の導体が印刷
配線機にバラl1−ジを取付【プるのに好適な堅い導体
リードに前記導体が充1σされた穴から信号を送る。土
記策伯回路パッケージを作成でる過P?で所望の通し穴
パターンが平坦状の新しいセラミックウェハに穿設さね
る。続いて、これらの通し穴に導電性イン−1−が充I
iIされる。その後、所望の導体パターンが新しいセラ
ミックの表面にスクリーン印刷される。パッケージを形
成Jるいくつかの新しいセラミックが互いに積層され高
圧力の下で一緒に締め付(ブられる。そして高温度雰囲
気にさらすことによって合成薄板構造が固められる。
配線機にバラl1−ジを取付【プるのに好適な堅い導体
リードに前記導体が充1σされた穴から信号を送る。土
記策伯回路パッケージを作成でる過P?で所望の通し穴
パターンが平坦状の新しいセラミックウェハに穿設さね
る。続いて、これらの通し穴に導電性イン−1−が充I
iIされる。その後、所望の導体パターンが新しいセラ
ミックの表面にスクリーン印刷される。パッケージを形
成Jるいくつかの新しいセラミックが互いに積層され高
圧力の下で一緒に締め付(ブられる。そして高温度雰囲
気にさらすことによって合成薄板構造が固められる。
この発明は新しいセラミックウェハの通し穴に導電性イ
ンキを充IRする上記段階を実現する新規で優れた搬械
を述べる。
ンキを充IRする上記段階を実現する新規で優れた搬械
を述べる。
L従来の技術]
この発明の前、発明者はゴムローラを利用して手動で通
し穴を充填していた。この方法(ここでは「方法■」と
称する)では新しいセラミックウェハは台に置かれる。
し穴を充填していた。この方法(ここでは「方法■」と
称する)では新しいセラミックウェハは台に置かれる。
つ1ハの通し穴に対応した通し穴を有する充填通しマス
クがウェハの上に置かれる。導電性インキのどろどろの
塊が充填通しマスク上に置かれる。そしてゴムローラが
充填通しマスクを通してインキを手動で押し付けるよう
に使用される。そしてゴムローラをローリングビン形式
の運動で前後に動かすことによってセラミックウェハの
通し穴にインキを施す。実際のゴムローラはウレタンで
形成されており、約378インチ平方で長さが6インチ
である。
クがウェハの上に置かれる。導電性インキのどろどろの
塊が充填通しマスク上に置かれる。そしてゴムローラが
充填通しマスクを通してインキを手動で押し付けるよう
に使用される。そしてゴムローラをローリングビン形式
の運動で前後に動かすことによってセラミックウェハの
通し穴にインキを施す。実際のゴムローラはウレタンで
形成されており、約378インチ平方で長さが6インチ
である。
しかしながら、このh払で充填された通し穴は完全に密
閉されず、後で第5図に関連して述べるように−L部が
1シ、人された長円形(lfi円)になるという欠点が
ある。
閉されず、後で第5図に関連して述べるように−L部が
1シ、人された長円形(lfi円)になるという欠点が
ある。
この発明者が11な−)だ他の通し大充填方法(ここで
は[方法■jと称する)は一部分にインキが充満された
中空シリンダを使う。シリンダの一端はマスクでカバー
されており、このカバーは新しいセラミックウェハの通
し穴に対応する通し穴を備える。そしCシリンダのパタ
ーンはビス1−ンに嵌着される。動作において、シリン
ダはマスクがウェハ上に位置し、対応ず・る通し穴が整
列するように配置される。しかる後、ビス]・ンが押し
出されてシリンダの導電性インキを圧搾しくつ■ハの通
し穴に施J0しかしながら、この方払番よ後で第6図に
関連して述べるように拡大した上部を持った不完全充填
の通し穴を生じるという欠点を右夛る。
は[方法■jと称する)は一部分にインキが充満された
中空シリンダを使う。シリンダの一端はマスクでカバー
されており、このカバーは新しいセラミックウェハの通
し穴に対応する通し穴を備える。そしCシリンダのパタ
ーンはビス1−ンに嵌着される。動作において、シリン
ダはマスクがウェハ上に位置し、対応ず・る通し穴が整
列するように配置される。しかる後、ビス]・ンが押し
出されてシリンダの導電性インキを圧搾しくつ■ハの通
し穴に施J0しかしながら、この方払番よ後で第6図に
関連して述べるように拡大した上部を持った不完全充填
の通し穴を生じるという欠点を右夛る。
[発明の目的]
それゆえに、この発明の主たる目的は優れた方法で新し
いセラミックフィルタの通し穴を充填性インキで充填づ
−る機械を提供することにある。
いセラミックフィルタの通し穴を充填性インキで充填づ
−る機械を提供することにある。
この発明の他の目的は穴が完全充填されるように新しい
セラミックウェハの穴を充填する機械を提供することで
ある。
セラミックウェハの穴を充填する機械を提供することで
ある。
[発明の構成]
これらの目的およびその他の目的は、この発明のは械に
よって達成される。
よって達成される。
この機械は、開口1面を有するへこみ部材、前記開口面
を覆うとともに充填されるウェハの通し穴に対応するよ
うに前記開口面を横切って配列された複数の通し穴を有
するマスク部材、rIfr記へこみ部材の内側に存して
S電性インキを収容する第1中空をマスク部材とで形成
する前面を有するとともに、へこみ部材とで第2中空を
形成する後面を有する弾力性隔壁体、対応する穴が整列
するようにマスク部材に対しウェハを保持する台、マス
ク部材の穴を通して導電性インキの一部をウェハの穴に
充填させるため圧力の下で第2中空の中へおよび弾性限
IFの後面に灼しガスを導くへこみ部材に設置−Jらね
た11几、とかう構成される。
を覆うとともに充填されるウェハの通し穴に対応するよ
うに前記開口面を横切って配列された複数の通し穴を有
するマスク部材、rIfr記へこみ部材の内側に存して
S電性インキを収容する第1中空をマスク部材とで形成
する前面を有するとともに、へこみ部材とで第2中空を
形成する後面を有する弾力性隔壁体、対応する穴が整列
するようにマスク部材に対しウェハを保持する台、マス
ク部材の穴を通して導電性インキの一部をウェハの穴に
充填させるため圧力の下で第2中空の中へおよび弾性限
IFの後面に灼しガスを導くへこみ部材に設置−Jらね
た11几、とかう構成される。
この弁明のPト々の態様および月産は添付図面に関連し
て次の1゛実施1の項で述べられる。
て次の1゛実施1の項で述べられる。
[実施例]
まず、この発明に従って溝底された偶械10の好ましい
態様を第1図を参照して説明する。
態様を第1図を参照して説明する。
機械10は平114状の新しいLラミックウ]ハ11に
作用し、五り訂しく述べれば、それはウェハの複数の穴
12を!■パンまたはパー7のような高い粘度を持った
タングステンインキのごとき電気導電性イン1で充17
iるように作用する。#II型的には穴12μ蒔1¥
が10+nmもしクハ16IIIIIlテアルカ、5な
いし25ミリの範囲のいずれかに定め得る。
作用し、五り訂しく述べれば、それはウェハの複数の穴
12を!■パンまたはパー7のような高い粘度を持った
タングステンインキのごとき電気導電性イン1で充17
iるように作用する。#II型的には穴12μ蒔1¥
が10+nmもしクハ16IIIIIlテアルカ、5な
いし25ミリの範囲のいずれかに定め得る。
ウェハ11の厚みは60記穴の直径の2倍以下であるこ
とが望ましい。前記穴はライン13で示すようにウェハ
11上に細目も繰返したパターン状に配列される。こわ
らの穴が導電性インキで充填された後、ウェハ11は前
記機械から取りムうれ、前記[産業上の利用分野jの項
で述べたように完成l積回路パッケージに処理される。
とが望ましい。前記穴はライン13で示すようにウェハ
11上に細目も繰返したパターン状に配列される。こわ
らの穴が導電性インキで充填された後、ウェハ11は前
記機械から取りムうれ、前記[産業上の利用分野jの項
で述べたように完成l積回路パッケージに処理される。
機械10にはつ:[ハ11を支持する平坦部21を有す
る台部材20が含まれる。面21と垂直に4個の位v!
l決めようのビン22aないし22bが直立している。
る台部材20が含まれる。面21と垂直に4個の位v!
l決めようのビン22aないし22bが直立している。
これらはウェハの対応する穴14aないし14dに嵌合
し、それによって而21−を−にウェハを正確(配置す
る。嶺械10にはさらに可動自在なへこみ部材30が含
まれる。このへこみ部材は而21と平行でウェハ11の
サベての通し穴12を囲むに十分な大きさの開口面31
を有する。
し、それによって而21−を−にウェハを正確(配置す
る。嶺械10にはさらに可動自在なへこみ部材30が含
まれる。このへこみ部材は而21と平行でウェハ11の
サベての通し穴12を囲むに十分な大きさの開口面31
を有する。
第2図に詳細に示すようにマスク部材32と隔壁体33
が面31の開口を横切って配されている。
が面31の開口を横切って配されている。
第2図が示すごとく、マスク部材32は部材30の面3
1を横切るように取付けられ、かつウェハ11の通し穴
12に対応して而31を横切って整列された複数の通し
穴34を有している。隔壁体33も面31を横切ってい
る。しかし、これはマスク部材32のVi後で面31の
開口中に配置されている。その結果、隔壁体33の前面
はマスク部材32と協働して中空35を形成し、−万隔
ヤ体33の後面は部材30と協働して他の中空36を形
成する。複数のねじ37によって隔壁体33どマスク部
材32は所定の場所に保持される。
1を横切るように取付けられ、かつウェハ11の通し穴
12に対応して而31を横切って整列された複数の通し
穴34を有している。隔壁体33も面31を横切ってい
る。しかし、これはマスク部材32のVi後で面31の
開口中に配置されている。その結果、隔壁体33の前面
はマスク部材32と協働して中空35を形成し、−万隔
ヤ体33の後面は部材30と協働して他の中空36を形
成する。複数のねじ37によって隔壁体33どマスク部
材32は所定の場所に保持される。
動作におい(、いくつかのねじ37を一時的に外すこと
によって導電性インキが中空35に施される。しかる俊
、(Q4決め用穴14aないし14dが位置決め用ピ″
/−228ないし22dに嵌合Mるごとくつ1ハ11を
台部材2oの而21に載置する。その債、マスク32が
該マスクと台2oとの間でサンドイッチされるウェハ2
oを押PElるように部材30が動く。部材20と部材
3oは1ないし5トンの1・−タルM[′cTjいに押
圧される。
によって導電性インキが中空35に施される。しかる俊
、(Q4決め用穴14aないし14dが位置決め用ピ″
/−228ないし22dに嵌合Mるごとくつ1ハ11を
台部材2oの而21に載置する。その債、マスク32が
該マスクと台2oとの間でサンドイッチされるウェハ2
oを押PElるように部材30が動く。部材20と部材
3oは1ないし5トンの1・−タルM[′cTjいに押
圧される。
通し穴34.12を整列させるためにピン22aないし
22d/fi嵌合する(つ置決め穴38が部材32.3
3.30に設りられている。部材32は中空36に通じ
る【−1孔39も設りられている。つLハコ1が上述の
ように部材20.30の間にサンドイッチされた後に、
空気などの流動体が圧力を受けて口孔39を通して中空
36に送り込まれる。
22d/fi嵌合する(つ置決め穴38が部材32.3
3.30に設りられている。部材32は中空36に通じ
る【−1孔39も設りられている。つLハコ1が上述の
ように部材20.30の間にサンドイッチされた後に、
空気などの流動体が圧力を受けて口孔39を通して中空
36に送り込まれる。
このE力化された流動体は中空35内の導電性インキの
一部をマスク部材32の通し穴34を通してウェハ11
の通し穴に充填させる。25ないし35psi(ボンド
/インチ2)の空気圧を[1孔39を通して2ないし4
秒間供給するのが適当であり、しかる優その圧力を大気
圧に減少さける。マスク部材32の各々の通し一穴34
のまわりにIt 。
一部をマスク部材32の通し穴34を通してウェハ11
の通し穴に充填させる。25ないし35psi(ボンド
/インチ2)の空気圧を[1孔39を通して2ないし4
秒間供給するのが適当であり、しかる優その圧力を大気
圧に減少さける。マスク部材32の各々の通し一穴34
のまわりにIt 。
部材32とつ丁ハ11がともに圧接したときウェハ11
の通し穴12のシールを形成する小さな軟性凸部を設置
プるのが望ましい。この小さな軟性凸部は第3図におい
て参照符号(34a )で示されている。実際的なj法
例として、凸部34aは高さカ1.5IIla+、vス
ク部材32Lt60mmFtiさ、そしてウェハ11は
20mm厚さである。凸部34aは部材32を冷熱圧延
鋼または低炭素鋼などの軟鋼で作ること、および通し穴
34をウェハ11に対向Jる面側に外方向に穴開けする
ことによって適切に形成できる。そのような穴あけは各
通し穴34の周囲に小さなパリを生じるが、このパリを
債で砥石にかけること寸なゎらナイフを鋭利になす平I
11な凪(iを使うことによって潰らがでがっ7!li
望の高さに成形することができる。
の通し穴12のシールを形成する小さな軟性凸部を設置
プるのが望ましい。この小さな軟性凸部は第3図におい
て参照符号(34a )で示されている。実際的なj法
例として、凸部34aは高さカ1.5IIla+、vス
ク部材32Lt60mmFtiさ、そしてウェハ11は
20mm厚さである。凸部34aは部材32を冷熱圧延
鋼または低炭素鋼などの軟鋼で作ること、および通し穴
34をウェハ11に対向Jる面側に外方向に穴開けする
ことによって適切に形成できる。そのような穴あけは各
通し穴34の周囲に小さなパリを生じるが、このパリを
債で砥石にかけること寸なゎらナイフを鋭利になす平I
11な凪(iを使うことによって潰らがでがっ7!li
望の高さに成形することができる。
隔壁体33はQfましくは15mmQさのゴムのような
弾力Hのある14料で形成し、部材3oの開1−1面を
横切って配置N? !Jる。この構造にょ−)C中空3
5に施さ1また)9電性イン4:はそのΦにかがねらず
、常に弾力性隔壁体33、マスク32、およびマスク3
2の穴34の中のインキによって外気からシールされた
状111jに胃がれる。インキがつ1ハ11の穴12に
充填された摂で、中空36にJ31プるF1力の低下に
よ−)でマスク32のどの通し穴がらしインキが吸い出
さ?することはない。もしイン」:が通し穴34から吸
い出され、空気が吸い込まれた場合には、イの空気はそ
のインキを乾がし通し穴34の側壁−1に同化させるで
あろう。イして、これは通し穴の直径を小さくなし、そ
れらを塞ぐことになるであろう。
弾力Hのある14料で形成し、部材3oの開1−1面を
横切って配置N? !Jる。この構造にょ−)C中空3
5に施さ1また)9電性イン4:はそのΦにかがねらず
、常に弾力性隔壁体33、マスク32、およびマスク3
2の穴34の中のインキによって外気からシールされた
状111jに胃がれる。インキがつ1ハ11の穴12に
充填された摂で、中空36にJ31プるF1力の低下に
よ−)でマスク32のどの通し穴がらしインキが吸い出
さ?することはない。もしイン」:が通し穴34から吸
い出され、空気が吸い込まれた場合には、イの空気はそ
のインキを乾がし通し穴34の側壁−1に同化させるで
あろう。イして、これは通し穴の直径を小さくなし、そ
れらを塞ぐことになるであろう。
上述した■械10を使ってつ]−ハ11の通し穴12を
充填1すると優れた結果が1りられる。第4図の機械1
0にJニー>て充填された通し穴12に微細なりラック
(割れまたはひび)が生じない横断面をiしていること
、すなわち充填された穴が密封されていることを示して
いる。また、穴の1=部は非常に狭い、づなわら11幅
以下の導電性イン1−の輪51によって囲まれている。
充填1すると優れた結果が1りられる。第4図の機械1
0にJニー>て充填された通し穴12に微細なりラック
(割れまたはひび)が生じない横断面をiしていること
、すなわち充填された穴が密封されていることを示して
いる。また、穴の1=部は非常に狭い、づなわら11幅
以下の導電性イン1−の輪51によって囲まれている。
これと対比して、第5図は前記[従来の技術Jの項で述
べた「方法■」によって充填された通し穴を示している
。この通し穴は該通し穴の軸に平行に走る横断面に細か
い毛状のクラック52を有しているとともに、その上部
は導f8牲インキの人きな椿円53によって囲まれてい
る。直径10111111の穴に対して楕円の長径は典
型的には18+nm長さであり、短軸は典型的には13
11111長ざである。
べた「方法■」によって充填された通し穴を示している
。この通し穴は該通し穴の軸に平行に走る横断面に細か
い毛状のクラック52を有しているとともに、その上部
は導f8牲インキの人きな椿円53によって囲まれてい
る。直径10111111の穴に対して楕円の長径は典
型的には18+nm長さであり、短軸は典型的には13
11111長ざである。
第6図は前記「従来の技術」の項で述べた「方法■」に
よって充填された通し穴を有している。
よって充填された通し穴を有している。
この充填された通し穴もまた通し穴の軸に平行に走る横
断面に多くの細かい毛状のクラックを有しており、上部
は大円形(55)によって囲まれている。直径10II
II11の穴に対して円55は典型的には直径17II
Imである。
断面に多くの細かい毛状のクラックを有しており、上部
は大円形(55)によって囲まれている。直径10II
II11の穴に対して円55は典型的には直径17II
Imである。
第5図お、J二び第6図の充填され!ご通し穴にJ3す
る細かい毛状のクラック52.54M伴う問題は、それ
らのりうツクが汚染物を捕え、その汚染物が時間の経J
k二わIJって腐蝕を引き起こJということである。充
填された通し穴の電気的な導電性は、このようにして時
間とともに低下りる。また、第5図や第6図の穴の周囲
を越えるインキの(p1張53.55に伴・)問題は、
これらの拡張のためにIJいに短I8することなしに穴
を離間さけることのて・きる最小のy]1隙が制限され
、かつ導体が短絡することなしに次の穴に通じることの
でさる最小の距−1が制限されるということである。
る細かい毛状のクラック52.54M伴う問題は、それ
らのりうツクが汚染物を捕え、その汚染物が時間の経J
k二わIJって腐蝕を引き起こJということである。充
填された通し穴の電気的な導電性は、このようにして時
間とともに低下りる。また、第5図や第6図の穴の周囲
を越えるインキの(p1張53.55に伴・)問題は、
これらの拡張のためにIJいに短I8することなしに穴
を離間さけることのて・きる最小のy]1隙が制限され
、かつ導体が短絡することなしに次の穴に通じることの
でさる最小の距−1が制限されるということである。
以上におい−(、この発明の好ましい実施例を詳細に説
明したが、さらにこの発明の木質と精神から逸脱しない
限りにおいて、上記の実施例に種/イの改変と修Jl’
、を行なうことが可能である。このように、この発明は
に記の記述に限定されないが、特許請求の範囲によって
明確にされていることは理解されるべきである。
明したが、さらにこの発明の木質と精神から逸脱しない
限りにおいて、上記の実施例に種/イの改変と修Jl’
、を行なうことが可能である。このように、この発明は
に記の記述に限定されないが、特許請求の範囲によって
明確にされていることは理解されるべきである。
[発明の効果1
この発明によれば、ワークピースの穴を完全に充填覆る
ことができるとともにその穴にクラックが生じないとい
う効果がある。したがって、汚染物による腐蝕が1しる
といったおそれはない。また、穴の上部は充填物質がわ
ずかに広がる程度であるので、穴と穴の最小餌間距1i
llが制限されたりすることがない。
ことができるとともにその穴にクラックが生じないとい
う効果がある。したがって、汚染物による腐蝕が1しる
といったおそれはない。また、穴の上部は充填物質がわ
ずかに広がる程度であるので、穴と穴の最小餌間距1i
llが制限されたりすることがない。
4、図面のl’il’i !lな説明
第1図はこの発明によって構成された機械の概略図であ
る。第2図はその機械の実際の大きさより拡大して承り
第1図の2−2線断面図である。
る。第2図はその機械の実際の大きさより拡大して承り
第1図の2−2線断面図である。
第3図は第2図におけるマスク部材の一部とワークピー
スの拡大断面図rある。第4図は第1図ないし第3図の
機械によって充填された通し穴の土部と断面を示す図で
ある。第5図および第6図は従来の手段によって充填さ
れた通し穴の」一部とn面を示す図である。
スの拡大断面図rある。第4図は第1図ないし第3図の
機械によって充填された通し穴の土部と断面を示す図で
ある。第5図および第6図は従来の手段によって充填さ
れた通し穴の」一部とn面を示す図である。
図において、10は機械、11はセラミックウェハ(ワ
ークピース)、12は通し穴、20は台部材、21は平
坦面、30はへこみ部材、31は開口面、32 Ll、
ンスク部+A、33は隔壁体、34は通し穴、3/I
1 fi軟イ/(凸部、35 fJ m 1中空、36
は第2中空、39 Iよ[1孔を小す。
ークピース)、12は通し穴、20は台部材、21は平
坦面、30はへこみ部材、31は開口面、32 Ll、
ンスク部+A、33は隔壁体、34は通し穴、3/I
1 fi軟イ/(凸部、35 fJ m 1中空、36
は第2中空、39 Iよ[1孔を小す。
図面の浄書(内容に変更なし)
昭和60年6月15日
Claims (11)
- (1)平坦なワークピースにおける複数の通し穴を充填
する機械であつて、 前記平坦なワークピースを支持する平坦面を有し、前記
通し穴が前記平坦面に垂直になる台部材、前記平坦面に
平行で前記通し穴を囲む開口面を有する可動自在なへこ
み部材、 前記開口面を横切って取付けられ前記ワークピースの通
し穴と対応して前記開口面を横切つて配列された複数の
通し穴を有するマスク部材、前記へこみ部材の内側に配
され前記マスク部材とで第1中空を形成する前面を有す
るとともに前記へこみ部材とで第2中空を形成する後面
を有する隔壁体、 前記第1中空に配された高粘度の物質、 前記マスク部材と前記ワークピースの各通し穴が整列す
るように前記台部材とマスク部材との間にサンドイツチ
された前記ワークピースとともに前記マスク部材を前記
台部材に対し押圧する手段、とを備え、前記へこみ部材
は前記第2中空内と隔壁体の後面に対し圧力の下で流動
体を送り込む口孔を有しており、その流動体の送り込み
によつて前記マスク部の通し穴を通して前記ワークピー
スの通し穴に前記高粘度の物質の一部を押し入れる充填
用機械。 - (2)前記マスク部材の各通し穴の周囲に前記マスク部
材と前記ワークピースがともに圧接したとき前記ワーク
ピースの通し穴のシールを形成する小さな軟性凸部を設
けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の機
械。 - (3)前記隔壁体は弾力性があり、前記第2中空におけ
る圧力の一時的低下によつて前記高粘度の物質が前記マ
スク部材の通し穴から吸い出されないことを確実にする
程度に前記高粘度の物質によつて延ばされることを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載の機械。 - (4)前記マスク部材が前記へこみ部材に取り外し自在
に取付けられ、前記へこみ部材は各通し穴のパターンが
すべて異なる他のマスク部材を受入れるように適合され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
機械。 - (5)前記第1中空内の前記物質は電気的に導電性であ
り、生パンのような堅さを有していることを特徴とする
特許請求の範囲第1項に記載の機械。 - (6)前記通し穴は直径が5ないし25mmであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の機械。 - (7)ワークピースにおける複数の穴を充填する機械で
あって、 開口面を有するへこみ部材、 前記開口面を覆うとともに、前記ワークピースの穴と対
応するように前記開口面を横切つて整列された複数の穴
を有するマスク部材、 前記へこみ部材Aの内側に配され高粘度の物質を収容す
る第1中空を前記マスク部材とで形成する前面と、第2
中空を前記へこみ部材とで形成する後面とを有する隔壁
体、 前記ワークピースを前記マスク部材に向かい合わせて、
それらの各穴が整列するように保持する手段、 とを備え、前記へこみ部材は前記第2中空内と隔壁体の
後面に対し圧力の下で流動体を送り込む口孔を有してお
り、その流動体の送り込みによつて前記マスク部材の穴
を通して前記ワークピースの穴に前記高粘度の物質を押
し入れる充填用機械。 - (8)前記マスク部材の各穴の周囲に前記マスク部材と
前記ワークピースがともに圧接したとき前記ワークピー
スの穴のシールを形成する小さな軟性凸部を設けたこと
を特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の機械。 - (9)前記隔壁体は弾力性があり、前記第2中空におけ
る圧力の一時的低下によつて前記高粘度の物質が前記マ
スク部材の穴から吸い出されないことを確実にする程度
に前記高粘度の物質によつて延ばされることを特徴とす
る特許請求の範囲第7項に記載の機械。 - (10)前記穴は直径が5ないし25mmであることを
特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の機械。 - (11)開口面を有するへこみ部材、前記開口面を覆う
とともに前記面を横切って所定のパターンで配列した複
数の穴を有するマスク部材、高粘度の物質を収容する第
1中空を前記マスク部材とで形成する前面と第2中空を
前記へこみ部材とで形成する後面とを有する前記へこみ
部材内の隔壁体、 とを備え、前記へこみ部材は前記第2中空内と隔壁体の
後面に対し圧力の下で流動体を送り込む口孔を有してお
り、その流動体の送り込みによって前記マスク部材の穴
を通して前記高粘度の物質の一部を押し出す充填用機械
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US595658 | 1984-04-02 | ||
| US06/595,658 US4519760A (en) | 1984-04-02 | 1984-04-02 | Machine for filling via holes in an integrated circuit package with conductive ink |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110295A true JPS6110295A (ja) | 1986-01-17 |
| JPH0127599B2 JPH0127599B2 (ja) | 1989-05-30 |
Family
ID=24384139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60069875A Granted JPS6110295A (ja) | 1984-04-02 | 1985-04-01 | 充填用機械 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4519760A (ja) |
| JP (1) | JPS6110295A (ja) |
| DE (1) | DE3511723A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4747211A (en) * | 1987-02-09 | 1988-05-31 | Sheldahl, Inc. | Method and apparatus for preparing conductive screened through holes employing metallic plated polymer thick films |
| US4856424A (en) * | 1988-02-10 | 1989-08-15 | Nippon Cmk Corporation | Apparatus for filler taping screen frame and apparatus for applying filling liquid to screen frame |
| US4942076A (en) * | 1988-11-03 | 1990-07-17 | Micro Substrates, Inc. | Ceramic substrate with metal filled via holes for hybrid microcircuits and method of making the same |
| US4902371A (en) * | 1988-12-12 | 1990-02-20 | International Business Machines Corporation | Mask shock absorbing system and method of using the same |
| US5948533A (en) * | 1990-02-09 | 1999-09-07 | Ormet Corporation | Vertically interconnected electronic assemblies and compositions useful therefor |
| JPH0614582B2 (ja) * | 1990-11-19 | 1994-02-23 | 日本シイエムケイ株式会社 | ホールマスキング装置 |
| US5174201A (en) * | 1991-06-07 | 1992-12-29 | International Business Machines Corporation | Thick film mask separation detection system |
| US5242641A (en) * | 1991-07-15 | 1993-09-07 | Pacific Trinetics Corporation | Method for forming filled holes in multi-layer integrated circuit packages |
| JP3166251B2 (ja) * | 1991-12-18 | 2001-05-14 | 株式会社村田製作所 | セラミック多層電子部品の製造方法 |
| US5284189A (en) * | 1992-03-16 | 1994-02-08 | Printron, Inc. | Conductive ink packaging for printed circuit board screen printing operations |
| JP3254289B2 (ja) * | 1993-03-18 | 2002-02-04 | 理想科学工業株式会社 | 孔版印刷方法および装置 |
| US5831828A (en) * | 1993-06-03 | 1998-11-03 | International Business Machines Corporation | Flexible circuit board and common heat spreader assembly |
| JP3676845B2 (ja) * | 1995-05-11 | 2005-07-27 | 理想科学工業株式会社 | 簡易な構造の減圧式孔版印刷方法および装置 |
| JPH10129098A (ja) * | 1996-10-30 | 1998-05-19 | Riso Kagaku Corp | 減圧式孔版印刷方法及び装置 |
| US6073554A (en) * | 1998-02-13 | 2000-06-13 | Cutcher, Sr.; Thomas V. | Ink shield screen printing assembly and process |
| JP3448703B2 (ja) * | 1999-02-15 | 2003-09-22 | ミナミ株式会社 | スクリーン印刷機 |
| US7005179B2 (en) * | 2002-07-26 | 2006-02-28 | The Regents Of The University Of California | Conductive inks for metalization in integrated polymer microsystems |
| US7036220B2 (en) * | 2003-12-18 | 2006-05-02 | The Regents Of The University Of California | Pin-deposition of conductive inks for microelectrodes and contact via filling |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3226255A (en) * | 1961-10-31 | 1965-12-28 | Western Electric Co | Masking method for semiconductor |
| US3172358A (en) * | 1962-04-11 | 1965-03-09 | Weiss Franz | Suction stenciling apparatus |
| US3530792A (en) * | 1967-11-13 | 1970-09-29 | Jose Valiela | Apparatus for underglaze ceramic decoration |
| DD112576A1 (ja) * | 1974-06-17 | 1975-04-12 | ||
| US4043683A (en) * | 1974-06-20 | 1977-08-23 | Loctite Corporation | Dispensing and wiping device |
| US4094716A (en) * | 1974-10-07 | 1978-06-13 | Iberica De Calcomanias, S.A. | Method of and apparatus for decorating articles with decalcomanias |
-
1984
- 1984-04-02 US US06/595,658 patent/US4519760A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
- 1985-03-30 DE DE19853511723 patent/DE3511723A1/de active Granted
- 1985-04-01 JP JP60069875A patent/JPS6110295A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0127599B2 (ja) | 1989-05-30 |
| DE3511723C2 (ja) | 1993-01-28 |
| DE3511723A1 (de) | 1985-10-24 |
| US4519760A (en) | 1985-05-28 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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