JPS61249048A - 写真用支持体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/775—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
- G03C1/79—Macromolecular coatings or impregnations therefor, e.g. varnishes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、写真印画紙用支持体に関し、特にカブリが少
なく、かつ光沢が優れた耐水性の写真印画紙用支持体に
関するものである。
なく、かつ光沢が優れた耐水性の写真印画紙用支持体に
関するものである。
[発明の背景]
写真用印画紙は基本的に、基体、ハロゲン化銀乳剤層(
写真乳剤層)および保護ゼラチン層から構成されるもの
であるが、基体としては一般に、ゼラチンに硫酸バリウ
ムを分散させた懸濁液を原紙に被覆して得られる白色反
射層を有するいわゆるバライタ紙が用いられていた。し
かしながらバライタ紙の表面に写真感光乳剤を塗布した
支持体を用いた印画紙では、現像処理工程で現像処理液
や水をバライタ層あるいは原紙が吸収゛し、乾燥時間が
長くなるという欠点がある。
写真乳剤層)および保護ゼラチン層から構成されるもの
であるが、基体としては一般に、ゼラチンに硫酸バリウ
ムを分散させた懸濁液を原紙に被覆して得られる白色反
射層を有するいわゆるバライタ紙が用いられていた。し
かしながらバライタ紙の表面に写真感光乳剤を塗布した
支持体を用いた印画紙では、現像処理工程で現像処理液
や水をバライタ層あるいは原紙が吸収゛し、乾燥時間が
長くなるという欠点がある。
そこで最近では、原紙の両面にポリエチレン樹脂等の被
覆層を形成した、いわゆる樹脂被覆紙が基体として用い
られている。ただし、印画紙の片面(写真乳剤層が付設
される側の表面)には、バライタ紙と同様に白色反射層
を設ける必要があるところから、上記の樹脂被覆層の一
方に二酸化チタン等の白色顔料を含有させて白色顔料含
有樹脂波¥lNとする方法が利用されている。
覆層を形成した、いわゆる樹脂被覆紙が基体として用い
られている。ただし、印画紙の片面(写真乳剤層が付設
される側の表面)には、バライタ紙と同様に白色反射層
を設ける必要があるところから、上記の樹脂被覆層の一
方に二酸化チタン等の白色顔料を含有させて白色顔料含
有樹脂波¥lNとする方法が利用されている。
しかしながら、従来のバラ−イタ紙を支持体とする写真
印画紙上に得られた写真画像にくらべて、樹脂被覆紙を
支持体とする写真印画紙上に得られた写真画像は解像力
が劣るという欠点を有している。この欠点の原因は、樹
脂被覆層中に充填される二酸化チタンの量が少なく、そ
のため遮蔽効果が充分でなく、光が樹脂被覆層内で散乱
するためであると考えられている。
印画紙上に得られた写真画像にくらべて、樹脂被覆紙を
支持体とする写真印画紙上に得られた写真画像は解像力
が劣るという欠点を有している。この欠点の原因は、樹
脂被覆層中に充填される二酸化チタンの量が少なく、そ
のため遮蔽効果が充分でなく、光が樹脂被覆層内で散乱
するためであると考えられている。
樹脂被覆層への二酸化チタンの充填量を高める方法とし
ては、二酸化チタンの表面コーティングに関する発明が
、特開昭55−108658号、特開昭57−3585
5号等の公報に記載されており、また他の顔料を併用す
ることが特公昭49−27046号公報に記載されてい
る。しかし、これらのいずれの場合でも二酸化チタンの
充填量はせいぜい15重量%どまりである。
ては、二酸化チタンの表面コーティングに関する発明が
、特開昭55−108658号、特開昭57−3585
5号等の公報に記載されており、また他の顔料を併用す
ることが特公昭49−27046号公報に記載されてい
る。しかし、これらのいずれの場合でも二酸化チタンの
充填量はせいぜい15重量%どまりである。
以上述べたように樹脂被覆層中に充填できる二酸化チ、
タンの充填量に限度があるため、樹脂被覆紙の上に、白
色顔料と親水性コロイド溶液からなる白色顔料層を設け
る方法が既に提案されている(特公昭57−53937
号、特開昭57−64235号、特開昭50−4481
8号等の各公報参照)、この方法によって原紙の写真乳
剤層の隠蔽力を向上することが可能となったが、これら
の方法における白色顔料層形成用の塗布液の粘度が極度
に高いため、該塗布液中に二酸化チタンが充分に分散せ
ず、従って形成される白色顔料層の表面に満足できる光
沢が現れず、極端な場合には二酸化チタンの凝集が発生
するとの問題がある。
タンの充填量に限度があるため、樹脂被覆紙の上に、白
色顔料と親水性コロイド溶液からなる白色顔料層を設け
る方法が既に提案されている(特公昭57−53937
号、特開昭57−64235号、特開昭50−4481
8号等の各公報参照)、この方法によって原紙の写真乳
剤層の隠蔽力を向上することが可能となったが、これら
の方法における白色顔料層形成用の塗布液の粘度が極度
に高いため、該塗布液中に二酸化チタンが充分に分散せ
ず、従って形成される白色顔料層の表面に満足できる光
沢が現れず、極端な場合には二酸化チタンの凝集が発生
するとの問題がある。
また上記の白色顔料層は、その上に写真乳剤層を直接設
けるとカブリを生じること等の欠点がある。この欠点を
改善するために、白色顔料層と写真乳剤層の間に下塗層
を□設けることも考えられるが、下塗層の塗布量を多く
しなければカブリを防止できず、一方では下塗層の塗布
量を多くすると解像力が低下するなどの問題がある。
けるとカブリを生じること等の欠点がある。この欠点を
改善するために、白色顔料層と写真乳剤層の間に下塗層
を□設けることも考えられるが、下塗層の塗布量を多く
しなければカブリを防止できず、一方では下塗層の塗布
量を多くすると解像力が低下するなどの問題がある。
[発明の目的]
本発明の主な目的は、解像力と光沢が優れ、かつカブリ
の発生が低減された新規な耐水性の写真印画紙用支持体
を提供することにある。
の発生が低減された新規な耐水性の写真印画紙用支持体
を提供することにある。
[発明の要旨コ
本発明は、二酸化チタンが有機コロイド形成物質に分散
されてなる白色反射層を基体の少なくとも片面に有する
耐水性の写真印画紙用支持体において、該二酸化チタン
がオルガノシロキサンで被覆されていることを特徴とす
る写真印画紙用支持体にある。
されてなる白色反射層を基体の少なくとも片面に有する
耐水性の写真印画紙用支持体において、該二酸化チタン
がオルガノシロキサンで被覆されていることを特徴とす
る写真印画紙用支持体にある。
[発明の効果]
本発明の写真印画紙用支持体は、優れた耐水性と解像力
を示し、かつ光沢性に優れた写真印画紙用支持体である
。そして本発明の支持体を用いて製造された写真用印画
紙は、上記の特性のみならず、カブリの発生が実用的に
満足できる程度まで低減されるため、商品価値が極めて
高いとの利点を有する。
を示し、かつ光沢性に優れた写真印画紙用支持体である
。そして本発明の支持体を用いて製造された写真用印画
紙は、上記の特性のみならず、カブリの発生が実用的に
満足できる程度まで低減されるため、商品価値が極めて
高いとの利点を有する。
[発明の詳細な記述]
本発明の写真用支持体は、その基本構成として、基体お
よび該基体の少なくとも一方の表面に設けられた白色反
射層からなる構成を有するものである。
よび該基体の少なくとも一方の表面に設けられた白色反
射層からなる構成を有するものである。
本発明において用いられる基体は、公知の耐水性支持体
用基体材料から選ぶことができる。その例としては、原
紙や布などの不透明な基体に耐水化処理を施したもの、
ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレ
ート等のポリエステルのフィルム、三酢酸セルロースフ
ィルム、ポリスチレンフィルム、ホリブロピレンフィル
ム、ポリエチレンフィルム等の各種の樹脂製の基体を挙
げることができる。なお、上記の原紙の材料は公知の支
持体用原料の材料から選ぶことができる。
用基体材料から選ぶことができる。その例としては、原
紙や布などの不透明な基体に耐水化処理を施したもの、
ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレ
ート等のポリエステルのフィルム、三酢酸セルロースフ
ィルム、ポリスチレンフィルム、ホリブロピレンフィル
ム、ポリエチレンフィルム等の各種の樹脂製の基体を挙
げることができる。なお、上記の原紙の材料は公知の支
持体用原料の材料から選ぶことができる。
その例として天然パルプよりなる紙、ポリエチレンやポ
リプロピレンなどプラスチック材料製の合成パルプより
なる紙、あるいは天然パルプと合成パルプの混抄により
作られた紙、あるいは天然パルプと合成パルプの抄き合
せにより作られた紙等種々のものが挙げられる。
リプロピレンなどプラスチック材料製の合成パルプより
なる紙、あるいは天然パルプと合成パルプの混抄により
作られた紙、あるいは天然パルプと合成パルプの抄き合
せにより作られた紙等種々のものが挙げられる。
なお、写真用印画紙の平面性は基体の平面性に大きく支
配されるので、基体の平面性を良くしておくことが必要
である。そのため、たとえば、基体として短m維パルプ
を抄紙した原紙などを用いるときは熱カレンダー処理等
で平滑化したものを用いるのが好ましい。
配されるので、基体の平面性を良くしておくことが必要
である。そのため、たとえば、基体として短m維パルプ
を抄紙した原紙などを用いるときは熱カレンダー処理等
で平滑化したものを用いるのが好ましい。
基体の厚さには特に制限はないが一般に30〜300ル
m程度、好ましくは70〜200ルm程度である。
m程度、好ましくは70〜200ルm程度である。
基体としてパルプなどから製造した原紙を用いる場合の
耐水化処理として一般的に利用されている方法は、前述
のようにポリエチレンのようなポリオレフィン樹脂で原
紙の両面を被覆して防水層を形成する方法である。この
ポリオレフィン樹脂による被覆は、原紙の両面にポリオ
レフィン樹脂を溶融押出により塗布する方法によって一
般的に実施される・なお、ポリオレフィン樹脂被覆層に
は通常の樹脂被覆紙の場合と同様に二酸化チタンなどの
白色顔料を充填してもよいが、本発明の支持体において
は、別に白色顔料含有反射層が設けられるので、ポリオ
レフィン樹脂被覆層への白色顔料の充填は特に必要なも
のではない。
耐水化処理として一般的に利用されている方法は、前述
のようにポリエチレンのようなポリオレフィン樹脂で原
紙の両面を被覆して防水層を形成する方法である。この
ポリオレフィン樹脂による被覆は、原紙の両面にポリオ
レフィン樹脂を溶融押出により塗布する方法によって一
般的に実施される・なお、ポリオレフィン樹脂被覆層に
は通常の樹脂被覆紙の場合と同様に二酸化チタンなどの
白色顔料を充填してもよいが、本発明の支持体において
は、別に白色顔料含有反射層が設けられるので、ポリオ
レフィン樹脂被覆層への白色顔料の充填は特に必要なも
のではない。
本発明においては、上記のような基体上に、オルガノシ
ロキサンで被覆された二酸化チタンおよび該二酸化チタ
ンの結合剤となる有機コロイド形成物質を含有する白色
反射層が設けられる。
ロキサンで被覆された二酸化チタンおよび該二酸化チタ
ンの結合剤となる有機コロイド形成物質を含有する白色
反射層が設けられる。
二酸化チタンは、白色度、分散性および安定性等の点か
ら写真印画紙の隠蔽用として特に好ましい白色顔料であ
る。二酸化チタンはルチル型であっても、アナターゼ型
でも良く、それらを単独又は混合して使用してもよい、
また、硫酸法で作られたもの、塩素法で作られたもので
もよい、さらに二酸化チタンとしては、含水アルミナ処
理、含水二酸化ケイ素処理又は酸化亜鉛処理等の無機物
質による表面被覆処理したものが好ましい、二酸化チタ
ンの平均粒子径は0.1〜3pm程度のもの、特に0.
2〜1.OILmのものが好ましい。
ら写真印画紙の隠蔽用として特に好ましい白色顔料であ
る。二酸化チタンはルチル型であっても、アナターゼ型
でも良く、それらを単独又は混合して使用してもよい、
また、硫酸法で作られたもの、塩素法で作られたもので
もよい、さらに二酸化チタンとしては、含水アルミナ処
理、含水二酸化ケイ素処理又は酸化亜鉛処理等の無機物
質による表面被覆処理したものが好ましい、二酸化チタ
ンの平均粒子径は0.1〜3pm程度のもの、特に0.
2〜1.OILmのものが好ましい。
またその揮発成分(120℃で4時間の条件の下の乾燥
減量)は1.5%以下、特に1.0%以下であることが
好ましい。
減量)は1.5%以下、特に1.0%以下であることが
好ましい。
本発明において使用する二酸化チタンは、オルガノシロ
キサンにより被覆されたものである。上記の被覆は、二
酸化チタンをオルガノシロキサンによって表面処理する
ことにより達成される。従って、二酸化チタンの表面に
オルガノシロキサンによる被覆がなされていない部分(
露出部分)が若干存在してもよいことは勿論である。
キサンにより被覆されたものである。上記の被覆は、二
酸化チタンをオルガノシロキサンによって表面処理する
ことにより達成される。従って、二酸化チタンの表面に
オルガノシロキサンによる被覆がなされていない部分(
露出部分)が若干存在してもよいことは勿論である。
オルガノシロキサンとしては、分子中に下記一般式(I
)の構造を有するオルガノシロキサンが挙げられる。
)の構造を有するオルガノシロキサンが挙げられる。
−(−3i −0−) n −(I)
上式中、R1およびR2は、水素、アルキル基またはア
リール基を表わし、nは正の整数を表わす。上記一般式
(I)において、R1およびR2がアルキル基である場
合には、炭素数1〜8のものが好ましい。nは12以下
であることが好ましい。
リール基を表わし、nは正の整数を表わす。上記一般式
(I)において、R1およびR2がアルキル基である場
合には、炭素数1〜8のものが好ましい。nは12以下
であることが好ましい。
本発明において使用されるオルガノシロキサンの例とし
ては、ジメチルシロキサン、ジエチルシロキサン、メチ
ルエチルシロキサン、ジフェニルシロキサン、メチルフ
ェニルシロキサン、エチルフェニルシロキサン、メチル
ハイドロジエンシロキサン、エチルハイドロジエンシロ
キサンおよびフェニルハイドロジエンシロキサンを挙げ
ることができる。なお、上記の各オルガノシロキサンは
シロキサン単位を所望の数含む化合物であってよい、た
とえば、ジメチルシロキサンとメチルハイドロジエンシ
ロキサンは、それぞれ下記式(If)と(III)によ
り表わすことができる。
ては、ジメチルシロキサン、ジエチルシロキサン、メチ
ルエチルシロキサン、ジフェニルシロキサン、メチルフ
ェニルシロキサン、エチルフェニルシロキサン、メチル
ハイドロジエンシロキサン、エチルハイドロジエンシロ
キサンおよびフェニルハイドロジエンシロキサンを挙げ
ることができる。なお、上記の各オルガノシロキサンは
シロキサン単位を所望の数含む化合物であってよい、た
とえば、ジメチルシロキサンとメチルハイドロジエンシ
ロキサンは、それぞれ下記式(If)と(III)によ
り表わすことができる。
(ただし、上記式(II)と(m)においてkと見は共
に0あるいは、正の整数を表わす、ただし ′にと文
は11以下であることが好ましい、)なお、オルガノシ
ロキサンは一般にシロキサン単位の数の異なった化合物
の混合物として得られている0本発明において用いるオ
ルガノシロキサンは、そのような混合物であってもよい
ことは勿論である。
に0あるいは、正の整数を表わす、ただし ′にと文
は11以下であることが好ましい、)なお、オルガノシ
ロキサンは一般にシロキサン単位の数の異なった化合物
の混合物として得られている0本発明において用いるオ
ルガノシロキサンは、そのような混合物であってもよい
ことは勿論である。
オルガノシロキサンの二酸化チタンに対する被覆量は0
.01〜5重量%が好ましく、特に0゜1〜3重量%が
好ましい。
.01〜5重量%が好ましく、特に0゜1〜3重量%が
好ましい。
オルガノシロキサンを二酸化チタンの粒子表面に被覆す
るには、二酸化チタンを例えばマイクロナイザーφジェ
ットミル等の流体エネルギー粉砕機で粉砕する際にオル
ガノシロキサンを添加して行なうことができる。また、
ヘンシェルミキサー、スーパーミキサーなどの混合機を
用いて均一に混合して行なうこともできる。あるいは、
オル・ガノシロキサンを適当な有機溶剤に溶解し、それ
に二酸化チタンを浸漬させた後、有機溶剤のみを蒸発除
去することにより二酸化チタンの粒子表面のオルガノシ
ロキサンによる被覆をすることもできる。 ” 本発明の支持体において白色反射層は、オルガノシロキ
サン被覆二酸化チタンを有機コロイド形成物質のコロイ
ド溶液に分散させて得た塗布液から形成される。
るには、二酸化チタンを例えばマイクロナイザーφジェ
ットミル等の流体エネルギー粉砕機で粉砕する際にオル
ガノシロキサンを添加して行なうことができる。また、
ヘンシェルミキサー、スーパーミキサーなどの混合機を
用いて均一に混合して行なうこともできる。あるいは、
オル・ガノシロキサンを適当な有機溶剤に溶解し、それ
に二酸化チタンを浸漬させた後、有機溶剤のみを蒸発除
去することにより二酸化チタンの粒子表面のオルガノシ
ロキサンによる被覆をすることもできる。 ” 本発明の支持体において白色反射層は、オルガノシロキ
サン被覆二酸化チタンを有機コロイド形成物質のコロイ
ド溶液に分散させて得た塗布液から形成される。
有機コロイド形成物質の例として、ゼラチン、アルブミ
ン、カゼインなどの蛋白質、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース化合物
、寒天、アルギン酸ソーダおよびでんぷん誘導体などの
糖誘導体などの親水性物質、および天然ゴム、合成高分
子物質などの疎水性物質などが挙げられる。これらを混
合して使用することも可能である。
ン、カゼインなどの蛋白質、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロース化合物
、寒天、アルギン酸ソーダおよびでんぷん誘導体などの
糖誘導体などの親水性物質、および天然ゴム、合成高分
子物質などの疎水性物質などが挙げられる。これらを混
合して使用することも可能である。
本発明において用いられるゼラチンの例としては、いわ
ゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラ
チンおよびゼラチン誘導体、変性ゼラチン等、当業界で
一般に用いられるものが挙げられる。この中でも酸処理
ゼラチンが好ましく用いられる。
ゆる石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素処理ゼラ
チンおよびゼラチン誘導体、変性ゼラチン等、当業界で
一般に用いられるものが挙げられる。この中でも酸処理
ゼラチンが好ましく用いられる。
本発明において使用する有機コロイド形成物質としては
、疎水性物質からなるものが好ましい。
、疎水性物質からなるものが好ましい。
なかでも合成高分子物質のコロイド溶液(高分子ラテッ
クス)が好ましく、その例としては、スチレン・ブタジ
ェン系、アクリルニトリル・ブタジェン系、アクリル系
、メチルメタクリレート・ブタジェン系、スチレン中ア
クリル系、塩化ビニリデン系、酢ビφ塩ビ系またはエチ
レン会酢ビ系の共重合体およびそれらのホモポリマーか
らなるラテックス等があげられる。
クス)が好ましく、その例としては、スチレン・ブタジ
ェン系、アクリルニトリル・ブタジェン系、アクリル系
、メチルメタクリレート・ブタジェン系、スチレン中ア
クリル系、塩化ビニリデン系、酢ビφ塩ビ系またはエチ
レン会酢ビ系の共重合体およびそれらのホモポリマーか
らなるラテックス等があげられる。
合成高分子ラテックスの具体例としては、スチレン・ブ
タジェン系ラテックスとして、ニラポール(日本ゼオン
■)、ノーガテックス(住友ノーガタック■)、クロス
レン(武田薬品工業■)、 アクリルニトリル番ブタジェン系ラテックスとして、ク
ロスレン(式日薬品工業■)、ポリラック(三井東圧化
学■)、ニドレックス(住友ノーガタック■)、 メチルメタクリレート・ブタジェン系ラテックスとして
、ポリラック(三井東圧化学■)、クロスレン(式日薬
品工業tS)、ラックスター(大日本インキ化学■)、 スチレン赤アクリル系ラテックス・とじて、ポンロン(
三井東圧化学■)、ポリゾール(昭和高分子■)、モビ
ニール(ヘキスト合成v4)、タフタツク(重陽国策パ
ルプ■)、 塩化ビニリデン系ラテックスとして、サランラテックス
(塩ダウ■)、フレハロン(呉羽化学■)、 酢ビ・塩ビ系ラテックスとしては、ビニブラン(日信化
学■)、デンカテックス(電気化学工業■)、 エチレン・酢ビ系ラテックスとしては、スミカフレック
ス(住友化学■)、電化EVA(電気化学工業■)、ポ
リゾール(昭和高分子■)、ポンコート(大日本インキ
化学■) があげられる。
タジェン系ラテックスとして、ニラポール(日本ゼオン
■)、ノーガテックス(住友ノーガタック■)、クロス
レン(武田薬品工業■)、 アクリルニトリル番ブタジェン系ラテックスとして、ク
ロスレン(式日薬品工業■)、ポリラック(三井東圧化
学■)、ニドレックス(住友ノーガタック■)、 メチルメタクリレート・ブタジェン系ラテックスとして
、ポリラック(三井東圧化学■)、クロスレン(式日薬
品工業tS)、ラックスター(大日本インキ化学■)、 スチレン赤アクリル系ラテックス・とじて、ポンロン(
三井東圧化学■)、ポリゾール(昭和高分子■)、モビ
ニール(ヘキスト合成v4)、タフタツク(重陽国策パ
ルプ■)、 塩化ビニリデン系ラテックスとして、サランラテックス
(塩ダウ■)、フレハロン(呉羽化学■)、 酢ビ・塩ビ系ラテックスとしては、ビニブラン(日信化
学■)、デンカテックス(電気化学工業■)、 エチレン・酢ビ系ラテックスとしては、スミカフレック
ス(住友化学■)、電化EVA(電気化学工業■)、ポ
リゾール(昭和高分子■)、ポンコート(大日本インキ
化学■) があげられる。
その他、酢酸ビニルφベオバ系、酢酸ビニルφマレイン
酸エステル系、エチレン・酢酸ビニル−7クリル醜塩系
のラテックスも用いることができる。特に好ましく用い
られるものは、スチレン−ブタジェン系、メチルメタク
リレート・ブタジェン系、スチレン・アクリル系および
酢酸ビニルφベオバ系のラテックスである。
酸エステル系、エチレン・酢酸ビニル−7クリル醜塩系
のラテックスも用いることができる。特に好ましく用い
られるものは、スチレン−ブタジェン系、メチルメタク
リレート・ブタジェン系、スチレン・アクリル系および
酢酸ビニルφベオバ系のラテックスである。
スチレン・ブタジェン系ラテックスのスチレン/ブタジ
ェンの比(モル比)は50150〜90/10程度のも
のが良く、またカルボキシル変性を行ったものも有効で
ある。
ェンの比(モル比)は50150〜90/10程度のも
のが良く、またカルボキシル変性を行ったものも有効で
ある。
メチルメタクリレート・ブタジェン系ラテックスのメチ
ルメタクリレートとブタジェンのモル比は50150〜
90/10程度のものが良く、またカルボキシル変性を
行ったものも有効である。
ルメタクリレートとブタジェンのモル比は50150〜
90/10程度のものが良く、またカルボキシル変性を
行ったものも有効である。
スチレン・アクリル系ラテックスのスチレンとアクリル
成分とのモル比は、20/70〜9α/10程度のもの
が良い。
成分とのモル比は、20/70〜9α/10程度のもの
が良い。
なお、ラテックスの特性としてなるべく低い乾燥温度で
も皮膜が形成できるように、ガラス転移温度Tgが50
℃以下のものを用いる事が望ましい。
も皮膜が形成できるように、ガラス転移温度Tgが50
℃以下のものを用いる事が望ましい。
白色反射層のバインダーとして上記のような疎水性有機
コロイド形成物質を用いた場合には、白色反射層自体の
耐水性が向上するため、特にバインダーとして疎水性有
機コロイド形成物質を用いたることが好ましい。
コロイド形成物質を用いた場合には、白色反射層自体の
耐水性が向上するため、特にバインダーとして疎水性有
機コロイド形成物質を用いたることが好ましい。
白色反射層は、上記の成分を含む塗布液を調製し、次い
で該塗布液を基体上に塗布、乾燥することにより形成さ
れる。この塗布液は通常、水あるいは水と有機溶媒の混
合物等を溶剤として調製される。
で該塗布液を基体上に塗布、乾燥することにより形成さ
れる。この塗布液は通常、水あるいは水と有機溶媒の混
合物等を溶剤として調製される。
塗布液の調製に際しては、pH調整剤、ステアリン酸亜
鉛、ステアリン酸アルミ等の金属石鹸その他の界面活性
剤等の分散剤、群青やコバルトブルー等の無機着色剤、
有機染料や有機顔料等の有機着色剤、蛍光増白剤、硬膜
剤、増粘剤、カブリ防止剤、安定剤および酸化防止剤等
の各種の写真用添加剤を加えることができる。
鉛、ステアリン酸アルミ等の金属石鹸その他の界面活性
剤等の分散剤、群青やコバルトブルー等の無機着色剤、
有機染料や有機顔料等の有機着色剤、蛍光増白剤、硬膜
剤、増粘剤、カブリ防止剤、安定剤および酸化防止剤等
の各種の写真用添加剤を加えることができる。
二酸化チタンの分散に際して、分散機として例えば、ホ
モミキサー、ホモジナイザー、ボールミルあるいはコロ
イドミル等を用いると、好ましい微細な分散物を得るこ
とが出来る。
モミキサー、ホモジナイザー、ボールミルあるいはコロ
イドミル等を用いると、好ましい微細な分散物を得るこ
とが出来る。
本発明の白色反射層形成用塗布液中にはオルガノシロキ
サン被覆二酸化チタンを結合剤に対して約20重量%以
上含有させるのが好ましい、さらに好ましくは約30重
量%〜約800重量%含有させる。すなわち、本発明の
オルガノシロキサン被覆二酸化チタンは白色反射層形成
用塗布液中での分散性が高く、このため二酸化チタンを
多量に合力した状態でも塗布操作が容易な粘度に維持さ
れやすい。
サン被覆二酸化チタンを結合剤に対して約20重量%以
上含有させるのが好ましい、さらに好ましくは約30重
量%〜約800重量%含有させる。すなわち、本発明の
オルガノシロキサン被覆二酸化チタンは白色反射層形成
用塗布液中での分散性が高く、このため二酸化チタンを
多量に合力した状態でも塗布操作が容易な粘度に維持さ
れやすい。
上記の塗布液を基体表面に塗布する方法については特に
限定はなく、例えば、エアーナイフコート、ディップコ
ート、カーテンコート、ブレードコート、リバースロー
ルコート、トランスファーロールコート、グラビアコー
ト、ワイヤーバーコード、キスコート、キャストコート
、スプレイコート等の従来より公知の方法を利用するこ
とができる。
限定はなく、例えば、エアーナイフコート、ディップコ
ート、カーテンコート、ブレードコート、リバースロー
ルコート、トランスファーロールコート、グラビアコー
ト、ワイヤーバーコード、キスコート、キャストコート
、スプレイコート等の従来より公知の方法を利用するこ
とができる。
なお、塗布液を基体に塗布する前に、基体と白色反射層
との接着を強固にするために、基体を予め前処理を行っ
ておくことが好ましい。
との接着を強固にするために、基体を予め前処理を行っ
ておくことが好ましい。
前処理の方法としては、酸化剤溶液への浸漬法、火炎処
理法、コロナ放電処理法、グロー放電処理法、紫外線照
射法等による活性化処理があるが、最も簡便で経済的な
方法としてコロナ放電処理を行う本が望ましい、また、
必要により基体上に下塗り層を設けてもよい。
理法、コロナ放電処理法、グロー放電処理法、紫外線照
射法等による活性化処理があるが、最も簡便で経済的な
方法としてコロナ放電処理を行う本が望ましい、また、
必要により基体上に下塗り層を設けてもよい。
塗布液は、二酸化チタンが基体上に約3〜20g/m″
の割合にて存在するように塗布される。
の割合にて存在するように塗布される。
二酸化チタンの存在量が3g/m2以下では隠蔽力が低
いため、解像力の高い写真画像が得られにくい、また二
酸化チタンの塗布量を20g/ln’以上にしても、得
られる解像力が特に向上することがなく、一方コストが
高くなるとの問題がある。
いため、解像力の高い写真画像が得られにくい、また二
酸化チタンの塗布量を20g/ln’以上にしても、得
られる解像力が特に向上することがなく、一方コストが
高くなるとの問題がある。
本発明の支持体は公知技術に従って、その上に写真乳剤
層(例、銀・ゼラチン系感光乳剤層)そして乳剤層保護
層を形成することにより写真用印画紙として用いること
ができる。
層(例、銀・ゼラチン系感光乳剤層)そして乳剤層保護
層を形成することにより写真用印画紙として用いること
ができる。
本発明の実施に特に有利に用いられるハロゲン化銀写真
構成層のハロゲン化銀写真乳剤としては、種々のものが
使用できる0例えば、ハロゲン化銀組成として、塩化銀
、臭化銀、塩臭化銀、塩ヨウ臭化銀、ヨウ塩化銀、ヨウ
臭化銀などの乳剤あるいはそれらの混合物からなる乳剤
等用途に応じて適切に用いる事ができる。
構成層のハロゲン化銀写真乳剤としては、種々のものが
使用できる0例えば、ハロゲン化銀組成として、塩化銀
、臭化銀、塩臭化銀、塩ヨウ臭化銀、ヨウ塩化銀、ヨウ
臭化銀などの乳剤あるいはそれらの混合物からなる乳剤
等用途に応じて適切に用いる事ができる。
また、ネガ型ハロゲン化銀写真乳剤を使用する事ができ
るし、もし必要ならば直接ポジ型ハロゲン化銀写真乳剤
を使用することもできる。写真構成層は白色反射層に直
接隣接して設けても良いし、ゼラチンの下塗層を設けて
その上に写真構成層を設けてもよい。
るし、もし必要ならば直接ポジ型ハロゲン化銀写真乳剤
を使用することもできる。写真構成層は白色反射層に直
接隣接して設けても良いし、ゼラチンの下塗層を設けて
その上に写真構成層を設けてもよい。
なお、基体表面に形成された白色反射層に直接隣接して
写真構成層や下塗層を設ける時に、白色反射層の表面を
コロナ放電処理等による表面処理を行っておくことが望
ましい。
写真構成層や下塗層を設ける時に、白色反射層の表面を
コロナ放電処理等による表面処理を行っておくことが望
ましい。
次に本発明の実施例および比較例を示す。
[実施例1−4]
表面被覆ルチル型二酸化チタン(被覆条件は第1表に記
載)560gを1147m文の水に加えたのち、超高速
ホモジナイザー(商品名:ポリトロン、キネマチカ社(
KINEMATICA GmbHl製)で、11000
0rpにて10分間分散し、その分散液にスチレン−ブ
タジェン系ラテックス液(スチレン/ブタジェン= 6
7/33、固形分濃度=43重量%)693mfLを撹
拌棒で軽く攪拌しながら加えて白色反射層形成用塗布液
を調製した。
載)560gを1147m文の水に加えたのち、超高速
ホモジナイザー(商品名:ポリトロン、キネマチカ社(
KINEMATICA GmbHl製)で、11000
0rpにて10分間分散し、その分散液にスチレン−ブ
タジェン系ラテックス液(スチレン/ブタジェン= 6
7/33、固形分濃度=43重量%)693mfLを撹
拌棒で軽く攪拌しながら加えて白色反射層形成用塗布液
を調製した。
次いで、原紙の両面をポリエチレンで被覆したポリエチ
レン被覆紙のポリエチレ?被覆面に、コロナ放電処理を
施した後、上記塗布液をワイヤーバーを用いて、塗布量
が50g/m″(二酸化チタンとしては約11g/m″
)となるように塗布した後、90℃、3分間の条件で乾
燥して、白色反射層を有する支持体を得た。
レン被覆紙のポリエチレ?被覆面に、コロナ放電処理を
施した後、上記塗布液をワイヤーバーを用いて、塗布量
が50g/m″(二酸化チタンとしては約11g/m″
)となるように塗布した後、90℃、3分間の条件で乾
燥して、白色反射層を有する支持体を得た。
次に、上記の支持体の白色反射層の上にコロナ放電処理
を施した後、ゼラチンの下塗層を塗布量0.5g/m″
で塗布し、乾燥を行なった。そして、この下塗層の上に
カラー印画紙用乳剤を塗布し、乾燥して写真用印画紙を
得た。
を施した後、ゼラチンの下塗層を塗布量0.5g/m″
で塗布し、乾燥を行なった。そして、この下塗層の上に
カラー印画紙用乳剤を塗布し、乾燥して写真用印画紙を
得た。
上記の塗布液、支持体および写真用印画紙について、以
下の各試験を行ない評価を行なった。
下の各試験を行ない評価を行なった。
(1)塗布液粘度およびバー塗布適性の評価B型粘度計
を用いて剪断速度17.52秒−”、測定温度25℃の
条件で塗布液粘度を測定した。
を用いて剪断速度17.52秒−”、測定温度25℃の
条件で塗布液粘度を測定した。
次に、この塗布液について、バー塗布適正を目視によっ
て判定した。その評価基準は、塗布速度10m/分で塗
布した時の表面状態を目視によって観察し、バー筋の見
えるものを不良、バー筋の見えないものを良として評価
した。
て判定した。その評価基準は、塗布速度10m/分で塗
布した時の表面状態を目視によって観察し、バー筋の見
えるものを不良、バー筋の見えないものを良として評価
した。
(2)光沢度の評価
スガ試験機(株)製のデジタル変角光沢針UGV−5D
を用いて、入射角および受光角とも75°の条件で、白
色反射層の表面の光沢度を測定した。白色反射層の表面
の光沢度が高いものほど、これを用いた写真用印画紙の
光沢度も高くなり望ましい。
を用いて、入射角および受光角とも75°の条件で、白
色反射層の表面の光沢度を測定した。白色反射層の表面
の光沢度が高いものほど、これを用いた写真用印画紙の
光沢度も高くなり望ましい。
(3)カラー写真感光乳剤層のカブリの評価写゛真用印
画紙サンプルを、未露光のまま現像処理・乾燥したもの
と、未露光のまま50℃80%RH2日間湿熱処理後現
像処理拳乾燥したものの440mJL分光反射率を1日
立分光光度計607型で測定し、その差をカブリ値とし
た。従って、カブリ値が少ないものほど印画紙として好
ましい。
画紙サンプルを、未露光のまま現像処理・乾燥したもの
と、未露光のまま50℃80%RH2日間湿熱処理後現
像処理拳乾燥したものの440mJL分光反射率を1日
立分光光度計607型で測定し、その差をカブリ値とし
た。従って、カブリ値が少ないものほど印画紙として好
ましい。
これらの結果は第2表に示した。
[比較例1−2]
白色反射層の形成に用いた二酸化チタンの被覆を行なわ
なかったもの(比較例1)、および二酸化チタンを含水
酸化アルミニウムのみで被覆したもの(比較例2)を用
いた以外は実施例1−4と同様にして白色反射層形成用
塗布液を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体
を製造した。
なかったもの(比較例1)、および二酸化チタンを含水
酸化アルミニウムのみで被覆したもの(比較例2)を用
いた以外は実施例1−4と同様にして白色反射層形成用
塗布液を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体
を製造した。
次に、この支持体を用いて同様にして写真用印画紙を得
た。
た。
上記の塗布液、支持体および写真用印画紙について、実
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
2表に示す。
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
2表に示す。
第1表
被覆物質 被覆量
実施例1 ジメチルシロキサン 1.0%2
同上 4.0%3 含水酸化ア
ルミニウム 2.0%含水二酸化ケイ素 2.0% ジメチルシロキサン 4.0% 4 含水酸化アルミニウム 1.0%ジメチルシロ
キサン 1.0% 比較例1 −2
含水酸化アルミニウム 1.0%註:被覆量は二酸化チ
タンに対する重量%にて表示した。ジメチルシロキサン
は一分子中にシロキサン単位を10個(平均値)含むも
のである。
同上 4.0%3 含水酸化ア
ルミニウム 2.0%含水二酸化ケイ素 2.0% ジメチルシロキサン 4.0% 4 含水酸化アルミニウム 1.0%ジメチルシロ
キサン 1.0% 比較例1 −2
含水酸化アルミニウム 1.0%註:被覆量は二酸化チ
タンに対する重量%にて表示した。ジメチルシロキサン
は一分子中にシロキサン単位を10個(平均値)含むも
のである。
第2表
粘度(c p) 塗布適性 (%) (%)実施例
1 22.1 良 80 4.22
16.2 良 87 3.53
15.0 良 90 3.04
18.3 良 86 3.8比較
例1121 不良 62 12.02 63
不良 65 8.0%2表に示された結果から、
オルガノシロキサンで被覆した二酸化チタンを含む塗布
液は、未被覆二酸化チタンもしくは無機酸化物のみの被
覆を行なった二酸化チタンを同量含有する塗布液に比較
して、粘度が顕著に低く、かつ塗布適性も優れているこ
とがわかる。
1 22.1 良 80 4.22
16.2 良 87 3.53
15.0 良 90 3.04
18.3 良 86 3.8比較
例1121 不良 62 12.02 63
不良 65 8.0%2表に示された結果から、
オルガノシロキサンで被覆した二酸化チタンを含む塗布
液は、未被覆二酸化チタンもしくは無機酸化物のみの被
覆を行なった二酸化チタンを同量含有する塗布液に比較
して、粘度が顕著に低く、かつ塗布適性も優れているこ
とがわかる。
また、本発明に従う印画紙支持体の白色反射層は表面光
沢が優れており、かつ本発明に従う印画紙支持体を用い
た印画紙におけるカブリが、未被覆二酸化チタンもしく
は無機酸化物のみの被覆を行なった二酸化チタンを含む
支持体から得られた印画紙において発生するカブリより
も明らかに低減していることがあきらかである。
沢が優れており、かつ本発明に従う印画紙支持体を用い
た印画紙におけるカブリが、未被覆二酸化チタンもしく
は無機酸化物のみの被覆を行なった二酸化チタンを含む
支持体から得られた印画紙において発生するカブリより
も明らかに低減していることがあきらかである。
[実施例5−8]
白色反射層の形成に用いた被覆ルチル型二酸化チタンを
第3表記載の被覆アナターゼ型二酸化チタンに換えた以
外は実施例1−4と同様にして白色反射層形成用塗布液
を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体を製造
した。そして、この支持体を用いて同様にして写真用印
画紙を得た。
第3表記載の被覆アナターゼ型二酸化チタンに換えた以
外は実施例1−4と同様にして白色反射層形成用塗布液
を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体を製造
した。そして、この支持体を用いて同様にして写真用印
画紙を得た。
上記の塗布液、支持体および写真用印画紙について、実
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
4表に示す。
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
4表に示す。
[比較例3−4]
白色反射層の形成に用いた二酸化チタンの被覆を行なわ
なかったもの(比較例3)、および二酸化チタンを含水
酸化アルミニウムのみで被覆したもの(比較例4)を用
いた以外は実施例5−8と同様にして白色反射層形成用
塗布液を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体
を製造した。
なかったもの(比較例3)、および二酸化チタンを含水
酸化アルミニウムのみで被覆したもの(比較例4)を用
いた以外は実施例5−8と同様にして白色反射層形成用
塗布液を調製し、この塗布液を用いて同様にして支持体
を製造した。
また、この支持体を用いて同様にして写真用印画紙を得
た。
た。
上記の塗布液、支持体および写真用印画紙について、実
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
4表に示す。
施例1−4と同様の評価を行なった。得られた結果を第
4表に示す。
以下余白
第3表
被覆物質 被覆量
実施例5 ジメチルシロキサン 1.0%6
同上 4.0%7 含水酸化ア
ルミニウム 2.0%含水二酸化ケイ素 2.0% ジメチルシロキサン 4.0% 8 含水酸化アルミニウム 1.0%ジメチルシロ
キサン 1.0% 比較例3 □ − 4含水酸化アルミニウム 1.0% 註:被覆量は二酸化チタンに対する重量%にて表示した
。ジメチルシロキサンは一分子中にシロキサン単位を1
0個(平均値)含むものである。
同上 4.0%7 含水酸化ア
ルミニウム 2.0%含水二酸化ケイ素 2.0% ジメチルシロキサン 4.0% 8 含水酸化アルミニウム 1.0%ジメチルシロ
キサン 1.0% 比較例3 □ − 4含水酸化アルミニウム 1.0% 註:被覆量は二酸化チタンに対する重量%にて表示した
。ジメチルシロキサンは一分子中にシロキサン単位を1
0個(平均値)含むものである。
第4表
粘度(c p) 塗布適性 (%) (%)実施例
5 25.2 良 78 4.56
17.0 良 86 3.77
15.4 良 89 3.18
19.9 良 85 4.1比較
例3 140.0 不良 60 13.24 8
0.0 不良 64 9.5第4表に示された結
果から、オルガノシロキサンで被覆した二酸化チタンを
含む塗布液は、未被覆二酸化チタンもしくは無機酸化物
のみの被覆を行なった二酸化チタンを同量含有する塗布
液に比較して、粘度が顕著に低く、かつ塗布適性も優れ
ていることがわかる。
5 25.2 良 78 4.56
17.0 良 86 3.77
15.4 良 89 3.18
19.9 良 85 4.1比較
例3 140.0 不良 60 13.24 8
0.0 不良 64 9.5第4表に示された結
果から、オルガノシロキサンで被覆した二酸化チタンを
含む塗布液は、未被覆二酸化チタンもしくは無機酸化物
のみの被覆を行なった二酸化チタンを同量含有する塗布
液に比較して、粘度が顕著に低く、かつ塗布適性も優れ
ていることがわかる。
また、本発明に従う印画紙支持体の白色反射層は表面光
沢が優れており、かつ本発明に従う印画紙支持体を用い
た印画紙におけるカブリが、未被覆二酸化チタンもしく
は無機酸化物のみの被覆を行なった二酸化チタンを含む
支持体から得られた印画紙において発生するカブリより
も明らかに低減していることがあきらかである。
沢が優れており、かつ本発明に従う印画紙支持体を用い
た印画紙におけるカブリが、未被覆二酸化チタンもしく
は無機酸化物のみの被覆を行なった二酸化チタンを含む
支持体から得られた印画紙において発生するカブリより
も明らかに低減していることがあきらかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、二酸化チタンが有機コロイド形成物質に分散されて
なる白色反射層を基体の少なくとも片面に有する耐水性
の写真印画紙用支持体において、該二酸化チタンがオル
ガノシロキサンで被覆されていることを特徴とする写真
印画紙用支持体。 2、オルガノシロキサンの二酸化チタンへの被覆量が、
二酸化チタンに対して0.01〜5重量%の範囲にある
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の写真印画
紙用支持体。 3、オルガノシロキサンの二酸化チタンへの被覆量が、
二酸化チタンに対して0.1〜3重量%の範囲にあるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の写真印画紙
用支持体。 4、オルガノシロキサンがジメチルシロキサンであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の写真印画紙
用支持体。 5、有機コロイド形成物質が合成ゴム系ラテックスであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項の
いずれかの項記載の写真印画紙用支持体。 6、ラテックスがスチレン・ブタジエンラテックスであ
って、かつスチレン/ブタジエンのモル比が50/50
〜90/10の範囲にあることを特徴とする特許請求の
範囲第5項記載の写真印画紙用支持体。 7、白色反射層中に、オルガノシロキサン被覆二酸化チ
タンが、有機コロイド形成物質に対して30〜800重
量%の割合で含有されていることを特徴とする特許請求
の範囲第1項乃至第4項のいずれかの項記載の写真印画
紙用支持体。 8、オルガノシロキサン被覆二酸化チタンが基体上に3
〜20g/m^2の範囲にて塗布されていることを特徴
とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のいずれかの項
記載の写真印画紙用支持体。 9、二酸化チタンが含水酸化アルミニウムおよび含水二
酸化ケイ素からなる群より選ばれる酸化物で被覆され、
オルガノシロキサンによる被覆がその上になされている
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項のい
ずれかの項記載の写真印画紙用支持体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9181285A JPS61249048A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 写真用支持体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9181285A JPS61249048A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 写真用支持体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249048A true JPS61249048A (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=14037039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9181285A Pending JPS61249048A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 写真用支持体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61249048A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0271259A (ja) * | 1988-06-13 | 1990-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー画像形成法 |
| JPH03156444A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156451A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156453A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156452A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156450A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03209244A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JP5234209B1 (ja) * | 2012-07-20 | 2013-07-10 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 太陽電池封止材用樹脂組成物 |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP9181285A patent/JPS61249048A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0271259A (ja) * | 1988-06-13 | 1990-03-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラー画像形成法 |
| JPH03156444A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156451A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156453A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156452A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03156450A (ja) * | 1989-11-14 | 1991-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JPH03209244A (ja) * | 1990-01-12 | 1991-09-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
| JP5234209B1 (ja) * | 2012-07-20 | 2013-07-10 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 太陽電池封止材用樹脂組成物 |
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