JPS61268730A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPS61268730A JPS61268730A JP11067485A JP11067485A JPS61268730A JP S61268730 A JPS61268730 A JP S61268730A JP 11067485 A JP11067485 A JP 11067485A JP 11067485 A JP11067485 A JP 11067485A JP S61268730 A JPS61268730 A JP S61268730A
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- louver
- signal
- flow rate
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C37/00—Component parts, details, accessories or auxiliary operations, not covered by group B29C33/00 or B29C35/00
- B29C2037/90—Measuring, controlling or regulating
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、例えばポリプロピレンやポリエチレン等のプ
ラスデックでなる被処理物の表面にプラズマを照射して
該被処理物の表面処理を行うプラズマ処理装置に関する
。
ラスデックでなる被処理物の表面にプラズマを照射して
該被処理物の表面処理を行うプラズマ処理装置に関する
。
(従 来 技 術)
近年、例えば自動車においては軽量化等を図るべくポリ
プロピレンやポリエチレン等でなるプラスチック製の部
品ないし製品(例えばプラスチックバンバ)が採用され
る場合が多くなっているが、この種のプラスチックは一
般に塗膜との密着性が比較的悪いことが知られている。
プロピレンやポリエチレン等でなるプラスチック製の部
品ないし製品(例えばプラスチックバンバ)が採用され
る場合が多くなっているが、この種のプラスチックは一
般に塗膜との密着性が比較的悪いことが知られている。
そのため、上記のようなプラスチック製品の表面を塗装
する場合には、これに先立って該製品の表面に塗膜を密
着させ易くするための処理を予め施しておく必要がある
が、このような表面処理を行うものとしてプラズマ処理
装置が用いられる。該装置は、通例、プラズマガスの導
入口と排気口とが対向状に設けられた円筒状のプラズマ
反応室と、この反応室に供給される処理ガス(主として
酸素ガスが使用される)を予めプラズマ化するマイクロ
波発振器等でなるプラズマ発生装置と、処理効果を高め
るべく上記反応室内を減圧ないし真空状態にする真空ポ
ンプとから主として構成される。そして、上記反応室内
で被処理物に上記プラズマ化された処理ガスを照射して
接触させることにより該被処理物の表面に官能基を形成
し、これにより該表面を活性化して塗膜との密着性を向
上させるようになっている。
する場合には、これに先立って該製品の表面に塗膜を密
着させ易くするための処理を予め施しておく必要がある
が、このような表面処理を行うものとしてプラズマ処理
装置が用いられる。該装置は、通例、プラズマガスの導
入口と排気口とが対向状に設けられた円筒状のプラズマ
反応室と、この反応室に供給される処理ガス(主として
酸素ガスが使用される)を予めプラズマ化するマイクロ
波発振器等でなるプラズマ発生装置と、処理効果を高め
るべく上記反応室内を減圧ないし真空状態にする真空ポ
ンプとから主として構成される。そして、上記反応室内
で被処理物に上記プラズマ化された処理ガスを照射して
接触させることにより該被処理物の表面に官能基を形成
し、これにより該表面を活性化して塗膜との密着性を向
上させるようになっている。
しかし、上記のような従来のプラズマ処理装置において
は、導入口から反応室内に導入されたプラズマガスが排
気口に向って流れ、該導入口と排気口とを結ぶ直線の近
傍から外れた周辺部にはプラズマガスが十分に行き渡ら
ないため、反応室内におけるプラズマガス分布が均一に
ならない傾向があり、その結果、被処理物に対する処理
性が該被処理物の配置状態や部位によって相違するとい
う欠点があった。
は、導入口から反応室内に導入されたプラズマガスが排
気口に向って流れ、該導入口と排気口とを結ぶ直線の近
傍から外れた周辺部にはプラズマガスが十分に行き渡ら
ないため、反応室内におけるプラズマガス分布が均一に
ならない傾向があり、その結果、被処理物に対する処理
性が該被処理物の配置状態や部位によって相違するとい
う欠点があった。
このような問題に対処するものとしては、例えば実開昭
59−28535号公報に開示されたプラズマ処理装置
がある。これは、第4図に示すように、プラズマ反応室
Aに複数の排気口B、・・・。
59−28535号公報に開示されたプラズマ処理装置
がある。これは、第4図に示すように、プラズマ反応室
Aに複数の排気口B、・・・。
Bを設けると共に、これらの排気口B、・・・、已に開
閉弁C1・・・、Cを夫々備え、反応室Aに設けられた
プラズマ導入口りからジャワ管D′を介して該反応室A
内にプラズマを導入しながら上記多弁C2・・・、Cを
同時に又は間欠的に順次間いていくようにしたものであ
る。これによれば上記導入口りから反応室A内に導入さ
れたプラズマが各排気口B、・・・、Bの数と位置に応
じて多方向に流れるため、反応室A内における被処理物
の配置状態による処理性の差を比較的少なくすることが
できる。
閉弁C1・・・、Cを夫々備え、反応室Aに設けられた
プラズマ導入口りからジャワ管D′を介して該反応室A
内にプラズマを導入しながら上記多弁C2・・・、Cを
同時に又は間欠的に順次間いていくようにしたものであ
る。これによれば上記導入口りから反応室A内に導入さ
れたプラズマが各排気口B、・・・、Bの数と位置に応
じて多方向に流れるため、反応室A内における被処理物
の配置状態による処理性の差を比較的少なくすることが
できる。
しかし、上記のような構成によっても反応室A内におけ
るプラズマガス分布の不均一さを完全に解消することが
できず、そのため被処理物間又は同一処理物における各
部位間で若干の処理性の差が生じる嫌いがある。
るプラズマガス分布の不均一さを完全に解消することが
できず、そのため被処理物間又は同一処理物における各
部位間で若干の処理性の差が生じる嫌いがある。
(発 明 の 目 的)
本発明は、従来のプラズマ処理装置における上記のよう
な実情に対処するもので、プラズマ反応室内におけるプ
ラズマガスの分布が均一になるプラズマ処理装置を提供
することにより、この種のプラズマガス分布の不均一な
いし偏在化によって生じる被処理物表面に対する処理性
の差を解消し、もって該被処理物表面に対して均一なプ
ラズマ処理が行われるようにすることを目的とする。
な実情に対処するもので、プラズマ反応室内におけるプ
ラズマガスの分布が均一になるプラズマ処理装置を提供
することにより、この種のプラズマガス分布の不均一な
いし偏在化によって生じる被処理物表面に対する処理性
の差を解消し、もって該被処理物表面に対して均一なプ
ラズマ処理が行われるようにすることを目的とする。
(発 明 の 構 成)
即ち、本発明に係るプラズマ処理装置は、プラズマ反応
室に複数の排気通路を接続し且つ各排気通路に該通路を
開閉する開閉弁を夫々備えると共に、各排気通路内を流
れるプラズマの流量を夫々検出する流量検出手段と、上
艷各開閉弁を制御する制御手段とを備えたことを特徴と
する。該制御手段は、上記反応室から各排気通路を介し
て排出されるプラズマの排出量が互いに等しくなるよう
に上記流量検出手段からの信号に基づいて上記各開閉弁
を制御する。ここで、上記流量検出手段としては例えば
差圧式流」計或いは当該プラズマの発光量からその流量
を検出する照度センサ等が用いられ、これらは各排気通
路に対応させて夫々備えられる。
室に複数の排気通路を接続し且つ各排気通路に該通路を
開閉する開閉弁を夫々備えると共に、各排気通路内を流
れるプラズマの流量を夫々検出する流量検出手段と、上
艷各開閉弁を制御する制御手段とを備えたことを特徴と
する。該制御手段は、上記反応室から各排気通路を介し
て排出されるプラズマの排出量が互いに等しくなるよう
に上記流量検出手段からの信号に基づいて上記各開閉弁
を制御する。ここで、上記流量検出手段としては例えば
差圧式流」計或いは当該プラズマの発光量からその流量
を検出する照度センサ等が用いられ、これらは各排気通
路に対応させて夫々備えられる。
(発 明 の 効 果)
上記の構成によれば、導入口からプラズマ反応室内に導
入されたプラズマが該反応室に接続された複数の排気通
路に向って多方向に流れ、しかも各排気通路から夫々排
出されるプラズマの排出量が互いに等しくなるため、該
反応室内におけるプラズマ1の濃度分布が均一化される
ようになる。これにより、この種の反応室内におけるプ
ラズマ濃度分布の不均一によって生じる各被処理物間又
はその部位間の処理性の差を解消することができ、各被
処理物の表面の全ての部位を均一にプラズマ処理するこ
とができるようになる。
入されたプラズマが該反応室に接続された複数の排気通
路に向って多方向に流れ、しかも各排気通路から夫々排
出されるプラズマの排出量が互いに等しくなるため、該
反応室内におけるプラズマ1の濃度分布が均一化される
ようになる。これにより、この種の反応室内におけるプ
ラズマ濃度分布の不均一によって生じる各被処理物間又
はその部位間の処理性の差を解消することができ、各被
処理物の表面の全ての部位を均一にプラズマ処理するこ
とができるようになる。
(実 施 例)
以下、本発明に係るプラズマ処理装置の実施例について
説明する。
説明する。
第1図はプラズマ処理装置の側面を概略的に示すもので
、同図に示すように該処理装[1は、ブラズ蛤導入用の
導入通路2が接続された円筒状のプラズマ反応室3を有
する。このプラズマ反応室3は、第2図にその断面を拡
大して示すように、外壁部4及び内壁部5を有する二重
構造とされ、両壁部4,5間に周方向に略等間隔を有し
て仕切られた複数の排気室6.・・・、6が形成されて
いると共に、これらの排気室6.・・・96に対応させ
て複数の排気通路70〜78が夫々接続された構成とさ
れている。そして、各排気通路70〜78が別途備えら
れた例えばロータリーポンプでなる真空ポンプ8にバイ
ブ9を介して接続されていることにより、上記反応室3
内が該ポンプ8によって減圧されるようになっている。
、同図に示すように該処理装[1は、ブラズ蛤導入用の
導入通路2が接続された円筒状のプラズマ反応室3を有
する。このプラズマ反応室3は、第2図にその断面を拡
大して示すように、外壁部4及び内壁部5を有する二重
構造とされ、両壁部4,5間に周方向に略等間隔を有し
て仕切られた複数の排気室6.・・・、6が形成されて
いると共に、これらの排気室6.・・・96に対応させ
て複数の排気通路70〜78が夫々接続された構成とさ
れている。そして、各排気通路70〜78が別途備えら
れた例えばロータリーポンプでなる真空ポンプ8にバイ
ブ9を介して接続されていることにより、上記反応室3
内が該ポンプ8によって減圧されるようになっている。
ここで、上記導入通路2にはマイクロ波発振器10が備
えられ、該通路2内を通過する酸素ガス等でなる処理ガ
スが該発振器10からのマイクロ波によってプラズマ化
された上で、上記反応室3の内壁部5内に位置されたジ
ャワ管2aを介して該内壁部5内に供給されるようにな
っている。
えられ、該通路2内を通過する酸素ガス等でなる処理ガ
スが該発振器10からのマイクロ波によってプラズマ化
された上で、上記反応室3の内壁部5内に位置されたジ
ャワ管2aを介して該内壁部5内に供給されるようにな
っている。
然して、上記内壁部5には、その内部を各排気室6.・
・・、6を介して各排気通路7o、・・・、78に連通
させる排気口5a、・・・、5aが夫々設けられている
と共に、これらの排気口6a。・・・、 6aには各排
気室6.・・・、6つまり排気通路70〜78を夫々開
閉するルーバー(開閉弁)110〜118が夫々備えら
れている。そして、これらのルーバー110〜118の
うち、導入通路2aの略対向位置に接続された排気通路
7oを開閉するルーバー(以下、マスタールーバーとい
う)11゜には、これを駆動するサーボモータ12と該
ルーバー11oの開度を検出するマスタールーバー位置
検出器13とが連結され、またそれ以外の各ルーバー(
以下、スレイブルーバーという)111〜118には同
じく駆動用のステッピングモータ141〜148と該ル
ーバーの開度検出用のスレイブルーバー位置検出器15
1〜158とが夫々連結されている。また、上記各排気
通路70〜78には差圧式流量計16o〜168が夫々
設けられているが、これらの流量計は各排気通路70〜
78に夫々設けられたオリフィス7a、・・・、 7a
の上流側と下流側の圧力差を検出することにより該通路
70〜78内を通過するプラズマの流量を検知するよう
になっている。そして、上記各ルーバー11o〜118
は、反応室3内から各排気通路70〜78を介して排出
されるプラズマの排出量が互いに等しくなるように、第
3図に示す制御回路17によって制御される。
・・、6を介して各排気通路7o、・・・、78に連通
させる排気口5a、・・・、5aが夫々設けられている
と共に、これらの排気口6a。・・・、 6aには各排
気室6.・・・、6つまり排気通路70〜78を夫々開
閉するルーバー(開閉弁)110〜118が夫々備えら
れている。そして、これらのルーバー110〜118の
うち、導入通路2aの略対向位置に接続された排気通路
7oを開閉するルーバー(以下、マスタールーバーとい
う)11゜には、これを駆動するサーボモータ12と該
ルーバー11oの開度を検出するマスタールーバー位置
検出器13とが連結され、またそれ以外の各ルーバー(
以下、スレイブルーバーという)111〜118には同
じく駆動用のステッピングモータ141〜148と該ル
ーバーの開度検出用のスレイブルーバー位置検出器15
1〜158とが夫々連結されている。また、上記各排気
通路70〜78には差圧式流量計16o〜168が夫々
設けられているが、これらの流量計は各排気通路70〜
78に夫々設けられたオリフィス7a、・・・、 7a
の上流側と下流側の圧力差を検出することにより該通路
70〜78内を通過するプラズマの流量を検知するよう
になっている。そして、上記各ルーバー11o〜118
は、反応室3内から各排気通路70〜78を介して排出
されるプラズマの排出量が互いに等しくなるように、第
3図に示す制御回路17によって制御される。
次に、この第3図に示す制御回路17について説明する
と、該制御回路17は、マスタールーバー開度設定器1
8からの信号a及び上記マスタールーバー位置検出器1
3からの信号すが夫々入力される第1減算器19と、上
記マスタールーバー用差圧式流量計16oからの信号C
及び各スレイブルーバー用差圧式流吊計161〜168
からの信号d1〜d8が夫々入力される複数(スレイブ
ルーバーと同数)の第2減算器201〜208とを有す
る。このうち第1減算器19は上記信号aによって示さ
れる値から信号すによって示される値を減算すると共に
、その結果を信号eとして第3減算器21及びサーボア
ンプ22を介して上記マスタールーバー11oの駆動用
サーボモータ12に出力し、これにより該モータ12を
サーボアンプ出力の極性及び電流値に応じて回動させて
マスタールーバー11oを上記開度設定器18による設
定位置で停止させるようになっている。また、上記第2
減算器201 (以下、他の第2減算器202〜208
についても同様に構成されている)は、上記信号Cによ
って示される値から信号dによって示される値を減算す
ると共に、その結果を信号「1として極性判別器231
及び絶対値増幅器241に出力するようになっている。
と、該制御回路17は、マスタールーバー開度設定器1
8からの信号a及び上記マスタールーバー位置検出器1
3からの信号すが夫々入力される第1減算器19と、上
記マスタールーバー用差圧式流量計16oからの信号C
及び各スレイブルーバー用差圧式流吊計161〜168
からの信号d1〜d8が夫々入力される複数(スレイブ
ルーバーと同数)の第2減算器201〜208とを有す
る。このうち第1減算器19は上記信号aによって示さ
れる値から信号すによって示される値を減算すると共に
、その結果を信号eとして第3減算器21及びサーボア
ンプ22を介して上記マスタールーバー11oの駆動用
サーボモータ12に出力し、これにより該モータ12を
サーボアンプ出力の極性及び電流値に応じて回動させて
マスタールーバー11oを上記開度設定器18による設
定位置で停止させるようになっている。また、上記第2
減算器201 (以下、他の第2減算器202〜208
についても同様に構成されている)は、上記信号Cによ
って示される値から信号dによって示される値を減算す
ると共に、その結果を信号「1として極性判別器231
及び絶対値増幅器241に出力するようになっている。
このうち極性判別器231は信号「1が正の、値を示す
時、即ち排気通路7o内のプラズマ流量よりも排気通路
71内のプラズマ流量の方が少ない時はスレイブルーバ
ー111を開動させるべくその駆動用ステッピングモー
タ141に開動信号g1を、また信号f1が負の値を示
す時、即ち排気通路7o内のプラズマ流量よりも排気通
路71内のプラズマ流量の方が多い時は該ルーバー11
1を閉動させる閉動信号h1を夫々ステッピングモータ
アンプ251を介して出力すると共に、信号f1が零な
いし所定範囲内で零とみなされる値を示す時はインバー
タ261に停止信号11を出力するようになっている。
時、即ち排気通路7o内のプラズマ流量よりも排気通路
71内のプラズマ流量の方が少ない時はスレイブルーバ
ー111を開動させるべくその駆動用ステッピングモー
タ141に開動信号g1を、また信号f1が負の値を示
す時、即ち排気通路7o内のプラズマ流量よりも排気通
路71内のプラズマ流量の方が多い時は該ルーバー11
1を閉動させる閉動信号h1を夫々ステッピングモータ
アンプ251を介して出力すると共に、信号f1が零な
いし所定範囲内で零とみなされる値を示す時はインバー
タ261に停止信号11を出力するようになっている。
一方、上記絶対値増幅器241は、上記第2減算器20
1からの信号f1の示す絶対値を増幅した上で電圧−周
波数変換器271に送出するが、この変換器271は、
上記増幅された信号f1′ (電圧信号)の出力に応じ
て周波数が高くなるように該信号r1′を周波数に変換
した上で、角度指令パルスf1″としてアンド回路28
1に出力するように構成されている。その場合、該アン
ド回路281は、これに入力される上記インバータ26
1からの信号11′ (信号iの反転信号)がONの時
に限り、上記角度指令パルスf1“の入力を受けてステ
ッピングモータアンプ251を介してスレイブルーバー
111の駆動用モータ141に角度パルスj1を出力し
、これにより該モータ141が該信号j1の周波数に応
じた速度で回転駆動されるようになっている。つまり、
上記第2減算器201の出力信号f1の極性が零又はこ
れに近い値の時はアンド回路281から角度パルスj1
が出力されなくなって上記ステッピングモータ251の
動作が停止するように構成されている。
1からの信号f1の示す絶対値を増幅した上で電圧−周
波数変換器271に送出するが、この変換器271は、
上記増幅された信号f1′ (電圧信号)の出力に応じ
て周波数が高くなるように該信号r1′を周波数に変換
した上で、角度指令パルスf1″としてアンド回路28
1に出力するように構成されている。その場合、該アン
ド回路281は、これに入力される上記インバータ26
1からの信号11′ (信号iの反転信号)がONの時
に限り、上記角度指令パルスf1“の入力を受けてステ
ッピングモータアンプ251を介してスレイブルーバー
111の駆動用モータ141に角度パルスj1を出力し
、これにより該モータ141が該信号j1の周波数に応
じた速度で回転駆動されるようになっている。つまり、
上記第2減算器201の出力信号f1の極性が零又はこ
れに近い値の時はアンド回路281から角度パルスj1
が出力されなくなって上記ステッピングモータ251の
動作が停止するように構成されている。
また、この制御回路17には、上記各第2減算器201
〜208からの全ての信号f1〜r8を加算する加算器
29が設けられている。この加算器29はモード切換ス
イッチ30を介して上記第3減算器21に接続されてお
り、その出力信号にの極性が正の場合にはマスタールー
バー110側に、また負の場合にはスレイブルーバー1
11〜118側に夫々過剰のプラズマガスが流れている
ことを示し、極性が零の場合には両ルーパー110及び
111〜118側に流れているプラズマガスの量が互い
に吊り合っていることを示すようになっている。その場
合、該加算器29の出力の絶対値が上記プラズマガスの
偏在量を示す。そして、この制御回路17においては、
上記切換スイッチ30が加算器29側に選択されている
場合、第3減算器21で第1減算器19の出力信号eか
ら加算器29の出力信号kを減算して、その結果を信号
1としてサーボアンプ22を介してサーボモータ12に
送出することにより、上記マスタールーバー開度設定器
18で設定したマスタールーバー11oの初期開度を補
正し、これにより該初期開度量の如何に拘らず常時各ル
ーパー11o〜118側に流れる(つまり、各排気通路
70〜78に流入する)プラズマの流量を互いに等しく
し得るように構成されている。
〜208からの全ての信号f1〜r8を加算する加算器
29が設けられている。この加算器29はモード切換ス
イッチ30を介して上記第3減算器21に接続されてお
り、その出力信号にの極性が正の場合にはマスタールー
バー110側に、また負の場合にはスレイブルーバー1
11〜118側に夫々過剰のプラズマガスが流れている
ことを示し、極性が零の場合には両ルーパー110及び
111〜118側に流れているプラズマガスの量が互い
に吊り合っていることを示すようになっている。その場
合、該加算器29の出力の絶対値が上記プラズマガスの
偏在量を示す。そして、この制御回路17においては、
上記切換スイッチ30が加算器29側に選択されている
場合、第3減算器21で第1減算器19の出力信号eか
ら加算器29の出力信号kを減算して、その結果を信号
1としてサーボアンプ22を介してサーボモータ12に
送出することにより、上記マスタールーバー開度設定器
18で設定したマスタールーバー11oの初期開度を補
正し、これにより該初期開度量の如何に拘らず常時各ル
ーパー11o〜118側に流れる(つまり、各排気通路
70〜78に流入する)プラズマの流量を互いに等しく
し得るように構成されている。
次に、上記実施例の作用を説明する。
被処理物X、・・・、Xが所定位置に配置された状態で
予め真空ポンプ8によって所定圧まで減圧したプラズマ
反応室3の内壁部5内に導入通路2からプラズマを導入
することにより、被処理物X。
予め真空ポンプ8によって所定圧まで減圧したプラズマ
反応室3の内壁部5内に導入通路2からプラズマを導入
することにより、被処理物X。
・・・、Xの表面を処理するのであるが、その場合、先
ず、第3図に示すマスタールーバー開度設定器18によ
ってマスタールーバー11oの初期開度が設定される。
ず、第3図に示すマスタールーバー開度設定器18によ
ってマスタールーバー11oの初期開度が設定される。
つまり、上記開度設定器18の出力信号aが第1.第3
減算器19.21及びサーボアンプ22を介してマスタ
ールーバー駆動用サーボモータ12に入力されることに
より、該モータ12がサーボアンプ22の出力信号の極
性及び電流値に従って回転され、その結果、マスタール
ーバー11oの開度が変化すると共に、その変化量に応
じた出力信号すがマスタールーバー位置検出器13から
第1減算器19に入力される。そして、該信号すが上記
開度設定器18の信号aによる設定値に一致して第1減
算器19の出力信号eが零になった時に、上記サーボモ
ータ12が停止することにより、マスタールーバー11
0が上記開度設定器18による所定の開度位置で停止さ
れる。
減算器19.21及びサーボアンプ22を介してマスタ
ールーバー駆動用サーボモータ12に入力されることに
より、該モータ12がサーボアンプ22の出力信号の極
性及び電流値に従って回転され、その結果、マスタール
ーバー11oの開度が変化すると共に、その変化量に応
じた出力信号すがマスタールーバー位置検出器13から
第1減算器19に入力される。そして、該信号すが上記
開度設定器18の信号aによる設定値に一致して第1減
算器19の出力信号eが零になった時に、上記サーボモ
ータ12が停止することにより、マスタールーバー11
0が上記開度設定器18による所定の開度位置で停止さ
れる。
ところで、このようにしてマスタールーバー110が開
かれている状態で例えば第3図に鎖線で示すようにスレ
イブルーバー111〜118が閉じられている場合には
、上記プラズマが該マスタールーバー11oに向って流
れてプラズマ反応室3a内における該プラズマの分布が
不均一となるが、上記構成によれば、各スレイブルーバ
ー111〜118に対応させて排気通路71〜78が接
続され、該排気通路71〜78内を流れるプラズマの流
量とマスタールーバー11oによって開閉される排気通
路7o内を流れるプラズマの流量とが互いに等しくなる
ように、各ルーバー11o〜118が制御回路17によ
って開閉制御されることになる。
かれている状態で例えば第3図に鎖線で示すようにスレ
イブルーバー111〜118が閉じられている場合には
、上記プラズマが該マスタールーバー11oに向って流
れてプラズマ反応室3a内における該プラズマの分布が
不均一となるが、上記構成によれば、各スレイブルーバ
ー111〜118に対応させて排気通路71〜78が接
続され、該排気通路71〜78内を流れるプラズマの流
量とマスタールーバー11oによって開閉される排気通
路7o内を流れるプラズマの流量とが互いに等しくなる
ように、各ルーバー11o〜118が制御回路17によ
って開閉制御されることになる。
即ち、上記マスタールーバー11oによって開閉される
排気通路7o内のプラズマ流量と、各スレイブルーバー
111〜118によって開閉される排気通路71〜78
内のプラズマ流量とが各排気通路7o及び71〜78に
設けられた差圧式流量計16o及び161〜167によ
って夫々検出された上で各第2減算器201〜20aに
おいて比較される。そして、前者のプラズマ流量が後者
のプラズマ流量よりも多い場合には、各極性判別器23
1〜238から開動信号g1〜g8が夫々出力されて当
該スレイブルーバーが当初位置よりも更に開方向に、逆
に少ない場合には、各極性判別器231〜238から閉
動信号h1〜h8が夫々出力されて当該スレイブルーバ
ーが開方向に夫々回転駆動されることにより、各排気通
路70〜78内を流れるプラズマ流量が互いに等しくさ
れ、その結果としてプラズマ反応室3内のプラズマ分布
が均一化されることになる。これにより、上記したよう
なプラズマ反応室内におけるプラズマ分布の不均一によ
って生じる各被処理物X、・・・、X問又はその部位間
の処理性の差が解消され、各被処理物X、・・・、Xの
表面の全ての部位が均一にプラズマ処理されることにな
る。
排気通路7o内のプラズマ流量と、各スレイブルーバー
111〜118によって開閉される排気通路71〜78
内のプラズマ流量とが各排気通路7o及び71〜78に
設けられた差圧式流量計16o及び161〜167によ
って夫々検出された上で各第2減算器201〜20aに
おいて比較される。そして、前者のプラズマ流量が後者
のプラズマ流量よりも多い場合には、各極性判別器23
1〜238から開動信号g1〜g8が夫々出力されて当
該スレイブルーバーが当初位置よりも更に開方向に、逆
に少ない場合には、各極性判別器231〜238から閉
動信号h1〜h8が夫々出力されて当該スレイブルーバ
ーが開方向に夫々回転駆動されることにより、各排気通
路70〜78内を流れるプラズマ流量が互いに等しくさ
れ、その結果としてプラズマ反応室3内のプラズマ分布
が均一化されることになる。これにより、上記したよう
なプラズマ反応室内におけるプラズマ分布の不均一によ
って生じる各被処理物X、・・・、X問又はその部位間
の処理性の差が解消され、各被処理物X、・・・、Xの
表面の全ての部位が均一にプラズマ処理されることにな
る。
尚、この実施例においては各排気通路70〜78内を流
れるプラズマの流量を検出する手段として差圧式流量計
16o〜168を用りたが、処理ガスに窒素を混合した
上で該窒素のプラズマの発光量を照度検出器によって検
出し、これにより上記プラズマの流量を検出するように
しても良い。
れるプラズマの流量を検出する手段として差圧式流量計
16o〜168を用りたが、処理ガスに窒素を混合した
上で該窒素のプラズマの発光量を照度検出器によって検
出し、これにより上記プラズマの流量を検出するように
しても良い。
第1〜3図は本発明の実施例を示すもので、第1図は該
実施例に係るプラズマ処理装置の概略側面図、第2図は
第1図II−II線で切断した拡大縦断面図、第3図は
制御回路を示すブロック図である。また、第4図は従来
のプラズマ処理装置を示す正面図である。 1・・・プラズマ処理装置、3・・・プラズマ反応室、
6.70〜78・・・排気通路(6・・・排気室)、1
1・・・WUr11弁(11o・・・マスタールーパー
、111〜118・・・スレイブルーバー)、16゜〜
168・・・流量検出手段(差圧式流量計)、17・・
・制御手段(制御回路)。 出願人 マツダ・ 株式会社 第4図
実施例に係るプラズマ処理装置の概略側面図、第2図は
第1図II−II線で切断した拡大縦断面図、第3図は
制御回路を示すブロック図である。また、第4図は従来
のプラズマ処理装置を示す正面図である。 1・・・プラズマ処理装置、3・・・プラズマ反応室、
6.70〜78・・・排気通路(6・・・排気室)、1
1・・・WUr11弁(11o・・・マスタールーパー
、111〜118・・・スレイブルーバー)、16゜〜
168・・・流量検出手段(差圧式流量計)、17・・
・制御手段(制御回路)。 出願人 マツダ・ 株式会社 第4図
Claims (1)
- (1)プラズマ反応室内で被処理物の表面にプラズマを
照射して該被処理物表面を処理するプラズマ処理装置で
あって、上記反応室に接続された複数の排気通路と、各
排気通路に夫々設けられて該通路を開閉する複数の開閉
弁と、上記各排気通路内を流れるプラズマの流量を夫々
検出する流量検出手段と、上記各排気通路から排出され
るプラズマの排出量が互いに等しくなるように上記流量
検出手段からの信号に基づいて上記各開閉弁を制御する
制御手段とを有することを特徴とするプラズマ処理装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11067485A JPS61268730A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11067485A JPS61268730A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61268730A true JPS61268730A (ja) | 1986-11-28 |
| JPH0528254B2 JPH0528254B2 (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=14541580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11067485A Granted JPS61268730A (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61268730A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658416A3 (ja) * | 1993-11-23 | 1995-07-26 | Heinze Dyconex Patente | |
| CN114701154A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-07-05 | 南京苏曼等离子科技有限公司 | 高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法 |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP11067485A patent/JPS61268730A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0658416A3 (ja) * | 1993-11-23 | 1995-07-26 | Heinze Dyconex Patente | |
| CN114701154A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-07-05 | 南京苏曼等离子科技有限公司 | 高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法 |
| CN114701154B (zh) * | 2021-12-27 | 2023-12-01 | 南京苏曼等离子科技有限公司 | 高分子材料管道的内外表面连续处理装置与方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0528254B2 (ja) | 1993-04-23 |
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