JPS61287015A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS61287015A JPS61287015A JP60128129A JP12812985A JPS61287015A JP S61287015 A JPS61287015 A JP S61287015A JP 60128129 A JP60128129 A JP 60128129A JP 12812985 A JP12812985 A JP 12812985A JP S61287015 A JPS61287015 A JP S61287015A
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- film
- amorphous
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- magnetic head
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気記録装置用の磁気ヘッドに係り、特に高保
磁力記録媒体を用いたＶＴＲ５磁気ディスク装置、なら
びに垂直磁気記録方式を用いた磁気ディスク装置等の高
密度記録を目的とする磁気記録装置に好適な磁気ヘッド
に関する。
磁力記録媒体を用いたＶＴＲ５磁気ディスク装置、なら
びに垂直磁気記録方式を用いた磁気ディスク装置等の高
密度記録を目的とする磁気記録装置に好適な磁気ヘッド
に関する。
非晶質磁性合金は、高透磁率特性が広い組成範囲で得ら
れること、また、１０ＫＧ以上の高飽和磁束密度が得ら
れるなど軟磁性材料として優れた特性を持っているため
磁気ヘッド材料として有望である。
れること、また、１０ＫＧ以上の高飽和磁束密度が得ら
れるなど軟磁性材料として優れた特性を持っているため
磁気ヘッド材料として有望である。
本発明者らもこの種の磁気ヘッドについて種々検討した
結果、先に、磁気ギャップと対向する方の側面が磁気ギ
ャップ面に対して傾斜しているコア基本部の磁気ギャッ
プと対向する方の側面に被着された高飽和磁束密度を有
する非晶質磁性合金膜とを備えたコア半休を用いた磁気
ヘッドを提案した（特開昭５８−１５５５１３号参照）
。
結果、先に、磁気ギャップと対向する方の側面が磁気ギ
ャップ面に対して傾斜しているコア基本部の磁気ギャッ
プと対向する方の側面に被着された高飽和磁束密度を有
する非晶質磁性合金膜とを備えたコア半休を用いた磁気
ヘッドを提案した（特開昭５８−１５５５１３号参照）
。
第５図および第６図はこの提案された磁気ヘッドの一部
平面図および一部断面（Ａ−Ａ’ ）を示す図である。
平面図および一部断面（Ａ−Ａ’ ）を示す図である。
この磁気ヘッドが第１コア半体１と、第２コア半体２と
、第１コア半休に巻装された励磁コイル３とから主に構
成されている。第１コア半休工ならびに第２コア半体２
は、フェライトなどからなり磁気ギャップ７と対向する
側面のほぼ中央に山形の突出部４を有するコア基体５と
、そのコア基体５の前記側面に被着された高飽和磁束密
度を有する非晶質磁性合金膜６とから構成されている。
、第１コア半休に巻装された励磁コイル３とから主に構
成されている。第１コア半休工ならびに第２コア半体２
は、フェライトなどからなり磁気ギャップ７と対向する
側面のほぼ中央に山形の突出部４を有するコア基体５と
、そのコア基体５の前記側面に被着された高飽和磁束密
度を有する非晶質磁性合金膜６とから構成されている。
第３図に示すように第１コア半体１側の突出部４と非晶
質磁性合金膜６ならびに第２コア半体２側の突出部４と
非晶質磁性合金膜６とは、接合部近傍の形状が磁気ギャ
ップを介してほぼ左右対称になっており、ガラスなどの
接合材８で一体化されている。
質磁性合金膜６ならびに第２コア半体２側の突出部４と
非晶質磁性合金膜６とは、接合部近傍の形状が磁気ギャ
ップを介してほぼ左右対称になっており、ガラスなどの
接合材８で一体化されている。
この従来提案された磁気ヘッドは、主にＶＴＲ。
フロッピディスク装置などのようにトラック幅が１０μ
ｍ〜２００μｍ程度の磁気ヘッドを考慮したもの゛であ
る。このような磁気ヘッドに用いる非晶質磁性合金膜の
厚さは約５μｍ〜１５０μｍとなっている。このような
厚さの非晶質磁性合金膜は磁気異方性のゆらぎが大きく
なるために、透磁率が劣化するなど、その材料の持つ磁
気特性を十分引き出していない、そのため、十分な記録
再生特性が得られないという問題がある。
ｍ〜２００μｍ程度の磁気ヘッドを考慮したもの゛であ
る。このような磁気ヘッドに用いる非晶質磁性合金膜の
厚さは約５μｍ〜１５０μｍとなっている。このような
厚さの非晶質磁性合金膜は磁気異方性のゆらぎが大きく
なるために、透磁率が劣化するなど、その材料の持つ磁
気特性を十分引き出していない、そのため、十分な記録
再生特性が得られないという問題がある。
この問題を解決するため、従来から、金属磁性体膜を、
磁気へラドコア材料に用いる場合、高周波領域まで高い
透磁率を確保するために、金属磁性体膜をＳ ｘ ＯＨ
ｐ Ａ Ｑ ＊ Ｏｘ等の絶縁物を介して積層し、多層
化する方法が用いられている。
磁気へラドコア材料に用いる場合、高周波領域まで高い
透磁率を確保するために、金属磁性体膜をＳ ｘ ＯＨ
ｐ Ａ Ｑ ＊ Ｏｘ等の絶縁物を介して積層し、多層
化する方法が用いられている。
絶縁物を介して多層化した非晶質磁性合金多層膜を第７
図に示す磁気ヘッドに適用した場合、その効果は顕著で
、高周波領域まで優れた記録再生特性が得られる。しか
し、非晶質磁性合金膜を多層化するための中間膜を絶縁
物とした場合に、その中間層が凝似ギャップとして作用
する場合があり、磁気ヘッドの構造、ならびに多層膜の
構成に制限を受け、最適条件で磁気ヘッドを構成するこ
とが困難となる。
図に示す磁気ヘッドに適用した場合、その効果は顕著で
、高周波領域まで優れた記録再生特性が得られる。しか
し、非晶質磁性合金膜を多層化するための中間膜を絶縁
物とした場合に、その中間層が凝似ギャップとして作用
する場合があり、磁気ヘッドの構造、ならびに多層膜の
構成に制限を受け、最適条件で磁気ヘッドを構成するこ
とが困難となる。
本発明の目的は、前記従来の欠点を解消し、高密度記録
再性特性の優れた磁気ヘッドを提供する−Ｊ ことにある。
再性特性の優れた磁気ヘッドを提供する−Ｊ ことにある。
本発明者らは、従来の非晶質磁性合金膜を多層化する場
合に用いていた非磁性絶縁物からなる中間・層のかわり
に磁性体を用いることによって低保磁力で、かつ高周波
領域でも高透磁率を持っ非晶質磁性合金多層膜を見出し
、これを磁気ヘッドに用いて優れた記録再生特性を得た
。これは、磁性中間膜で多層化することによって、磁気
異方性のゆらぎを低減し、かっ磁区構造を安定化できる
ため透磁率の経時変化も小さくなっているためと考えら
れる。さらに、磁性体と中間層としているため疑似ギャ
ップ作用も起らないという利点がある。
合に用いていた非磁性絶縁物からなる中間・層のかわり
に磁性体を用いることによって低保磁力で、かつ高周波
領域でも高透磁率を持っ非晶質磁性合金多層膜を見出し
、これを磁気ヘッドに用いて優れた記録再生特性を得た
。これは、磁性中間膜で多層化することによって、磁気
異方性のゆらぎを低減し、かっ磁区構造を安定化できる
ため透磁率の経時変化も小さくなっているためと考えら
れる。さらに、磁性体と中間層としているため疑似ギャ
ップ作用も起らないという利点がある。
これを実現するための非晶゛質磁性合金多層膜の構成は
、非晶質磁性合の一層の厚みが、１μｍ〜１０ｐｍ、磁
性中間層の厚みが０．００５〜０ 、２ μｍで好まし
く、さらに好ましくは、非晶質磁性合金の一層の厚みが
２μｍ〜５μｍ、磁性中間層の厚みが０．０１μｍ ＝
０ 、１４μｍであることを見出した。
、非晶質磁性合の一層の厚みが、１μｍ〜１０ｐｍ、磁
性中間層の厚みが０．００５〜０ 、２ μｍで好まし
く、さらに好ましくは、非晶質磁性合金の一層の厚みが
２μｍ〜５μｍ、磁性中間層の厚みが０．０１μｍ ＝
０ 、１４μｍであることを見出した。
以下、本発明の一実施例を第１図、第２図により説明す
る。
る。
第１図は本発明の非晶質磁性合金多層膜を用いた磁気ヘ
ッドの記録媒体対向面から見た平面図である。この磁気
ヘッドは、第１コア半体１１と、第２のコア半体１２と
、第１コア半体側にコイル巻線用の窓２１から主に構成
されている。第１コア半体１１ならびに第２コア半体１
２はフェライト等のバルク磁性材料もしくはセラミック
ス等の非磁性材料からなり、磁気−ヤツブと対向する側
面のほぼ中央に山形の突出部１４を有するコア基体１５
と、そのコア基体１５の前記側面に被着された高飽和磁
束密度で高透磁率の非晶質磁性合金多層膜１６から構成
されている。この非晶質磁性合金多層膜１６は、Ｃｏ、
Ｆｅ、Ｎｉの少なくとも１種類を主成分とする非晶質磁
性合金からなる主磁性体膜１９と多結晶質もしくは非晶
質の磁性体からなる中間磁性体層２０から構成されてい
る。
ッドの記録媒体対向面から見た平面図である。この磁気
ヘッドは、第１コア半体１１と、第２のコア半体１２と
、第１コア半体側にコイル巻線用の窓２１から主に構成
されている。第１コア半体１１ならびに第２コア半体１
２はフェライト等のバルク磁性材料もしくはセラミック
ス等の非磁性材料からなり、磁気−ヤツブと対向する側
面のほぼ中央に山形の突出部１４を有するコア基体１５
と、そのコア基体１５の前記側面に被着された高飽和磁
束密度で高透磁率の非晶質磁性合金多層膜１６から構成
されている。この非晶質磁性合金多層膜１６は、Ｃｏ、
Ｆｅ、Ｎｉの少なくとも１種類を主成分とする非晶質磁
性合金からなる主磁性体膜１９と多結晶質もしくは非晶
質の磁性体からなる中間磁性体層２０から構成されてい
る。
主磁性体膜１９は１例えばＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉのグループ
から選択された１種以上の元素とし、これを主成分とし
て、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｗｅ Ｔｉｅ ＴａｇＨｆ、Ｙ、Ｃｒ
、Ｍｎ、Ｇｅ、ＡＱ、Ｍｏ、Ｓｎ＊Ｂｅなどの元素を添
加した合金、あるいは、前記主成分、添加元素にＰ、Ｃ
，Ｂ、Ｓｉのグループから選択された１種以上の元素を
添加した合金がある。さらに、具体的にはＧｏ−Ｎｂ、
Ｃｏ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔａ、Ｇｏ−Ｈｆを主成分として、
前記添加物元素を含んだ合金が用いられる。また、磁歪
の調整、結晶化温度の調整等に少量のＡ ｕ ｇＡｇｅ
Ｐ ｔｔ Ｒｕ、Ｐｄ等の貴金属元素を添加する場合
がある。
から選択された１種以上の元素とし、これを主成分とし
て、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｗｅ Ｔｉｅ ＴａｇＨｆ、Ｙ、Ｃｒ
、Ｍｎ、Ｇｅ、ＡＱ、Ｍｏ、Ｓｎ＊Ｂｅなどの元素を添
加した合金、あるいは、前記主成分、添加元素にＰ、Ｃ
，Ｂ、Ｓｉのグループから選択された１種以上の元素を
添加した合金がある。さらに、具体的にはＧｏ−Ｎｂ、
Ｃｏ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔａ、Ｇｏ−Ｈｆを主成分として、
前記添加物元素を含んだ合金が用いられる。また、磁歪
の調整、結晶化温度の調整等に少量のＡ ｕ ｇＡｇｅ
Ｐ ｔｔ Ｒｕ、Ｐｄ等の貴金属元素を添加する場合
がある。
一方中間磁性体層２０は１例えば、多結晶磁性膜として
、Ｇｏ、Ｎｉ、Ｆｅの重厚子、もしくはＮ１−Ｆｅ（パ
ーマロイ） 、 Ｆｅ−ＡＱ−８ｉ（センダスト）等の
合金が用いられる。また、非晶質磁性台は前記主磁性体
膜に用いられる合金の中から選択されるが、主磁性体膜
の構成元素と異なる合金、もしくは組成の異なる合金が
好ましい。
、Ｇｏ、Ｎｉ、Ｆｅの重厚子、もしくはＮ１−Ｆｅ（パ
ーマロイ） 、 Ｆｅ−ＡＱ−８ｉ（センダスト）等の
合金が用いられる。また、非晶質磁性台は前記主磁性体
膜に用いられる合金の中から選択されるが、主磁性体膜
の構成元素と異なる合金、もしくは組成の異なる合金が
好ましい。
さらに、フェライト等の酸化物でもよい。
１ゝ
第２図は、第１図に示す磁気ヘッドの記録媒体対向面の
Ｂ−Ｂ’断面を示す拡大図である。同図から非晶質磁性
合金多層膜１６はコイル巻線窓２１の内壁に被着されて
閉磁路が構成されている。
Ｂ−Ｂ’断面を示す拡大図である。同図から非晶質磁性
合金多層膜１６はコイル巻線窓２１の内壁に被着されて
閉磁路が構成されている。
この時、コア基体１５はＭ ｎ −Ｚ ｎフェライト、
Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のバルクの磁性体とすれば非晶
質磁性合金多層１６とフェライト磁路が構成され、高効
率の磁気ヘッドが得られる。
Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のバルクの磁性体とすれば非晶
質磁性合金多層１６とフェライト磁路が構成され、高効
率の磁気ヘッドが得られる。
また、コア基体１５をセラミックス、ガラス等の非磁性
材料とすれば、摺動雑音の低減効果によりＳ／Ｎが向上
し、さらに、コアインダクタンス低減により、コイル巻
数が増加できることから出力を向上できる等の利点があ
る。
材料とすれば、摺動雑音の低減効果によりＳ／Ｎが向上
し、さらに、コアインダクタンス低減により、コイル巻
数が増加できることから出力を向上できる等の利点があ
る。
次に、非晶磁性合金多層膜の構成と磁気特性について検
討した結果を述べる。第１表はスパッタリングで被着し
た代表的な非晶質磁性合金多層膜の実施例を示す、第１
表は主磁性体膜をＧｏ、、−Ｎｂｔｉ Ｚｒａ （
原子％）とし、中間磁性体層をＮｉ、−Ｆａ、。（原子
％）とした時の多層膜の磁気特性の１例を示す。
討した結果を述べる。第１表はスパッタリングで被着し
た代表的な非晶質磁性合金多層膜の実施例を示す、第１
表は主磁性体膜をＧｏ、、−Ｎｂｔｉ Ｚｒａ （
原子％）とし、中間磁性体層をＮｉ、−Ｆａ、。（原子
％）とした時の多層膜の磁気特性の１例を示す。
第１表
第１表において、試料Ｈａ １はＧｏ、、 Ｎｂ１．
Ｚｒ３が膜厚４０μｍ単層の場合の磁気特性を示し、飽
和磁束密度Ｂ、が９．８ ＫＧ、保磁力Ｈ０が０．４０
ｅ、５ Ｍ Ｈｚでの比透磁率μが５００であり、特に
比透磁率が低い、これに対して本発明のｃｏ＠＠ Ｎｂ
、、 ｚ ｒ、 ／ Ｎｉ＠６ Ｆ ’！！ｉｌｌの多
層膜の実施例Ｈａ２、Ｎα３．勲４は高い比透磁率を示
すことがわかる。また、保磁力Ｈｃｌも低くなっている
。
Ｚｒ３が膜厚４０μｍ単層の場合の磁気特性を示し、飽
和磁束密度Ｂ、が９．８ ＫＧ、保磁力Ｈ０が０．４０
ｅ、５ Ｍ Ｈｚでの比透磁率μが５００であり、特に
比透磁率が低い、これに対して本発明のｃｏ＠＠ Ｎｂ
、、 ｚ ｒ、 ／ Ｎｉ＠６ Ｆ ’！！ｉｌｌの多
層膜の実施例Ｈａ２、Ｎα３．勲４は高い比透磁率を示
すことがわかる。また、保磁力Ｈｃｌも低くなっている
。
第３図は、前記第１表の試料＆１と＆３の比透磁率の周
波数特性を示した図である。図から明らかのように試料
＆１の単層膜２２に比べ、試料勲３の多層膜２３は比透
磁率の高周波特性が優れていることがわかる。一方、非
晶質磁性合金は従来から知られているように、回転磁界
中で熱処理することによって、単層膜でも比透磁率を３
０００以上にすることが可能であるが、磁気ヘッド作製
工程における加熱処理あるいは加工によって大きく劣化
する問題があるのに対して、本発明の多層膜を用いた磁
気ヘッドにおいては、その劣化がきわめて少ないという
利点がある。
波数特性を示した図である。図から明らかのように試料
＆１の単層膜２２に比べ、試料勲３の多層膜２３は比透
磁率の高周波特性が優れていることがわかる。一方、非
晶質磁性合金は従来から知られているように、回転磁界
中で熱処理することによって、単層膜でも比透磁率を３
０００以上にすることが可能であるが、磁気ヘッド作製
工程における加熱処理あるいは加工によって大きく劣化
する問題があるのに対して、本発明の多層膜を用いた磁
気ヘッドにおいては、その劣化がきわめて少ないという
利点がある。
例えば、第４図は前記＆１および＆３の試料を磁界：１
０ＫＯｅ、回転数Ｈ６Ｑｒｐｍ、加熱温３５０℃で３０
分間熱処理した時の比透磁率の周波数特性を示した図で
ある０図中曲線２４は試料＆１の単層膜、曲線２５は試
料＆３の多層膜を示す、これを再度３５０℃、無磁界中
で熱処理した結果を曲線２４’ 、２５’で示す、この
ように単層膜２４は２４′のように劣化が顕しいのに対
し、本発明の多層膜２５は２５′のように劣化が少ない
ことがわかった。
０ＫＯｅ、回転数Ｈ６Ｑｒｐｍ、加熱温３５０℃で３０
分間熱処理した時の比透磁率の周波数特性を示した図で
ある０図中曲線２４は試料＆１の単層膜、曲線２５は試
料＆３の多層膜を示す、これを再度３５０℃、無磁界中
で熱処理した結果を曲線２４’ 、２５’で示す、この
ように単層膜２４は２４′のように劣化が顕しいのに対
し、本発明の多層膜２５は２５′のように劣化が少ない
ことがわかった。
このような単層膜と多層膜を用いて磁気ヘッドを作製し
、高保磁カメタルテープで評価を行なうと５ Ｍ Ｈｚ
以上の周波数帯域で、再生出力が２〜３ｄＢ差が見られ
る。さらに、多層膜は単層膜より特性ばらつきが小さい
という特徴がある。
、高保磁カメタルテープで評価を行なうと５ Ｍ Ｈｚ
以上の周波数帯域で、再生出力が２〜３ｄＢ差が見られ
る。さらに、多層膜は単層膜より特性ばらつきが小さい
という特徴がある。
第２表は主磁性体膜であるＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ非晶質合金
膜とし、中間磁性体層を種々かえた時の磁気特性を示す
。
膜とし、中間磁性体層を種々かえた時の磁気特性を示す
。
第２表
第２表において中間磁性体層をＮｉ、Ｇｏの単一元素も
しくはＣｏ −Ｍ ｏ −Ｚ ｒ非晶質磁性合金を用い
ても第１表とほぼ同程度の磁気特性が得られた。また、
この多層膜は熱処理によっても比透磁率の劣化が少ない
。
しくはＣｏ −Ｍ ｏ −Ｚ ｒ非晶質磁性合金を用い
ても第１表とほぼ同程度の磁気特性が得られた。また、
この多層膜は熱処理によっても比透磁率の劣化が少ない
。
第３表は中間磁性体層をＮｉ−Ｆｅ合金とし、主磁性体
膜を種々かえた時の磁気特性を示す。
膜を種々かえた時の磁気特性を示す。
第３表
第３表は非晶質磁性合金の中でも飽和磁束密度Ｂ１の特
に高い材料を用いた例を示した。表に示すようなＣｏの
量の多い非晶質磁性合金膜は一般に異方性磁界が大きく
、熱処理や加工によって劣化し易く、多層化の効果が大
きい。
に高い材料を用いた例を示した。表に示すようなＣｏの
量の多い非晶質磁性合金膜は一般に異方性磁界が大きく
、熱処理や加工によって劣化し易く、多層化の効果が大
きい。
なお、本発明における主磁性膜の厚さは１μｍ・〜１０
μｍが好ましい、１μｍ以下にすると厚い膜を形成する
場合に長時間を要し実用的でない。
μｍが好ましい、１μｍ以下にすると厚い膜を形成する
場合に長時間を要し実用的でない。
また、１０μｍ以上にした場合には磁気異方性のゆらぎ
が大きくなり、高周波における比透磁率が低くなってし
まう、また、磁気ヘッド加工プロセスにおける比透磁率
の劣化が大きくなってしまう。
が大きくなり、高周波における比透磁率が低くなってし
まう、また、磁気ヘッド加工プロセスにおける比透磁率
の劣化が大きくなってしまう。
より好ましくは、２μｍ〜５μｍである。
一方、中間磁性体層の厚さは、０．０１ μｍ〜０．２
μｍである。０．０１ μｍ以下にした場合には多
層化の効果が薄れ、単層膜に近い磁気特性を示すように
なる。また、０．２ μｍ以上にすると、主磁性体膜
の磁気特性との差が大きい場合に疑似ギャップ作用が現
われることがありあまり好ましくない。
μｍである。０．０１ μｍ以下にした場合には多
層化の効果が薄れ、単層膜に近い磁気特性を示すように
なる。また、０．２ μｍ以上にすると、主磁性体膜
の磁気特性との差が大きい場合に疑似ギャップ作用が現
われることがありあまり好ましくない。
より好ましい層厚は０．０２μｍ ” ０ 、１μｍで
ある。
ある。
以上詳述したごとく、本発明によれば、５μｍ以上の非
晶質磁性合金膜を有する磁気ヘッドにおいて、従来、高
周波記録再生特性を良好にするために非磁性絶縁材を中
間層として多層化していたものを磁性材料としたことに
よって、各層間における疑似ギャップ作用を解消できる
ので、記録再生特性の雑音低減効果がある。また、本発
明の非晶質磁性合金多層膜は磁気ヘッド作製工程におけ
る熱処理および加工に対して磁気特性の劣化が少なく、
非晶質磁性合金の単層膜で構成した磁気ヘッドよりも再
生出力が２〜３ｄＢ高く、かつ、性能ばらつきの少ない
磁気ヘッドを得ることができる。
晶質磁性合金膜を有する磁気ヘッドにおいて、従来、高
周波記録再生特性を良好にするために非磁性絶縁材を中
間層として多層化していたものを磁性材料としたことに
よって、各層間における疑似ギャップ作用を解消できる
ので、記録再生特性の雑音低減効果がある。また、本発
明の非晶質磁性合金多層膜は磁気ヘッド作製工程におけ
る熱処理および加工に対して磁気特性の劣化が少なく、
非晶質磁性合金の単層膜で構成した磁気ヘッドよりも再
生出力が２〜３ｄＢ高く、かつ、性能ばらつきの少ない
磁気ヘッドを得ることができる。
第１図は本発明の磁気ヘッド−例を示す記録媒体対向面
の平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ’線断面図、第３図
は本発明の非晶質磁性合金多層膜と従来の非晶質磁性合
金単層膜の磁気特性を比較した図、第４図は本発明の非
晶質磁性合金多層膜と従来の非晶質磁性合金単層膜を加
熱処理した場合の磁気特性の比較例を示す図、第５図は
従来の磁気ヘッドの記録媒体対向面を示す図、第６図は
第５図Ａ−Ａ’断面を示す図、第７図は従来の多層磁性
薄膜を用いた磁気ヘッドの記録媒体対向面を示す図であ
る。 １１．１２・・・第１コア半休および第２コア半休、１
５・・・コア基体、１６・・・非晶質磁性合金多層膜、
１７・・・磁気ギャップ、１８・・・非磁性充填材、１
９、￥ｉ １ 口 第 ２ ロ ）Ｅ ３ 図 ／ ２ ５ ｉσ ２
ρ ５σ同膿粒子（Ｍ／／、） 藁 ４− 口 ／ ２ ５１０ ２θ
９Ｓ１；【穀ｆ （ＭＩｆＺ） χ Ｓ 回 メロ ロ
の平面図、第２図は第１図のＡ−Ａ’線断面図、第３図
は本発明の非晶質磁性合金多層膜と従来の非晶質磁性合
金単層膜の磁気特性を比較した図、第４図は本発明の非
晶質磁性合金多層膜と従来の非晶質磁性合金単層膜を加
熱処理した場合の磁気特性の比較例を示す図、第５図は
従来の磁気ヘッドの記録媒体対向面を示す図、第６図は
第５図Ａ−Ａ’断面を示す図、第７図は従来の多層磁性
薄膜を用いた磁気ヘッドの記録媒体対向面を示す図であ
る。 １１．１２・・・第１コア半休および第２コア半休、１
５・・・コア基体、１６・・・非晶質磁性合金多層膜、
１７・・・磁気ギャップ、１８・・・非磁性充填材、１
９、￥ｉ １ 口 第 ２ ロ ）Ｅ ３ 図 ／ ２ ５ ｉσ ２
ρ ５σ同膿粒子（Ｍ／／、） 藁 ４− 口 ／ ２ ５１０ ２θ
９Ｓ１；【穀ｆ （ＭＩｆＺ） χ Ｓ 回 メロ ロ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非晶質磁性合金膜を他の磁性体を中間層として積層
してなる非晶質磁性合金多層膜からなり、該非晶質磁性
合金多層膜の１層の厚みが、１μｍ〜１０μｍ、中間層
の厚みが０．０１μｍ〜０．２μｍからなり、該非晶質
磁性合金多層膜でコアの少なくとも一部が構成されてい
ることを特徴とする磁気ヘッド。 ２、非晶質磁性合金膜の一層の厚みが２μｍ〜５μｍ、
中間層の厚みが０．０２μｍ−０．１μｍからなること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッド。
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| JP60128129A JPH0770020B2 (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 磁気ヘツド |
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