JPS6141511B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6141511B2
JPS6141511B2 JP11537579A JP11537579A JPS6141511B2 JP S6141511 B2 JPS6141511 B2 JP S6141511B2 JP 11537579 A JP11537579 A JP 11537579A JP 11537579 A JP11537579 A JP 11537579A JP S6141511 B2 JPS6141511 B2 JP S6141511B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
aromatic ring
formula
chloroform
lower alkyl
Prior art date
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Expired
Application number
JP11537579A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5639062A (en
Inventor
Yasumitsu Tamura
Masazumi Ikeda
Tomosato Mukai
Shingo Matsumura
Masahiro Kise
Masao Murase
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shinyaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shinyaku Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shinyaku Co Ltd filed Critical Nippon Shinyaku Co Ltd
Priority to JP11537579A priority Critical patent/JPS5639062A/ja
Publication of JPS5639062A publication Critical patent/JPS5639062A/ja
Publication of JPS6141511B2 publication Critical patent/JPS6141511B2/ja
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は次の一般式() 〔式中R1は水素、ハロゲン又は低級アルキル
を、R2,R3は同一又は異なつて水素又は低級ア
ルキルを、Tsは
【式】を表わ す。〕で示されるスルフエンアミド誘導体に関す
る。 該物質は種々の方法で製造することができる
が、たとえば次の一般式() 〔式中R1,R2,R3,Tsは前記と同じ。nは0
あるいは1を表わす。〕で表わされる化合物をn
=0の場合はメチルアルコール中酢酸触媒で冷却
下あるいは室温でクロラミン―Tと反応させるこ
とにより、n=1の場合はクロロホルムあるいは
アセトニトリル溶媒中でトリエチルアミンと反応
させるか、あるいはジメチルスルホキシド溶媒中
で加熱することにより、収率よく製造することが
できる。別法として、たとえば次の一般式() 〔式中R1,R3,Ts,nは前記と同じ。〕で表わ
される化合物をn=0の場合はメチルアルコール
中酢酸触媒で冷却下あるいは室温でクロラミン―
Tと反応させることにより、n=1の場合は、ク
ロロホルムあるいはベンゼン中で加熱還流するこ
とによつても目的とする()を収率よく製造す
ることができる。 次に実施例において詳述する方法によつて合成
された本発明化合物の一部を以下に示す。
【表】 本発明の化合物()は文献未載の新規物質で
あつて、これをたとえばベンゼン、アセトニトリ
ル等に溶かしてシリカゲル、トリエチルアミン等
と撹拌することにより、下記化合物 〔R1,R2,R3,Tsは然記と同じ。〕を合成す
ることができ、この化合物は自発運動抑制作用、
鎮痛消炎作用、抗菌作用を有する極めて有用な物
質である。従つて本発明の化合物()は医薬品
の合成中間体として極めて有用である。 以下に本発明の製造に係る実施例を掲げる。 実施例 1 N―〔2―(1―オキソ―2―プロペニル)フ
エニルチオ〕―p―トルエンスルホンアミド
(化合物番号1) S―(p―トルエンスルホニルイミノ)―2,
2―ジメチル―2,3―ジヒドロベンゾ〔b〕チ
オフエン―3―オン150mgをベンゼン6mlに溶か
し1時間還流する。ベンゼンを留去するとスルフ
エンアミド誘導体(化合物番号1)138mgが油状
物質として得られた。NMR(CDCl3)δ2.02(br.
s.3H),2.40(s.3H),5.18(br.1H NH),5.45
(br.s.1H),5.78(br.s.1H),6.9―8.0(m.8H)。 実施例 2 N―〔2―(1―オキソ―2―ブテニル)フエ
ニルチオ〕―p―トルエンスルホンアミド(化
合物番号2) S―(p―トルエンスルホニルイミノ)―2―
メチル―チオクロマン―4―オン3.0gをクロロ
ホルムに溶かしトリエチルアミン0.1mlを加え
る。室温で1時間撹拌し、クロロホルムを希塩酸
で洗い硫酸マグネシウムにて乾燥、クロロホルム
を留去し、残渣に2.5gの化合物(化合物番号
2)を得る。 融点130.6℃。 NMR(CDCl3)1.95(3H,d.CH3 J=5Hz.),
2.36(3H,s.Ts―CH3),6.23(1H,br.s.
NH),6.88―8.05(6H,m.芳香環,―CH=
CH―),7.18(2H,d.芳香環,J=8Hz.),
7.72(2H,d.芳香環,J=8Hz.) 元素分析値(%) 計算値 C58.76 H4.93 N4.03 実測値 C57.98 H4.63 N4.25 実施例 3 N―〔2―(オキソ―2―ブテニル)―4―メ
チルフエニルチオ〕―p―トルエンスルホンア
ミド(化合物番号3) S―(p―トルエンスルホニルイミノ)―2,
6―ジメチル―チオクロマン―4―オン5.3gを
250mlのアセトニトリルに溶かし、2mlのトリエ
チルアミンを加える。室温で2時間撹拌をし、ア
セトニトリルを留去、残渣をベンゼンに溶かし、
水洗、硫酸マグネシウムにて乾燥、ベンゼンを大
部分留去し析出晶を取し、化合物(化合物番号
3)を754mg得る。 融点152〜154℃。 NMR(CDCl8―DMSO―d6)δ 1.95(3H,d.
CH3,J=5Hz.),2.36(6H,s.CH3),6.25―
7.85(5H,m.芳香環,―CH=CH―),7.16
(2H,d.芳香環,J=8Hz.),7.67(2H,d.芳
香環,J=8Hz.) 元素分析値 計算値 C59.81 H5.31 N3.88 実測値 C59.73 H5.55 N4.10 実施例 4 N―〔4―クロロ―2―(1―オキソ―2―ブ
テニル)フエニルチオ〕―p―トルエンスルホ
ンアミド(化合物番号4) S―(p―トルエンスルホニルイミノ)―6―
クロロ―2―メチルチオクロマン―4―オン
200mgを30mlのジメチルスルホキシドに溶かし、
80℃で2時間加熱する。反応終了後、ジメチルス
ルホキシドの溶液を水に投入し、クロロホルム抽
出、水洗を5回行い、硫酸マグネシウムで乾燥、
クロロホルム留去、残渣をエーテルより再結晶
し、化合物(化合物番号4)を112mg得る。融点
166.5℃。 NMR(CDCl3)δ 1.95(3H,d.CH3,J=5
Hz.),2.36(3H,s.CH3),6.35(1H,m.
NH),6.88―7.98(5H,m.芳香環,―CH=
CH―),7.21(2H,d.芳香環,J=8Hz.),
7.71(2H,d.芳香環,J=8Hz.)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 〔式中R1は水素、ハロゲン又は低級アルキル
    を、R2,R3は同一又は異なつて水素又は低級ア
    ルキルを、Tsは【式】を表わ す。〕で表わされるスルフエンアミド誘導体。 2 低級アルキルがメチルである特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。
JP11537579A 1979-09-08 1979-09-08 Slufenamide derivative Granted JPS5639062A (en)

Priority Applications (1)

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JP11537579A JPS5639062A (en) 1979-09-08 1979-09-08 Slufenamide derivative

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JP11537579A JPS5639062A (en) 1979-09-08 1979-09-08 Slufenamide derivative

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5639062A JPS5639062A (en) 1981-04-14
JPS6141511B2 true JPS6141511B2 (ja) 1986-09-16

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ID=14660962

Family Applications (1)

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JP11537579A Granted JPS5639062A (en) 1979-09-08 1979-09-08 Slufenamide derivative

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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4513309A (en) * 1982-11-03 1985-04-23 Westinghouse Electric Corp. Prevention of latch-up in CMOS integrated circuits using Schottky diodes
JPS61168953A (ja) * 1985-01-22 1986-07-30 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPS61187265A (ja) * 1985-02-14 1986-08-20 Nec Corp 半導体集積回路装置
JPS61263262A (ja) * 1985-05-17 1986-11-21 Nec Corp 半導体集積回路装置

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Publication number Publication date
JPS5639062A (en) 1981-04-14

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