JPS61119002A - 感温抵抗体 - Google Patents
感温抵抗体Info
- Publication number
- JPS61119002A JPS61119002A JP23950384A JP23950384A JPS61119002A JP S61119002 A JPS61119002 A JP S61119002A JP 23950384 A JP23950384 A JP 23950384A JP 23950384 A JP23950384 A JP 23950384A JP S61119002 A JPS61119002 A JP S61119002A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- rho
- powder
- sensitive resistor
- ruo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は温度に体して抵抗値が大きく変わる感温抵抗体
に係わり、特に抵抗急変領域でのヒステリシスが小さく
、かつ膜状素子形成に適した感温抵抗体に関する。
に係わり、特に抵抗急変領域でのヒステリシスが小さく
、かつ膜状素子形成に適した感温抵抗体に関する。
アルミナ基板等の絶縁基板上に、約68°Cで抵抗値が
大きく変わるvo2粉末を感温抵抗材料とした抵抗ペー
ストを、厚11rA印刷技術によって塗布し、これを空
気中で処理して厚膜感温素子を形成することが行なわれ
ている(特開昭54.158696)。
大きく変わるvo2粉末を感温抵抗材料とした抵抗ペー
ストを、厚11rA印刷技術によって塗布し、これを空
気中で処理して厚膜感温素子を形成することが行なわれ
ている(特開昭54.158696)。
VO2は600℃以上の高温下では極めて酸化され易く
、炭酸ガス中で熱処理を行なう。熱処理、即ち焼成を空
気中でなく炭酸ガス等のような特殊な雰囲気で行なうこ
とは、雰囲気制御という設備的な問題ととbに、感温素
子特性のばらつきをおさえるという点からも極めて厳し
い管理が必要であった。
、炭酸ガス中で熱処理を行なう。熱処理、即ち焼成を空
気中でなく炭酸ガス等のような特殊な雰囲気で行なうこ
とは、雰囲気制御という設備的な問題ととbに、感温素
子特性のばらつきをおさえるという点からも極めて厳し
い管理が必要であった。
この観点から、V○2粉末と、ガラスフリットに、金属
ボロン粉末を加え、これを空気中焼成することが行なわ
れている(特公昭57−25961)。
ボロン粉末を加え、これを空気中焼成することが行なわ
れている(特公昭57−25961)。
しかしVO2は第1図に示すように温度−抵抗特性にヒ
ステリシスがあり、例えば急変領域の所定抵抗値に対す
る温度差は2℃にも及び、感温抵抗材料としてVO2を
単独に用いるセラミック焼結体あるいは膜状焼成体の感
温素子は、精度の低い制御器として利用されるに留まっ
ていた。
ステリシスがあり、例えば急変領域の所定抵抗値に対す
る温度差は2℃にも及び、感温抵抗材料としてVO2を
単独に用いるセラミック焼結体あるいは膜状焼成体の感
温素子は、精度の低い制御器として利用されるに留まっ
ていた。
このヒステリシスを解消するため、粒径50μm以下の
VO2に、Ba、 Sr、 A Q t Nby Fe
及びPの酸化物粉体を混合し、焼結して成る抵抗急変型
感温材料が知られている(特公昭46−8547)。
VO2に、Ba、 Sr、 A Q t Nby Fe
及びPの酸化物粉体を混合し、焼結して成る抵抗急変型
感温材料が知られている(特公昭46−8547)。
しかし、高抵抗値と低抵抗値の急変領域での極めて高い
温度依存性を利用した高精度温度検知器、あるいはこの
領域での微小温度変化を活用する高周波発振器へ適用す
るには、前記ヒステリシスを尚一層低減し、所定温度に
対する二つの抵抗値の差を5%以内とすることが望まれ
ていた。
温度依存性を利用した高精度温度検知器、あるいはこの
領域での微小温度変化を活用する高周波発振器へ適用す
るには、前記ヒステリシスを尚一層低減し、所定温度に
対する二つの抵抗値の差を5%以内とすることが望まれ
ていた。
本発明の目的は前記した従来技術の欠点を改善し温度−
抵抗特性のヒステリシスが極めて小さく、空気中焼成可
能な感温抵抗体を提供するにある。
抵抗特性のヒステリシスが極めて小さく、空気中焼成可
能な感温抵抗体を提供するにある。
上記目的は、(a)VO,と二酸化型の金属酸化物であ
るRuO2、RhO2.Rho、もしくはMoO□との
反応焼結体の粉末と、(b)金属ボロン粉末と、(C)
ガラスフリットなる混合物であって、かつ前記(a)
、 (b) 。
るRuO2、RhO2.Rho、もしくはMoO□との
反応焼結体の粉末と、(b)金属ボロン粉末と、(C)
ガラスフリットなる混合物であって、かつ前記(a)
、 (b) 。
(C)よりなる混合物の組成が、第2図のこれら三成分
の三角組成図において、点A〜Eを結んだ線で囲まれた
範囲にあり、更に前記(a)の焼結体がVo、65〜8
5重量%、RuO2、RhO2.Rho□もしくはM
o O,が35〜15重景%よりなる混合物を酸化雰囲
気中で熱処理して得た感温抵抗体で達成される。
の三角組成図において、点A〜Eを結んだ線で囲まれた
範囲にあり、更に前記(a)の焼結体がVo、65〜8
5重量%、RuO2、RhO2.Rho□もしくはM
o O,が35〜15重景%よりなる混合物を酸化雰囲
気中で熱処理して得た感温抵抗体で達成される。
但し、上記の点A〜Eは、以下の組成を゛表わす。
Vo2と、RuO2、RhO2.Rho、 金属ボ
ロン ガラス反応焼結体(重量%) (重
量%) (重量%)A 60
30 10B 85
5 10C55540 D 50 10 4
0E 50 30
20なお、Vo2にRuO2、RhO、、Rho、もし
くはM o O2を上記の割合で配合したものを反応焼
結させると。
ロン ガラス反応焼結体(重量%) (重
量%) (重量%)A 60
30 10B 85
5 10C55540 D 50 10 4
0E 50 30
20なお、Vo2にRuO2、RhO、、Rho、もし
くはM o O2を上記の割合で配合したものを反応焼
結させると。
急変感温特性を示すVO2はあらかじめ歪の与えられた
結晶構造となるため、温度に対して歪んだV○2結晶部
分を起点とする原子の移動が徐々に始まり、これに伴っ
て抵抗値も徐々に追従して変化するものとみられる。
結晶構造となるため、温度に対して歪んだV○2結晶部
分を起点とする原子の移動が徐々に始まり、これに伴っ
て抵抗値も徐々に追従して変化するものとみられる。
この時、’JO,を単独に用いる場合に比べて、急変領
域に相当する温度範囲が広がり、抵抗値の変化量の低下
があるが、ヒステリシスが小さくなり、温度に対して抵
抗値がほぼ一義的に決まるようになる。
域に相当する温度範囲が広がり、抵抗値の変化量の低下
があるが、ヒステリシスが小さくなり、温度に対して抵
抗値がほぼ一義的に決まるようになる。
また、上記各粉末の粒径は、通常の厚膜材料と同じく5
μm以下である。
μm以下である。
また、金属ボロンの配合割合が上記の範囲であると、ア
ルミナなどの絶縁基板上に印刷形成した未焼成の感温抵
抗ペーストを、通常の空気焼成型厚膜ベルドにより熱処
理ができ、Vo2の酸化によると思われる抵抗値の温度
変化率の低下、焼結物の強度低下がない。
ルミナなどの絶縁基板上に印刷形成した未焼成の感温抵
抗ペーストを、通常の空気焼成型厚膜ベルドにより熱処
理ができ、Vo2の酸化によると思われる抵抗値の温度
変化率の低下、焼結物の強度低下がない。
また、ガラスは、主に上記V○2系反応焼結体と基板を
結合させるものであり。上記の範囲外では膜強度の低下
、抵抗値の増大あるいは感温性の低下を生じる。
結合させるものであり。上記の範囲外では膜強度の低下
、抵抗値の増大あるいは感温性の低下を生じる。
また、上記(a)、(b)、 (c)よりなる組成物に
、有機ビヒクルを加えて混練し、ペースト状にして使用
しても良い。
、有機ビヒクルを加えて混練し、ペースト状にして使用
しても良い。
以下、本発明を実施例によって詳述する。
実施例1
平均粒径2μmのV O、、:s末とRu O□鉛粉末
を第1表のNα1〜Nα28に示すよ−Iな配合割き゛
−混合し、これらを用いてプレス成型によ11直径10
mm、Mさ5mn+の圧粉体を作成し、02を30pp
m含むN2雰囲気中で1000°Cにて10分間熱処理
した。vQ2の熱処理はその酸化防止のため基本的に非
酸化雰囲気で行なう必要があるが1反応を伴なう本実施
例では02を小量含有させた。次いで、この焼結体を粉
砕機で砕き、平均粒径1.5μmの粉末を作成した。
を第1表のNα1〜Nα28に示すよ−Iな配合割き゛
−混合し、これらを用いてプレス成型によ11直径10
mm、Mさ5mn+の圧粉体を作成し、02を30pp
m含むN2雰囲気中で1000°Cにて10分間熱処理
した。vQ2の熱処理はその酸化防止のため基本的に非
酸化雰囲気で行なう必要があるが1反応を伴なう本実施
例では02を小量含有させた。次いで、この焼結体を粉
砕機で砕き、平均粒径1.5μmの粉末を作成した。
ガラスフリットは、一般常法により作成した平均粒径1
.0μmの第2表に示す組成A、Bのものを用いた。
.0μmの第2表に示す組成A、Bのものを用いた。
vo2系焼結体の粉末と、ガラスフリットと平均粒径1
.0μmの金属ボロン粉とを第1表&1〜血28に示す
ような配合割合に混合し、粉末総量100gに対してそ
れぞれ40gの有機ビヒクル(エチルセルローズ5%の
α−テルピネオール溶液)を加えて混練してペースト状
とした。
.0μmの金属ボロン粉とを第1表&1〜血28に示す
ような配合割合に混合し、粉末総量100gに対してそ
れぞれ40gの有機ビヒクル(エチルセルローズ5%の
α−テルピネオール溶液)を加えて混練してペースト状
とした。
ペーストを、予め850℃厚膜ベルト炉で2.5mm口
、厚さ0.2mmのアルミナ基板1上に形成したAg−
Pd−系電極間に印刷し、150℃で乾燥してα−テル
ピネオール揮散させ、空気中で700°Cにて10分間
焼成し、第3図に示す1mm口、厚さ40μmの厚膜底
部抵抗体3を設けたn欣感温抵抗素子を形成した。
、厚さ0.2mmのアルミナ基板1上に形成したAg−
Pd−系電極間に印刷し、150℃で乾燥してα−テル
ピネオール揮散させ、空気中で700°Cにて10分間
焼成し、第3図に示す1mm口、厚さ40μmの厚膜底
部抵抗体3を設けたn欣感温抵抗素子を形成した。
素子の50℃の抵抗値RL、100℃の抵抗値R,,5
0℃と100℃の抵抗値の比RL/R11(ヒステリシ
スにおける所定温度での二つの抵抗値の比の最大値を示
す)を測定した。
0℃と100℃の抵抗値の比RL/R11(ヒステリシ
スにおける所定温度での二つの抵抗値の比の最大値を示
す)を測定した。
従来の一般の厚膜サーミスタ素子以上の抵抗値の温度変
化を得るには丘記RL/R11は10以上が望まれ、実
用回路として用いるに50℃の抵抗値は500 kΩ以
下が望まれる。そして、ヒステリシスにおける最大抵抗
値比は、二つの抵抗値の差を5%以下とするため、 1
.05以下が望まれる。
化を得るには丘記RL/R11は10以上が望まれ、実
用回路として用いるに50℃の抵抗値は500 kΩ以
下が望まれる。そして、ヒステリシスにおける最大抵抗
値比は、二つの抵抗値の差を5%以下とするため、 1
.05以下が望まれる。
第1表の尚1〜N1128から明らかなように、vQよ
とRu G 2との反応焼結本粉、金属ボロン粉、ガラ
スフリッ1〜が第2図に示す三角組成図の範囲にあり、
かつvQ2との反応焼結体においてRuO□が15〜3
5wt%である組成物において、すべて所望の特性を得
た。
とRu G 2との反応焼結本粉、金属ボロン粉、ガラ
スフリッ1〜が第2図に示す三角組成図の範囲にあり、
かつvQ2との反応焼結体においてRuO□が15〜3
5wt%である組成物において、すべて所望の特性を得
た。
実施例2
RuO2、RhO、のかわりにRhO2を用いた以外は
、すべて実施例1と同様にしてアルミナ基板上に厚膜抵
抗体を設けた厚膜感温抵抗素子を得た。
、すべて実施例1と同様にしてアルミナ基板上に厚膜抵
抗体を設けた厚膜感温抵抗素子を得た。
特性は第3表に示すとおりであり、これまた実施例1と
同様であった。
同様であった。
実施例3
RuO2、RhO、のかわりにM2O3を用いた以外は
、すべて実施例1と同様にしてアルミナ基板上に厚膜抵
抗体を設けた厚膜感温抵抗素子を得た。
、すべて実施例1と同様にしてアルミナ基板上に厚膜抵
抗体を設けた厚膜感温抵抗素子を得た。
特性は第4表に示すとおりであり、これまた実施例1と
同様であった。
同様であった。
以下余白
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば温度−抵抗特性におい
てヒステリシスを極めて小さく抑えた感温抵抗体ができ
、高精度の温度計測、制御、あるいは微小温度変動を利
用した高周波発振器が可能となった・
てヒステリシスを極めて小さく抑えた感温抵抗体ができ
、高精度の温度計測、制御、あるいは微小温度変動を利
用した高周波発振器が可能となった・
第1図はvO2単結晶の温度−抵抗特性、第2図は本発
明の感温抵抗体の組成範囲を示す三角組成図、第3図は
厚膜感温抵抗素子断面図である。 1・・セラミック基板、2・・・Ag−Pd電匝、3・
・・厚膜感温抵抗体。
明の感温抵抗体の組成範囲を示す三角組成図、第3図は
厚膜感温抵抗素子断面図である。 1・・セラミック基板、2・・・Ag−Pd電匝、3・
・・厚膜感温抵抗体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、VO_2と、RuO_2、RhO_2もしくはMo
O_2との反応焼結体の粉末と、金属ボロン粉末と、ガ
ラスフリットよりなる混合物を、酸化性雰囲気中で、熱
処理して得た感温抵抗体。 2、前記VO_2と、RuO_2、RhO_2もしくは
MoO_2との反応焼結体の粉末と、金属ボロン粉末と
、ガラスフリットよりなる混合物の組成が、これら三成
分の三角組成図において、点A−Eを結んだ線で囲まれ
た範囲にあることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の感温抵抗体。 但し、上記の点A〜Eは以下の組成を示す。 VO_2と、RuO_2、RhO_2もしくはMoO_
2との反応焼結体(重量%) 金属ボロン粉末(重量%
) ガラスフリット(重量%)A 60 30 10 B 85 5 10 C 55 5 40 D 50 10 40 E 50 30 20 3、前記VO_2と、RuO_2、RhO_2もしくは
MoO_2との反応焼結体が、VO_265〜85重量
%、RuO_2、RhO_2もしくはMoO_2が35
〜15重量%よりなる混合物を反応焼結させたものであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の感温抵
抗体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23950384A JPS61119002A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 感温抵抗体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23950384A JPS61119002A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 感温抵抗体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61119002A true JPS61119002A (ja) | 1986-06-06 |
Family
ID=17045753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23950384A Pending JPS61119002A (ja) | 1984-11-15 | 1984-11-15 | 感温抵抗体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61119002A (ja) |
-
1984
- 1984-11-15 JP JP23950384A patent/JPS61119002A/ja active Pending
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