JPS6120693A - ボンデイングワイヤ− - Google Patents
ボンデイングワイヤ−Info
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- JPS6120693A JPS6120693A JP59139108A JP13910884A JPS6120693A JP S6120693 A JPS6120693 A JP S6120693A JP 59139108 A JP59139108 A JP 59139108A JP 13910884 A JP13910884 A JP 13910884A JP S6120693 A JPS6120693 A JP S6120693A
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- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、銅系ボンディングワイヤーに関する。
ICやLSI等の半導体素子の内部では、例えば、図面
に示すように、半導体チップtl)及びリードフィンガ
ー(2)が設けられており、これらを線径10〜100
μ程度のボンディングワイヤー(3)で結ぶ構造となっ
ている。
に示すように、半導体チップtl)及びリードフィンガ
ー(2)が設けられており、これらを線径10〜100
μ程度のボンディングワイヤー(3)で結ぶ構造となっ
ている。
このボンディングワイヤー(3)の接合方法としては、
まずワイヤーの先端をボール状に加熱溶融させ、次にこ
のボール状の先端を半導体チップ(11−こ圧接し、更
に弧を描くようにワイヤーを延ばし、300〜350℃
に加熱されたリードフィンガー(2)にワイヤーの一部
を再度圧接し、切断することにより、半導体チップ01
とリードフィンガー(2)とを結線するもので、ある。
まずワイヤーの先端をボール状に加熱溶融させ、次にこ
のボール状の先端を半導体チップ(11−こ圧接し、更
に弧を描くようにワイヤーを延ばし、300〜350℃
に加熱されたリードフィンガー(2)にワイヤーの一部
を再度圧接し、切断することにより、半導体チップ01
とリードフィンガー(2)とを結線するもので、ある。
この種のボンディングワイヤーとして導電性、ワイヤー
伸び、ワイヤー強度、半導体チップとの接合強度(以下
ボール接合強度と称す、)及びボール形成性が要求され
ており、従来から主に金線が使用されている。
伸び、ワイヤー強度、半導体チップとの接合強度(以下
ボール接合強度と称す、)及びボール形成性が要求され
ており、従来から主に金線が使用されている。
しかし、近年、価格及び導電性の点からボンディングワ
イヤーとして、銅線を用いる試みがなされているが、銅
線を用いて熱圧接を行なうと、ボール接合強度が低下す
る場合がしばしばあり、一方、ボール接合性を改善しよ
うとすると、導電性が低下し、双方の特性を満足する銅
リードワイヤーが得られなかった。
イヤーとして、銅線を用いる試みがなされているが、銅
線を用いて熱圧接を行なうと、ボール接合強度が低下す
る場合がしばしばあり、一方、ボール接合性を改善しよ
うとすると、導電性が低下し、双方の特性を満足する銅
リードワイヤーが得られなかった。
本発明は、ボール接合強度が良好でかつ導電性が良好な
銅リードワイヤーを提供することを目的とする。
銅リードワイヤーを提供することを目的とする。
本発明者らは、ボンディングワイヤーについて鋭意研究
した結果、ボンディング強度の低下は、主に形成された
ボール中のガスにより生じることを見い出した。
した結果、ボンディング強度の低下は、主に形成された
ボール中のガスにより生じることを見い出した。
即チ、半導体チップ上にこのボールが圧接された際、ガ
スによる空洞が接合部に位置し、接合強度を低下させる
こと及びこの現象は特に銅線で発生しやすいことを見い
出した。
スによる空洞が接合部に位置し、接合強度を低下させる
こと及びこの現象は特に銅線で発生しやすいことを見い
出した。
本発明は、これらの知見をもとに完成されたものである
。
。
本発明は、Mg+Oa+希土類元素、TlHr、VtN
bzTa+Ni、Pa+Pt。
bzTa+Ni、Pa+Pt。
Au、Od、B、AA、In、Si、Ge。
P b 、P 、S b 、B i t 8 e及びT
eから選択された1種又は2種以上の元素を0.001
〜2重量%含有し、残部が実質的に銅であるボンディン
グワイヤーを提供する。
eから選択された1種又は2種以上の元素を0.001
〜2重量%含有し、残部が実質的に銅であるボンディン
グワイヤーを提供する。
即ち、これら添加元素は、合金中のH2O。
N、0を固定し、H2t O21N 2及びCOガスの
発生を抑制する。
発生を抑制する。
しかし、これらの添加量が多すぎると、導電性を低下さ
せ、一方少なすぎると、効果が生じにくい、したがって
、上記添加元素の成分範囲は0.001〜2重量%、更
には0.01〜1重量%が好ましい。
せ、一方少なすぎると、効果が生じにくい、したがって
、上記添加元素の成分範囲は0.001〜2重量%、更
には0.01〜1重量%が好ましい。
上記添加元素のうちでも、M g 、 Y 、ランタノ
イド元素及びHfは、導電性をあまり低下させず、ガス
発生防止効果が高い、しかしこれらの添加量も多すぎる
と、導電性を低下させ、一方少なすぎると効果が生じに
くい。
イド元素及びHfは、導電性をあまり低下させず、ガス
発生防止効果が高い、しかしこれらの添加量も多すぎる
と、導電性を低下させ、一方少なすぎると効果が生じに
くい。
したがって、その成分範囲は0.01〜1重量%、更に
は0.05〜0.2重量%が好ましい。
は0.05〜0.2重量%が好ましい。
なお1本発明のワイヤーは被覆されて用いられてもよい
。
。
以上述べたワイヤーの製造方法を次に述べる。談ず、成
分元素を添加して溶解鋳造してインゴットを得、次にこ
のインゴットを700〜800℃で熱間加工し、その後
900〜960℃で熱処理し、急冷後、60%以上の冷
間加工を施し、400〜600℃で熱処理を施す。
分元素を添加して溶解鋳造してインゴットを得、次にこ
のインゴットを700〜800℃で熱間加工し、その後
900〜960℃で熱処理し、急冷後、60%以上の冷
間加工を施し、400〜600℃で熱処理を施す。
それにより所望のワイヤーが得られる。
本発明の実施例について説明する。第1表に示す成分の
リードワイヤーを製造し、その特性として、導電性、初
期ボール硬度、ワイヤーの伸び、ワイヤー強度、ボール
接合強度及びボール形成性を測定した。
リードワイヤーを製造し、その特性として、導電性、初
期ボール硬度、ワイヤーの伸び、ワイヤー強度、ボール
接合強度及びボール形成性を測定した。
初期ボール硬度は、ボール圧着時の硬度をいい、硬度が
低いほど、圧着性は良好となる。
低いほど、圧着性は良好となる。
又、ワイヤーの伸びは、ワイヤーが破断する迄の伸びを
いい、伸びが大きいほど、断線率が低い。
いい、伸びが大きいほど、断線率が低い。
又、ボール接合強度は、熱圧着されているリードワイヤ
ーの接合部に、つり針状のカギをかけ、真横に引っばっ
て、接合部をせん断破壊させるまでの荷重(gf)
を測定することにより、得られる。
ーの接合部に、つり針状のカギをかけ、真横に引っばっ
て、接合部をせん断破壊させるまでの荷重(gf)
を測定することにより、得られる。
又、ボール形成性は、ワイヤーの先端がボール状に溶融
した際、酸化するかどうか、空洞ができるかどうか、ボ
ールの径のバラツキが大きいか小さいかという事を測定
することにより、判断される。
した際、酸化するかどうか、空洞ができるかどうか、ボ
ールの径のバラツキが大きいか小さいかという事を測定
することにより、判断される。
まず、導電性に関しては、実施例+11〜(5)及び比
較例+11がAu線より高い導電性を示し、非常に有効
である。
較例+11がAu線より高い導電性を示し、非常に有効
である。
又、初期ボール硬度に関しては、実施例(])〜(5)
及び比較例(5)がビッカース90以下を示し、実用的
である。
及び比較例(5)がビッカース90以下を示し、実用的
である。
又、ワイヤーの伸びに関しては、実施例ill〜(5)
及び比較例(11、(31がAu1iJより大きい伸び
を示し、有用である。
及び比較例(11、(31がAu1iJより大きい伸び
を示し、有用である。
又、ワイヤー強度に関しては、実施例(1)〜(5)及
び比較例(1)〜(4)がAu線と同等あるいはそれよ
り大きい強度を示し、有用である。
び比較例(1)〜(4)がAu線と同等あるいはそれよ
り大きい強度を示し、有用である。
又、ボール接合強度に関しては、実施例+1i〜(5)
及び比較例(21t (3i 、 (51は接合強度が
65(1’)以上であり、実用的である。
及び比較例(21t (3i 、 (51は接合強度が
65(1’)以上であり、実用的である。
又、ボール形成性は、比較例(4)以外は、すべて良好
である。
である。
以上の各特性を総合的に考慮すると1本発明の実施例t
l)〜(5)は比較例(11〜(5)に比べて、優れて
いる。
l)〜(5)は比較例(11〜(5)に比べて、優れて
いる。
以下余白
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明のリードワイヤーは、Mg
eOa、希土類元素、T1゜Hr、V、Nb、Ta、N
i、Pd、Pt。
eOa、希土類元素、T1゜Hr、V、Nb、Ta、N
i、Pd、Pt。
Au、Cd、B、A/、In、Sl、Ge。
Pb、P、8b、Bi、8e及びTeから選択された1
種又た2種以上の元素を0. OO1〜2ffii!%
含有させることにより、ボール接合強度が良好でかつ導
電性が良好な銅系り一ドワイヤーを提供できる。
種又た2種以上の元素を0. OO1〜2ffii!%
含有させることにより、ボール接合強度が良好でかつ導
電性が良好な銅系り一ドワイヤーを提供できる。
図面は、半導体素子の一部切り欠き斜視図である。
l・・・半導体チップ
2・・リードフィンガー
3・・・ボンディングワイヤー
4・・・樹脂モールド
Claims (2)
- (1)Mg、Ca、希土類元素、Ti、Hf、VNb、
Ta、Ni、Pd、Pt、Au、CdB、Al、In、
Si、Ge、Pb、P、 Sb、Bi、Se及びTeから選択された1種又は2種
以上の元素を0.001〜2重量%含有し、残部が実質
的に銅であるボンディングワイヤー。 - (2)Mg、Y、ランタノイド元素、Hfから選択され
た1種又は2種以上の元素を0.01〜1重量%含有し
、残部が実質的に銅である特許請求の範囲第1項に記載
のボンディングワイヤー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59139108A JPS6120693A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | ボンデイングワイヤ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59139108A JPS6120693A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | ボンデイングワイヤ− |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6095481A Division JP2501303B2 (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6120693A true JPS6120693A (ja) | 1986-01-29 |
| JPH0520493B2 JPH0520493B2 (ja) | 1993-03-19 |
Family
ID=15237669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59139108A Granted JPS6120693A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | ボンデイングワイヤ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6120693A (ja) |
Cited By (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199645A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6199646A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6280241A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-13 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6320844A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6321841A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-01-29 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6329938A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6364211A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | 古河電気工業株式会社 | 銅細線とその製造方法 |
| JPS63310932A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-19 | Kurasawa Kogaku Kogyo Kk | 銅合金 |
| JPS643903A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-09 | Furukawa Electric Co Ltd | Thin copper wire for electronic devices and manufacture thereof |
| US7347056B2 (en) | 2004-07-09 | 2008-03-25 | Honda Motor Co., Ltd. | Vehicle air-conditioning system |
| JP2008085320A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体装置用銅合金ボンディングワイヤ |
| JP2008085319A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体装置用銅合金ボンディングワイヤ |
| JP2008169422A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 銅合金およびその製造方法ならびに銅合金を用いた電線・ケーブル |
| CN101850481A (zh) * | 2010-06-22 | 2010-10-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种用于紫铜厚大构件熔化焊的铜合金焊丝及其制备方法 |
| JP2011003745A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Cuボンディングワイヤ |
| US8004094B2 (en) | 2006-08-31 | 2011-08-23 | Nippon Steel Materials Co., Ltd. | Copper alloy bonding wire for semiconductor device |
| US8119951B2 (en) | 2000-05-17 | 2012-02-21 | Hobart Brothers Company | Weld wire with enhanced slag removal |
| KR20120031005A (ko) | 2009-06-24 | 2012-03-29 | 신닛테츠 마테리알즈 가부시키가이샤 | 반도체용 구리 합금 본딩 와이어 |
| CN102560184A (zh) * | 2012-01-17 | 2012-07-11 | 宁波敖达金属新材料有限公司 | 无铅易切削高导电率的钙铜材料 |
| CN103137237A (zh) * | 2011-12-01 | 2013-06-05 | 贺利氏材料科技公司 | 用于微电子装置中接合的具有痕量加入物的3n铜线 |
| CN103137235A (zh) * | 2011-12-01 | 2013-06-05 | 贺利氏材料科技公司 | 用于微电子装置中接合的二次合金1n铜线 |
| JPWO2011129256A1 (ja) * | 2010-04-14 | 2013-07-18 | タツタ電線株式会社 | ボンディングワイヤ |
| US8653668B2 (en) | 2010-02-03 | 2014-02-18 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Copper bonding wire for semiconductor device and bonding structure thereof |
| JP5937770B1 (ja) * | 2015-05-26 | 2016-06-22 | 日鉄住金マイクロメタル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| TWI550639B (zh) * | 2015-05-26 | 2016-09-21 | 日鐵住金新材料股份有限公司 | Connecting wires for semiconductor devices |
| JP2016225610A (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-28 | 日鉄住金マイクロメタル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| US20170040281A1 (en) * | 2014-04-21 | 2017-02-09 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Bonding wire for semiconductor device |
| CN106514044A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-03-22 | 安徽华众焊业有限公司 | 铜基钎焊膏 |
| JP2018064050A (ja) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | 田中電子工業株式会社 | ボールボンディング用銅合金線 |
| US10414002B2 (en) | 2015-06-15 | 2019-09-17 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| US10468370B2 (en) | 2015-07-23 | 2019-11-05 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| KR20190126459A (ko) * | 2016-06-20 | 2019-11-11 | 닛데쓰마이크로메탈가부시키가이샤 | 반도체 장치용 구리 합금 본딩 와이어 |
| KR20200070424A (ko) * | 2017-12-28 | 2020-06-17 | 닛데쓰마이크로메탈가부시키가이샤 | 반도체 장치용 본딩 와이어 |
| US10950571B2 (en) | 2017-02-22 | 2021-03-16 | Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. | Bonding wire for semiconductor device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109402445B (zh) * | 2018-11-09 | 2021-01-15 | 上海理工大学 | 一种抗氧化铜基合金键合引线及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59139662A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-10 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のワイヤ・ボンデイング用Cu合金細線 |
| JPS59139663A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-10 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のワイヤ・ボンデイング用Cu合金細線 |
| JPS60124960A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体素子結線用線 |
| JPS60236253A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体用ボンデイング細線 |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59139108A patent/JPS6120693A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59139662A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-10 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のワイヤ・ボンデイング用Cu合金細線 |
| JPS59139663A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-10 | Mitsubishi Metal Corp | 半導体装置のワイヤ・ボンデイング用Cu合金細線 |
| JPS60124960A (ja) * | 1983-12-09 | 1985-07-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体素子結線用線 |
| JPS60236253A (ja) * | 1984-05-10 | 1985-11-25 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体用ボンデイング細線 |
Cited By (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6199646A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6199645A (ja) * | 1984-10-20 | 1986-05-17 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6280241A (ja) * | 1985-10-01 | 1987-04-13 | Tanaka Denshi Kogyo Kk | 半導体素子のボンデイング用銅線 |
| JPS6320844A (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-28 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6321841A (ja) * | 1986-07-16 | 1988-01-29 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6329938A (ja) * | 1986-07-23 | 1988-02-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPS6364211A (ja) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | 古河電気工業株式会社 | 銅細線とその製造方法 |
| JPS63310932A (ja) * | 1987-06-11 | 1988-12-19 | Kurasawa Kogaku Kogyo Kk | 銅合金 |
| JPS643903A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-09 | Furukawa Electric Co Ltd | Thin copper wire for electronic devices and manufacture thereof |
| US8119951B2 (en) | 2000-05-17 | 2012-02-21 | Hobart Brothers Company | Weld wire with enhanced slag removal |
| US8158907B2 (en) | 2000-05-17 | 2012-04-17 | Hobart Brothers Company | Weld wire with enhanced slag removal |
| US7347056B2 (en) | 2004-07-09 | 2008-03-25 | Honda Motor Co., Ltd. | Vehicle air-conditioning system |
| JP2008085320A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体装置用銅合金ボンディングワイヤ |
| US8004094B2 (en) | 2006-08-31 | 2011-08-23 | Nippon Steel Materials Co., Ltd. | Copper alloy bonding wire for semiconductor device |
| JP2008085319A (ja) * | 2006-08-31 | 2008-04-10 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体装置用銅合金ボンディングワイヤ |
| US8610291B2 (en) | 2006-08-31 | 2013-12-17 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Copper alloy bonding wire for semiconductor device |
| JP2008169422A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 銅合金およびその製造方法ならびに銅合金を用いた電線・ケーブル |
| JP2011003745A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-01-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Cuボンディングワイヤ |
| US9427830B2 (en) | 2009-06-24 | 2016-08-30 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Copper alloy bonding wire for semiconductor |
| KR20120031005A (ko) | 2009-06-24 | 2012-03-29 | 신닛테츠 마테리알즈 가부시키가이샤 | 반도체용 구리 합금 본딩 와이어 |
| US8653668B2 (en) | 2010-02-03 | 2014-02-18 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Copper bonding wire for semiconductor device and bonding structure thereof |
| JPWO2011129256A1 (ja) * | 2010-04-14 | 2013-07-18 | タツタ電線株式会社 | ボンディングワイヤ |
| CN101850481A (zh) * | 2010-06-22 | 2010-10-06 | 哈尔滨工业大学 | 一种用于紫铜厚大构件熔化焊的铜合金焊丝及其制备方法 |
| US20130142568A1 (en) * | 2011-12-01 | 2013-06-06 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | 3n copper wires with trace additions for bonding in microelectronics devices |
| CN103137237A (zh) * | 2011-12-01 | 2013-06-05 | 贺利氏材料科技公司 | 用于微电子装置中接合的具有痕量加入物的3n铜线 |
| CN103137235A (zh) * | 2011-12-01 | 2013-06-05 | 贺利氏材料科技公司 | 用于微电子装置中接合的二次合金1n铜线 |
| CN102560184A (zh) * | 2012-01-17 | 2012-07-11 | 宁波敖达金属新材料有限公司 | 无铅易切削高导电率的钙铜材料 |
| JP2017163169A (ja) * | 2014-04-21 | 2017-09-14 | 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| US10950570B2 (en) * | 2014-04-21 | 2021-03-16 | Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. | Bonding wire for semiconductor device |
| JP2020031238A (ja) * | 2014-04-21 | 2020-02-27 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| US20170040281A1 (en) * | 2014-04-21 | 2017-02-09 | Nippon Steel & Sumikin Materials Co., Ltd. | Bonding wire for semiconductor device |
| TWI550639B (zh) * | 2015-05-26 | 2016-09-21 | 日鐵住金新材料股份有限公司 | Connecting wires for semiconductor devices |
| JP2016225610A (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-28 | 日鉄住金マイクロメタル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| JP5937770B1 (ja) * | 2015-05-26 | 2016-06-22 | 日鉄住金マイクロメタル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| US10672733B2 (en) | 2015-05-26 | 2020-06-02 | Nippon Micrometal Corporation | Cu alloy core bonding wire with Pd coating for semiconductor device |
| TWI628671B (zh) * | 2015-05-26 | 2018-07-01 | 日鐵住金新材料股份有限公司 | 半導體裝置用接合導線 |
| JP2018137487A (ja) * | 2015-05-26 | 2018-08-30 | 日鉄住金マイクロメタル株式会社 | 半導体装置用ボンディングワイヤ |
| US10236272B2 (en) | 2015-05-26 | 2019-03-19 | Nippon Micrometal Corporation | Cu alloy core bonding wire with Pd coating for semiconductor device |
| US10497663B2 (en) | 2015-05-26 | 2019-12-03 | Nippon Micrometal Corporation | Cu alloy core bonding wire with Pd coating for semiconductor device |
| US10414002B2 (en) | 2015-06-15 | 2019-09-17 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| US10610976B2 (en) | 2015-06-15 | 2020-04-07 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| US10737356B2 (en) | 2015-06-15 | 2020-08-11 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| US10468370B2 (en) | 2015-07-23 | 2019-11-05 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| KR20190126459A (ko) * | 2016-06-20 | 2019-11-11 | 닛데쓰마이크로메탈가부시키가이샤 | 반도체 장치용 구리 합금 본딩 와이어 |
| US12300658B2 (en) | 2016-06-20 | 2025-05-13 | Nippon Micrometal Corporation | Copper alloy bonding wire for semiconductor devices |
| KR20180041553A (ko) * | 2016-10-14 | 2018-04-24 | 타나카 덴시 코오교오 카부시키가이샤 | 볼 본딩용 구리 합금선 |
| JP2018064050A (ja) * | 2016-10-14 | 2018-04-19 | 田中電子工業株式会社 | ボールボンディング用銅合金線 |
| CN106514044A (zh) * | 2016-11-30 | 2017-03-22 | 安徽华众焊业有限公司 | 铜基钎焊膏 |
| US10950571B2 (en) | 2017-02-22 | 2021-03-16 | Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd. | Bonding wire for semiconductor device |
| DE112018000061B4 (de) | 2017-02-22 | 2021-12-09 | Nippon Micrometal Corporation | Bonddraht für Halbleiterbauelement |
| US11373934B2 (en) | 2017-12-28 | 2022-06-28 | Nippon Micrometal Corporation | Bonding wire for semiconductor device |
| KR20200070424A (ko) * | 2017-12-28 | 2020-06-17 | 닛데쓰마이크로메탈가부시키가이샤 | 반도체 장치용 본딩 와이어 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0520493B2 (ja) | 1993-03-19 |
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