JPS61257992A - ハロシリルアロイルハライドの製法 - Google Patents
ハロシリルアロイルハライドの製法Info
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- JPS61257992A JPS61257992A JP61068883A JP6888386A JPS61257992A JP S61257992 A JPS61257992 A JP S61257992A JP 61068883 A JP61068883 A JP 61068883A JP 6888386 A JP6888386 A JP 6888386A JP S61257992 A JPS61257992 A JP S61257992A
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- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はハロシリルアロイルハライドの製造法及びハロ
シリルアロイルハライドを出発物質とするテトラオルガ
ノジシロキサンビスアロイルエステルの製造及び同じく
アロイルハライド末端基をもつポリジオルガノシロキサ
ンの製造に関するものである。
シリルアロイルハライドを出発物質とするテトラオルガ
ノジシロキサンビスアロイルエステルの製造及び同じく
アロイルハライド末端基をもつポリジオルガノシロキサ
ンの製造に関するものである。
従来の技術
本発明者自身の1984年9月40付出願に係る米国特
許出願5N647332号明細書に記載されるごと(、
ハロゲン化ポリシラン、たとえば1.2−ジクロルテト
ラメチルジシラン、はパラジウム触媒の存在下で塩化テ
レフタロイルと反応させることによって1.4−(ビス
−クロルジメチルシリル)−ベンゼンを与え得る。本発
明者は脱カルボニル反応により芳香族シリルケトンを含
まない生成物を製造し得ることを知見した。
許出願5N647332号明細書に記載されるごと(、
ハロゲン化ポリシラン、たとえば1.2−ジクロルテト
ラメチルジシラン、はパラジウム触媒の存在下で塩化テ
レフタロイルと反応させることによって1.4−(ビス
−クロルジメチルシリル)−ベンゼンを与え得る。本発
明者は脱カルボニル反応により芳香族シリルケトンを含
まない生成物を製造し得ることを知見した。
本発明は塩化テレフタロイルをパラジウム触媒の存在下
に実質的に当量の1.2−ジクロルテトラメチルジシラ
ンと反応させるとパラ−クロルジメチルシリルベンゾイ
ルクロリドが唯一の反応生成物として得られるという本
発明者の知見に基づくものである。この結果は当量の1
,2−ジクロルテトラメチルジシランと塩化テレフタロ
イルとの前記反応は、純粋に統計学的基準によれば約2
5モル%の塩化テレフタロイル、約50モル%のパラ−
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド及び約25モ
ル%の1,4−ビス(クロルジメチルシリル)ベンゼン
の混合物を与え得るという点からみて、きわめて驚くべ
きことである。
に実質的に当量の1.2−ジクロルテトラメチルジシラ
ンと反応させるとパラ−クロルジメチルシリルベンゾイ
ルクロリドが唯一の反応生成物として得られるという本
発明者の知見に基づくものである。この結果は当量の1
,2−ジクロルテトラメチルジシランと塩化テレフタロ
イルとの前記反応は、純粋に統計学的基準によれば約2
5モル%の塩化テレフタロイル、約50モル%のパラ−
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド及び約25モ
ル%の1,4−ビス(クロルジメチルシリル)ベンゼン
の混合物を与え得るという点からみて、きわめて驚くべ
きことである。
発明の要旨
第一の本発明によれば、つぎの工程:
(1)実質的に当量の芳香族ポリアシルハライドと珪素
に結合されたハロゲン基をもつ有機ハロポリシランとを
有効量の還移金属触媒の存在下で反応させ; (2)ついで工程(1)の混合物からハロシリルアロイ
ルハライドを回収する; 工程からなるハロシリルアロイルハライドの製造法が提
供される。
に結合されたハロゲン基をもつ有機ハロポリシランとを
有効量の還移金属触媒の存在下で反応させ; (2)ついで工程(1)の混合物からハロシリルアロイ
ルハライドを回収する; 工程からなるハロシリルアロイルハライドの製造法が提
供される。
発明の詳細な開示
ハロシリルアロイルハライドの製造のための本発明の実
施に使用し得る芳香族ポリアシルハライドはたとえば塩
化テレフタロイル、塩化イソフタロール、塩化フタロイ
ル、二塩化ジフェン酸である。
施に使用し得る芳香族ポリアシルハライドはたとえば塩
化テレフタロイル、塩化イソフタロール、塩化フタロイ
ル、二塩化ジフェン酸である。
本発明の実施に使用し得るハロポリシランの例はクロル
ペンタメチルジシラン、1.2−ジクロルテトラメチル
ジシラン、1,1−ジクロルテトラメチルジシラン、1
,1.2−1−リメチルトリクロルジシラン、1.1.
2.2−テトラクロルジメチルジシラン、ヘキサクロル
ジシラン、1゜2−ジブロムテトラメチルジシラン、1
,2−ジフルオルテトラメチルジシラン、1,1.2,
2゜4.4,5.5−オクタメチル−1,2,4,5−
テトラシラーシクロヘキサシロキサン、1−クロルノナ
メチルテトラシル−3−オキサン等である。
ペンタメチルジシラン、1.2−ジクロルテトラメチル
ジシラン、1,1−ジクロルテトラメチルジシラン、1
,1.2−1−リメチルトリクロルジシラン、1.1.
2.2−テトラクロルジメチルジシラン、ヘキサクロル
ジシラン、1゜2−ジブロムテトラメチルジシラン、1
,2−ジフルオルテトラメチルジシラン、1,1.2,
2゜4.4,5.5−オクタメチル−1,2,4,5−
テトラシラーシクロヘキサシロキサン、1−クロルノナ
メチルテトラシル−3−オキサン等である。
本発明の実施に使用し得る還移金属触媒の例としては、
ビスベンゾニトリルパラジウムジクロリド、ビスアセト
ニトリルパラジウムジクロリド、アリルパラジウムクロ
リドニ量体、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ムジブロミド、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウムヨーダイト、炭素上に担持されたパラジウム、シリ
カ上に担持されたパラジウムをあげることができる。ロ
ジウム、イリジウム、コバルト、白金及びその他の第■
族金属の錯体のような別の錯体も使用することができる
。
ビスベンゾニトリルパラジウムジクロリド、ビスアセト
ニトリルパラジウムジクロリド、アリルパラジウムクロ
リドニ量体、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウ
ムジブロミド、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジ
ウムヨーダイト、炭素上に担持されたパラジウム、シリ
カ上に担持されたパラジウムをあげることができる。ロ
ジウム、イリジウム、コバルト、白金及びその他の第■
族金属の錯体のような別の錯体も使用することができる
。
ハロシリルアロイルハライドの製造に際しては、実質的
に当量の芳香族ポリアシルハライドと有機ハロポリシラ
ンとを有効量の還移金属触媒の存在下で約り10℃〜約
300℃の範囲の温度に加熱する。触媒の有効量は反応
混合物1部当り触媒0゜001〜0.1部程度である。
に当量の芳香族ポリアシルハライドと有機ハロポリシラ
ンとを有効量の還移金属触媒の存在下で約り10℃〜約
300℃の範囲の温度に加熱する。触媒の有効量は反応
混合物1部当り触媒0゜001〜0.1部程度である。
反応は不活性雰囲気、たとえば窒素雰囲気下で行なうこ
とが好ましい。ハロシリルアロイルハライドの回収は反
応混合物の分留によって行なうことができる。
とが好ましい。ハロシリルアロイルハライドの回収は反
応混合物の分留によって行なうことができる。
ハロシリルアロイルハライドの製造のほかに、本発明は
さらにか−るハロシリルアロイルハライドの反応生成物
の製造法を提供するものである。
さらにか−るハロシリルアロイルハライドの反応生成物
の製造法を提供するものである。
たとえば、ハロシリルアロイルハライド1モル当り水1
/2モルをつぎの反応式(1)に従って反応させること
によってハロアロイルテトラオルガノジシロキサンを製
造し得ることが認められた。
/2モルをつぎの反応式(1)に従って反応させること
によってハロアロイルテトラオルガノジシロキサンを製
造し得ることが認められた。
0 0 RR0
RR
(式中、Xはハロゲンであり、Rはハロゲン、−価C炭
化水素及び置換C−価炭化水 索基から選んだ基であり、そしてR1はC(6−13)
二価芳香族基から選んだ基である)。
化水素及び置換C−価炭化水 索基から選んだ基であり、そしてR1はC(6−13)
二価芳香族基から選んだ基である)。
Rの定義に包含される基はたとえばクロル;Cアルキル
基、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル;ハロ
アルキル基、たとえばクロルエチル:Cアリール基、た
とえばフエニル、トリル、キシリル;及びハロゲン化ア
リール基、たとえばクロルフェニル基である。R1の定
義に包含される基はたとえばフェニレン、トリレン、キ
シリレン及びナフチレン基である。基Xの例はクロル、
ブロム及びフルオルである。
基、たとえばメチル、エチル、プロピル、ブチル;ハロ
アルキル基、たとえばクロルエチル:Cアリール基、た
とえばフエニル、トリル、キシリル;及びハロゲン化ア
リール基、たとえばクロルフェニル基である。R1の定
義に包含される基はたとえばフェニレン、トリレン、キ
シリレン及びナフチレン基である。基Xの例はクロル、
ブロム及びフルオルである。
上記したジシロキサンに加えて、本発明によれば、シラ
ノール末端ポリジオルガノシロキサンとハロシリルアロ
イルハライドとを反応させることによって約7個〜約2
000個の化学的に結合されたジオルガノシロキシ単位
ををする対応するハロアロイル末端ポリジオルガノシロ
キサンを製造することができる。ハロシリルアロイルハ
ライドの珪素原子に結合されたハロゲン及びシラノール
末端ポリジオルガノシロキサンのシラノールの実質的に
当量を与えるに十分なハロシリルアロイルハライドを使
用する(つぎの反応式(2)参照)。
ノール末端ポリジオルガノシロキサンとハロシリルアロ
イルハライドとを反応させることによって約7個〜約2
000個の化学的に結合されたジオルガノシロキシ単位
ををする対応するハロアロイル末端ポリジオルガノシロ
キサンを製造することができる。ハロシリルアロイルハ
ライドの珪素原子に結合されたハロゲン及びシラノール
末端ポリジオルガノシロキサンのシラノールの実質的に
当量を与えるに十分なハロシリルアロイルハライドを使
用する(つぎの反応式(2)参照)。
OR2R2
X (R) 2SLR’ CX+HO[SLO] n
5LOH−ンRR II I I IIXC”
[SLOコ 。 SLR’ CX2 R2 (式中、R5R1及びXは前記の意義を有し;R2ハC
(1−13)−価炭化水素基及ヒ置換c(1−13)−
価炭化水素基から選んだ基でありそしてnは7〜200
0の整数である)。
5LOH−ンRR II I I IIXC”
[SLOコ 。 SLR’ CX2 R2 (式中、R5R1及びXは前記の意義を有し;R2ハC
(1−13)−価炭化水素基及ヒ置換c(1−13)−
価炭化水素基から選んだ基でありそしてnは7〜200
0の整数である)。
本発明者はさらにハロシリルアロイルハライドを過剰量
の水性アルカノール、たとえばメタノール中に導入する
とっぎの反応式(3)に示すごとく定量的収率で対応す
るビスアロイルエステルテトラオルガノジシロキサンを
与え得ることを認めた。
の水性アルカノール、たとえばメタノール中に導入する
とっぎの反応式(3)に示すごとく定量的収率で対応す
るビスアロイルエステルテトラオルガノジシロキサンを
与え得ることを認めた。
OOR
(式中、RSR’及びXは前記の意義を有しそしてR3
はC(1−8)アルキル基である)。
はC(1−8)アルキル基である)。
所望ならば、対応するアルキルエステルアロイル末端ポ
リジオルガノシロキサンを、」1記のビス(テトラオル
ガノジシロキサン)ビス(アロイルエステル)とシクロ
オクタオルガノテトラシロキサンとを用い、酸触媒の存
在下に高温で平衡化反応させる標準的平衡化技術によっ
て製造することができる。
リジオルガノシロキサンを、」1記のビス(テトラオル
ガノジシロキサン)ビス(アロイルエステル)とシクロ
オクタオルガノテトラシロキサンとを用い、酸触媒の存
在下に高温で平衡化反応させる標準的平衡化技術によっ
て製造することができる。
つぎに本発明の実施を当業者によりよく理解せしめるた
めに本発明を実施例によって説明するが、これらは何隻
本発明を限定するものではない。実施例中、すべての部
は重量部を表わす。
めに本発明を実施例によって説明するが、これらは何隻
本発明を限定するものではない。実施例中、すべての部
は重量部を表わす。
実施例1
塩化テレフタロイル45.3t (0,22モル)及び
1,2−ジクロルテトラメチルジシラン51t(0,2
6モル;純度94%)の混合物をそのまま窒素雰囲気下
で撹拌しかつ140℃に加熱して均質溶液を形成した。
1,2−ジクロルテトラメチルジシラン51t(0,2
6モル;純度94%)の混合物をそのまま窒素雰囲気下
で撹拌しかつ140℃に加熱して均質溶液を形成した。
この混合物に、撹拌下に、(ビス(ベンゾニトリル)パ
ラジウムクロリド100mg及びトリフェニルホスフィ
ン220m gを添加した。この混合物から一酸化炭素
が直ちに発生し、これを140℃で12時間の反応期間
の量水置換によって監視した。2時間後、ジメチルジク
ロルシランを反応混合物から連続的に留去した。ついで
反応混合物を分留してパラ−クロルジメチルシリルベン
ゾイルクロリド38牙(収率73%)を清澄液体として
得た。その沸点は89℃10.1)ルであった。生成物
はさらにNMR及びIRにより確認した。
ラジウムクロリド100mg及びトリフェニルホスフィ
ン220m gを添加した。この混合物から一酸化炭素
が直ちに発生し、これを140℃で12時間の反応期間
の量水置換によって監視した。2時間後、ジメチルジク
ロルシランを反応混合物から連続的に留去した。ついで
反応混合物を分留してパラ−クロルジメチルシリルベン
ゾイルクロリド38牙(収率73%)を清澄液体として
得た。その沸点は89℃10.1)ルであった。生成物
はさらにNMR及びIRにより確認した。
実施例2
試薬級メタノール(水含量2−5%)50yf中の4−
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド3°) (1
,29X10うモル)の溶液を室温で2時間撹拌した。
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド3°) (1
,29X10うモル)の溶液を室温で2時間撹拌した。
発熱反応が生起した。メタノール溶剤を真空下で除去し
て油状固体残渣を得た。この固体をペンタンから再結晶
した。かくして融点60−61.5℃をもつ針状無色結
晶状生成物2゜52)(収率97%)を得た。採用した
製造法に基づいて、この生成物は1.3−ビス(p−メ
チルベンゾエート)テトラメチルジシロキサンであった
。この生成物はさらにそのNMR及びIRスペクトルに
よって確認した。
て油状固体残渣を得た。この固体をペンタンから再結晶
した。かくして融点60−61.5℃をもつ針状無色結
晶状生成物2゜52)(収率97%)を得た。採用した
製造法に基づいて、この生成物は1.3−ビス(p−メ
チルベンゾエート)テトラメチルジシロキサンであった
。この生成物はさらにそのNMR及びIRスペクトルに
よって確認した。
オクタメチルシクロテトラシロキサン5.52’) (
1,87X10ゝモル)の5011 トルエン溶液を還
流まで加熱した。溶剤7猷を除去してこの環式シロキサ
ンを乾燥した後、溶液を67℃に冷却しそして1,3−
ビス(p−メチルベンゾエート)テトラメチルジシロキ
サン0. 75> (1゜87X10−3モル)、トリ
フリックアンハイドライド5μm及び水1μpを該混合
物中に導入した。
1,87X10ゝモル)の5011 トルエン溶液を還
流まで加熱した。溶剤7猷を除去してこの環式シロキサ
ンを乾燥した後、溶液を67℃に冷却しそして1,3−
ビス(p−メチルベンゾエート)テトラメチルジシロキ
サン0. 75> (1゜87X10−3モル)、トリ
フリックアンハイドライド5μm及び水1μpを該混合
物中に導入した。
ついで混合物を67℃に10時間加熱した。混合物を室
温まで冷却した後、これに塩化メチレン751!及び無
水酸化マグネシウム300I1gを添加して溶液を中和
させた。ついで、この溶液をカーボンブラックで脱色し
、−過しそして溶剤を真空下で除去した。得られる粗生
成物を0.01トルの圧力下で100℃に6時間加熱し
て揮発性シロキサン生成物を取出した。生成物を冷却し
て2゜77(収率43%)の生成物を得た、製造法及び
そのNMRに基づいて、清澄粘稠生成物は平均29個の
ジメチルシロキシ単位をもちかつメチルベンゾエートを
末端基として有するポリジメチルシロキサンであること
が確認された。この生成物はさらにIRによっても確認
された。
温まで冷却した後、これに塩化メチレン751!及び無
水酸化マグネシウム300I1gを添加して溶液を中和
させた。ついで、この溶液をカーボンブラックで脱色し
、−過しそして溶剤を真空下で除去した。得られる粗生
成物を0.01トルの圧力下で100℃に6時間加熱し
て揮発性シロキサン生成物を取出した。生成物を冷却し
て2゜77(収率43%)の生成物を得た、製造法及び
そのNMRに基づいて、清澄粘稠生成物は平均29個の
ジメチルシロキシ単位をもちかつメチルベンゾエートを
末端基として有するポリジメチルシロキサンであること
が確認された。この生成物はさらにIRによっても確認
された。
実施例3
無水トルエン15011中に溶解された平均約500個
の化学的に結合されたジメチルシロキシ単位をもつシラ
ノール末端ポリジメチルシロキサン452の溶液をp−
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド40′)に室
温で添加した。20トルの一定の減圧を保持してHcl
ガスの除去を促進せしめた。添加完了後、撹拌下にある
混合物をさらに2時間撹拌して反応を完結させた。つい
でトルエンを蒸発によって混合物から除去した。かくし
てシリコーン液体及び過剰のクロルシランからなる二相
混合物を得た。このクロルシランを除去しそして残存物
質を0.1トルの減圧下で120 ”Cに加熱した。製
造法に基づいて、式: %式%(3 (式中、nは約500である)をもつポリジメチルシロ
キサンで得られた。この生成物はIR及びプロトンNM
Rによって確認された。
の化学的に結合されたジメチルシロキシ単位をもつシラ
ノール末端ポリジメチルシロキサン452の溶液をp−
クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド40′)に室
温で添加した。20トルの一定の減圧を保持してHcl
ガスの除去を促進せしめた。添加完了後、撹拌下にある
混合物をさらに2時間撹拌して反応を完結させた。つい
でトルエンを蒸発によって混合物から除去した。かくし
てシリコーン液体及び過剰のクロルシランからなる二相
混合物を得た。このクロルシランを除去しそして残存物
質を0.1トルの減圧下で120 ”Cに加熱した。製
造法に基づいて、式: %式%(3 (式中、nは約500である)をもつポリジメチルシロ
キサンで得られた。この生成物はIR及びプロトンNM
Rによって確認された。
平均約165個の化学的に結合されたジメチルシロキシ
単位をもちかつ初期粘度が2880センチボイスである
シラノール末端ポリジメチルシロキサンを用いたことを
除いて上記と同じ方法を反復した。式: %式% (式中、nは約165である)をもつポリジメチルシロ
キサン重合体が得られた。この生成物はさらにNMR及
びIRによって確認され、その最終溶液粘度は2920
センチポイズであった。
単位をもちかつ初期粘度が2880センチボイスである
シラノール末端ポリジメチルシロキサンを用いたことを
除いて上記と同じ方法を反復した。式: %式% (式中、nは約165である)をもつポリジメチルシロ
キサン重合体が得られた。この生成物はさらにNMR及
びIRによって確認され、その最終溶液粘度は2920
センチポイズであった。
N’、N−ジエチレンジアミン5.85’)(0゜05
モル)及び炭酸ナトリウム10.6> (0゜1モル)
及び水250yfの溶液を速やかに撹拌した。この溶液
に、無水クロロホルム5011中に溶解された平均約1
65個のジメチルシロキシ単位をもつベンゾイルクロリ
ド末端ポリジメチルシロキサン液体6.5牙を含む溶液
を添加した。得られる混合物を45秒間撹拌した。つい
で得られる混合物に塩化テレフタロイル10.1’)を
含む8011クロロホルム溶液を速やかに添加しそして
得られる混合物を10分間高速で撹拌した。ついで混合
物を静置して二相に分離させた。有機相を分離しそして
溶剤を除去して白色固体8.3i(単離収率43%)を
生成させた。この生成物はクロロホルム及び塩化メチレ
ンに可溶であることが認められた。製造法に基づいて、
この生成物はアミド又はポリアミドブロックに化学的に
結合されたポリジメチルシロキサンブロックから本質的
に構成されるポリジメチルシロキサンポリアミドブロッ
ク重合体であった。
モル)及び炭酸ナトリウム10.6> (0゜1モル)
及び水250yfの溶液を速やかに撹拌した。この溶液
に、無水クロロホルム5011中に溶解された平均約1
65個のジメチルシロキシ単位をもつベンゾイルクロリ
ド末端ポリジメチルシロキサン液体6.5牙を含む溶液
を添加した。得られる混合物を45秒間撹拌した。つい
で得られる混合物に塩化テレフタロイル10.1’)を
含む8011クロロホルム溶液を速やかに添加しそして
得られる混合物を10分間高速で撹拌した。ついで混合
物を静置して二相に分離させた。有機相を分離しそして
溶剤を除去して白色固体8.3i(単離収率43%)を
生成させた。この生成物はクロロホルム及び塩化メチレ
ンに可溶であることが認められた。製造法に基づいて、
この生成物はアミド又はポリアミドブロックに化学的に
結合されたポリジメチルシロキサンブロックから本質的
に構成されるポリジメチルシロキサンポリアミドブロッ
ク重合体であった。
このブロック共重合体の構造はさらに!R分析によって
確認された。このブロック重合体の20%塩化メチレン
溶液を10ミクロン厚のフィルムにキャストした。これ
は透明、強靭なゴム物質であることが認められた。
確認された。このブロック重合体の20%塩化メチレン
溶液を10ミクロン厚のフィルムにキャストした。これ
は透明、強靭なゴム物質であることが認められた。
実施例4
塩化イソフタロール5.0t (2,46x10−3モ
ル)及び純度95%の1.2−ジクロルテトラメチルジ
シラン7.5’) (3,7X10’モル)の混合物を
窒素雰囲気下で150℃に加熱した。この混合物に30
メツシユ炭素上に担持された1%バラジュウム1.0t
(0,4モル%)を添加すると一酸化炭素ガスが発生
した。150℃で15時間反応させた後、粗製混合物を
ガスクロマドグラフ分析してアロイルクロリドが1つだ
け形成されていることを確認した。触媒を枦去し、無水
ジクロルメタン7511で洗滌しそして合わせた)P液
を回転蒸発器上で蒸発処理して揮発性溶剤を除去した。
ル)及び純度95%の1.2−ジクロルテトラメチルジ
シラン7.5’) (3,7X10’モル)の混合物を
窒素雰囲気下で150℃に加熱した。この混合物に30
メツシユ炭素上に担持された1%バラジュウム1.0t
(0,4モル%)を添加すると一酸化炭素ガスが発生
した。150℃で15時間反応させた後、粗製混合物を
ガスクロマドグラフ分析してアロイルクロリドが1つだ
け形成されていることを確認した。触媒を枦去し、無水
ジクロルメタン7511で洗滌しそして合わせた)P液
を回転蒸発器上で蒸発処理して揮発性溶剤を除去した。
残留物質を真空蒸留して3−クロルジメチルシリルベン
ゾイルクロリド3.50’t(単離後の収率61%)を
沸点98℃10.1トルをもつ透明液体として得た。ジ
シリル化生成物は検出されなかった。3−クロルジメチ
ルシリルベンゾイルクロリドの構造はIR及びNMR分
析によって確認された。
ゾイルクロリド3.50’t(単離後の収率61%)を
沸点98℃10.1トルをもつ透明液体として得た。ジ
シリル化生成物は検出されなかった。3−クロルジメチ
ルシリルベンゾイルクロリドの構造はIR及びNMR分
析によって確認された。
上記実施例は本発明の方法の実施に使用し得る多数の変
形のうちのごく僅かな代表例について示したものである
が、本発明は実施例に先立つ詳細な説明に示したごとく
、著しくより広範囲のハロシリルアロイルハライド、ハ
ロアロイル基で末端停止された対応するオルガノシロキ
サン及びそれらの対応するエステルを提供するものであ
る二^を理解すべきである。
形のうちのごく僅かな代表例について示したものである
が、本発明は実施例に先立つ詳細な説明に示したごとく
、著しくより広範囲のハロシリルアロイルハライド、ハ
ロアロイル基で末端停止された対応するオルガノシロキ
サン及びそれらの対応するエステルを提供するものであ
る二^を理解すべきである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、つぎの工程: (A)実質的に当量の芳香族ポリアシルハライドと珪素
に結合されたハロゲン基をもつ有機ハロポリシランとを
有効量の還移金属触媒の存在下で反応させ; (B)ついで工程(A)の混合物からハロシリルアロイ
ルハライドを回収する; 工程からなるハロシリルアロイルハライドの製造法。 2、目的生成物がパラ−クロルジメチルシリルベンゾイ
ルクロリドである特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、芳香族ポリアシルハライドが塩化テレフタロイルで
ある特許請求の範囲第1項記載の方法。 4、芳香族ポリアシルハライドが塩化イソフタロールで
ある特許請求の範囲第1項記載の方法。 5、ハロポリシランが1,2−ジクロルテトラメチルジ
シランである特許請求の範囲第1項記載の方法。 6、ハロシリルアロイルハライドとアルカノール水溶液
とをハロシリルアロイルハライド1モル当り1モルより
多い割合のアルカノールを用いて反応させることからな
る方法。 7、目的生成物がテトラオルガノジシロキサンビスアロ
イルエステルである特許請求の範囲第6項記載の方法。 8、目的生成物が1,3−ビス(p−メチルベンゾエー
ト)−テトラメチルジシロキサンである特許請求の範囲
第6項記載の方法。 9、ハロシリルアロイルハライドとシラノール末端ポリ
ジオルガノシロキサンとを反応させることからなるアロ
イルハライド末端ポリジオルガノシロキサンの製造法。 10、約7個〜約2,000個の化学的に結合されたジ
オルガノシロキシ単位をもつアロイルハライド末端ポリ
ジオルガノシロキサン。 11、3−クロルジメチルシリルベンゾイルクロリド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/718,039 US4604477A (en) | 1985-03-29 | 1985-03-29 | Method for making silylaroylhalides and reaction products |
| US718039 | 1985-03-29 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3329713A Division JPH075610B2 (ja) | 1985-03-29 | 1991-11-20 | ハロシリルアロイルハライドの反応法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61257992A true JPS61257992A (ja) | 1986-11-15 |
| JPH0564957B2 JPH0564957B2 (ja) | 1993-09-16 |
Family
ID=24884569
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