JPS6163685A - 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−△↑3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造方法 - Google Patents
7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−△↑3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は、抗菌活性を有する医薬として有用なセファロ
スポリン系の化学物質またはその塩およびその製造方法
に関する。
スポリン系の化学物質またはその塩およびその製造方法
に関する。
(発明の解決手段)
本発明の化合物は9次式で示される 7−[α−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−置換ヒリジニオメチルーΔ易
−セフェム−4−カルボキシレートまたはその塩類であ
る。
アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−置換ヒリジニオメチルーΔ易
−セフェム−4−カルボキシレートまたはその塩類であ
る。
(上記式中+ RIおよびR2は低級アルキル基を意
味する。以上同じ。) また2本発明の製造方法は、一般式 (式中、Xはハロゲン原子を意味する。以下同じ。) で示される 7−アミノ−3−ハロゲノメチル−Δ3−
セフェムー4−カルボン酸に一般式(式中、R1は低級
アルキル基を意味する。以下同じ。) で示されるN、O−ビス(トリ低級アルキルシリル)ト
リフルオロアセトアミドおよび式 (式中、R2は低級アルキル基を、また、R4は水素原
子またはアミノ基の保護基を意味する。) で示されるジ置換ピリジンを反応させ2反応生成物に一
般式 で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸またはその
反応性誘導体を反応させたのち、その反応生成物から必
要により保護基を除去することを特徴とする一般式 で示される 7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミトコ−3
−置換ピリジニオメチルーΔ1−セフェム−4−カルボ
キシレートまたはその塩類の製造方法である。
味する。以上同じ。) また2本発明の製造方法は、一般式 (式中、Xはハロゲン原子を意味する。以下同じ。) で示される 7−アミノ−3−ハロゲノメチル−Δ3−
セフェムー4−カルボン酸に一般式(式中、R1は低級
アルキル基を意味する。以下同じ。) で示されるN、O−ビス(トリ低級アルキルシリル)ト
リフルオロアセトアミドおよび式 (式中、R2は低級アルキル基を、また、R4は水素原
子またはアミノ基の保護基を意味する。) で示されるジ置換ピリジンを反応させ2反応生成物に一
般式 で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸またはその
反応性誘導体を反応させたのち、その反応生成物から必
要により保護基を除去することを特徴とする一般式 で示される 7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミトコ−3
−置換ピリジニオメチルーΔ1−セフェム−4−カルボ
キシレートまたはその塩類の製造方法である。
(発明の詳細な説明)
上式の化合物において、R1およびR2が意味する低級
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、イソプロピル基、ブチル基。
ペンチル基などの炭素数1乃至5個の直鎖状または分枝
状のアルキル基である。
状のアルキル基である。
また、ピリジニオ基に置換する2つの基(アミノ基およ
びR2基)は、ピリジン環のいずれの位置に置換されて
いてもよい。
びR2基)は、ピリジン環のいずれの位置に置換されて
いてもよい。
本発明によって提供される化合物(I)は、セファロス
ポリン7核の7位の側鎖に α−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセチル基
を有し、且つ3位の側鎖にジ置換ピリジニオ基を有する
点に化学構造上の特徴を有する新しいセファロスポリン
誘導体である。
ポリン7核の7位の側鎖に α−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセチル基
を有し、且つ3位の側鎖にジ置換ピリジニオ基を有する
点に化学構造上の特徴を有する新しいセファロスポリン
誘導体である。
(化合物の効果及び利用)
本発明の化合物は9次表IK示されるようにすぐれた抗
菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性菌に属する
幾つかの重要な病原菌に対してすぐれた効力が認められ
るので2本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料
の添加剤。
菌活性を示す。殊にダラム陽性菌および陰性菌に属する
幾つかの重要な病原菌に対してすぐれた効力が認められ
るので2本発明の化合物は、医薬品、殊に抗菌剤、飼料
の添加剤。
保存剤などとして有用である。
表1 (最少発育阻止濃度、γ/mt)本発明の化合物
は、そのままあるいはその塩として需要に供される。塩
としては、薬学的に許容される非毒性の酸または塩基と
の塩である。
は、そのままあるいはその塩として需要に供される。塩
としては、薬学的に許容される非毒性の酸または塩基と
の塩である。
酸との塩としては、たとえば一般式
で示されるピリジニウム塩(ここにYoで示されるプニ
オンとしては、たとえば、ハロゲンアニオン(C1e、
Io等)、 スkrh ン酸7 ニオ7(H8O,”
。
オンとしては、たとえば、ハロゲンアニオン(C1e、
Io等)、 スkrh ン酸7 ニオ7(H8O,”
。
504ee等)等の無機アニオンおよびベンゼンスルホ
ン酸アニオン(C61(5SO3)、酢酸アニオン(C
H3COO” ) 、 フ−v ル酸テ= 、t 7
(HOOC−CH:CH2C00e))等の有機酸アニ
オンを挙げることができる)が用いられる。また、塩基
との塩としては一般式 で示されるカルボキシル基における塩(たとえばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩;アンモニウ
ム塩;またはジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩
、エタノールアミン塩、オルニチン塩、リジン塩などの
有機塩基との塩を挙げることができる。)が用いられる
。
ン酸アニオン(C61(5SO3)、酢酸アニオン(C
H3COO” ) 、 フ−v ル酸テ= 、t 7
(HOOC−CH:CH2C00e))等の有機酸アニ
オンを挙げることができる)が用いられる。また、塩基
との塩としては一般式 で示されるカルボキシル基における塩(たとえばナトリ
ウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩;アンモニウ
ム塩;またはジシクロヘキシルアミン塩、シクロヘキシ
ルアミン塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩
、エタノールアミン塩、オルニチン塩、リジン塩などの
有機塩基との塩を挙げることができる。)が用いられる
。
本発明の化合物またはその塩類は、抗菌剤として経口的
ある(・は非経口的に投与される。投与量は、症状2体
重などに応じて異なるが、成人で1日250〜3000
■であり、これを3〜4回に分けて投与する。
ある(・は非経口的に投与される。投与量は、症状2体
重などに応じて異なるが、成人で1日250〜3000
■であり、これを3〜4回に分けて投与する。
投与に適した剤形は、注射剤2錠剤、カプセル、シロッ
プなどがある。これらの剤形の調製は、製剤学上用いら
れる賦形剤、保存剤、安定剤などを添加し2通常の方法
によって行い5る。
プなどがある。これらの剤形の調製は、製剤学上用いら
れる賦形剤、保存剤、安定剤などを添加し2通常の方法
によって行い5る。
(製造方法の具体的説明)
本発明の化合物(I)は一般式
で示される 7−アミノ−4−ハロゲノメチル−Δ3−
セフェムー4−カルボン酸に一般式で示されるN、O−
ビス(トリ低級アルキルシリル)トリフルオロアセトア
ミドおよび式で示される置換ピリジンを反応させ9反応
生成物に一般式 で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸(ト)また
はその反応性誘導体を反応させたのち1反応生成物から
必要により保護基を除去することによって製造すること
ができる。
セフェムー4−カルボン酸に一般式で示されるN、O−
ビス(トリ低級アルキルシリル)トリフルオロアセトア
ミドおよび式で示される置換ピリジンを反応させ9反応
生成物に一般式 で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸(ト)また
はその反応性誘導体を反応させたのち1反応生成物から
必要により保護基を除去することによって製造すること
ができる。
この製造法を行うには、まず 7−アミノ−3−ハロケ
ノメチルーΔコーセフエム−4−カルボン酸(n)また
はその塩とN、O−ビス(トリ低級アルキルシリル)ト
リフルオロアセトアミド(m)およびジ置換ピリジン(
IV)とを、この反応に不活性な有機溶媒中で反応させ
る。ここに使用されるジ置換ピリジン(IV)における
アミン基の保護基は、ペプチド化合物の合成に通常用い
られるものであれば制限がない。それらの具体的内容は
、後述する化合物(V)におけるアミノ基の保護基R4
と同じである。
ノメチルーΔコーセフエム−4−カルボン酸(n)また
はその塩とN、O−ビス(トリ低級アルキルシリル)ト
リフルオロアセトアミド(m)およびジ置換ピリジン(
IV)とを、この反応に不活性な有機溶媒中で反応させ
る。ここに使用されるジ置換ピリジン(IV)における
アミン基の保護基は、ペプチド化合物の合成に通常用い
られるものであれば制限がない。それらの具体的内容は
、後述する化合物(V)におけるアミノ基の保護基R4
と同じである。
N、O−ヒス(トリ低級アルキルシリル)トリフルオロ
アセトアミド(III)および置換ピリジン(IV)は
、同時に化合物(II)と反応させることもできるが9
段階的に反応させることもできる。
アセトアミド(III)および置換ピリジン(IV)は
、同時に化合物(II)と反応させることもできるが9
段階的に反応させることもできる。
この反応は室温で容易に進行する。段階的に反応させる
ときは、前者の反応を室温で行い。
ときは、前者の反応を室温で行い。
後者の反応を冷却下で行う等、夫々の反応で異なる条件
を採用することができる。
を採用することができる。
この反応に不活性な有機溶媒としては、ジクロルメタン
、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等が
用いられる。
、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等が
用いられる。
こうして、シリル系の保護基を有する化合物(A)が生
成する。
成する。
COO5i(Rυ。
つぎに、化合物(A)を含む反応溶液に、置換オキシイ
ミノチアゾリル酢酸(V)またはその反応性誘導体を反
応させ9式 で示される化合物を得、この生成物から保護基を脱離さ
せることによって、目的化合物(I)を得る。
ミノチアゾリル酢酸(V)またはその反応性誘導体を反
応させ9式 で示される化合物を得、この生成物から保護基を脱離さ
せることによって、目的化合物(I)を得る。
ここに、化合物(V)におけるアミノ基の保護基R4と
しては、たとえばトリメチルシリル基などのトリ低級ア
ルキルンリル基、ホルミル基。
しては、たとえばトリメチルシリル基などのトリ低級ア
ルキルンリル基、ホルミル基。
アセチル基、プロピオニル基、 tert−ブトキシ
カルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシプロピオ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基。
カルボニル基、メトキシアセチル基、メトキシプロピオ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基。
p−ニトロベンジルオキシカルボニル基すとのアシル基
、ベンジル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基
)、 )リチル基(トリフェニルメチル基)などのア
ラルキル基などが用いられる。
、ベンジル基、ベンズヒドリル基(ジフェニルメチル基
)、 )リチル基(トリフェニルメチル基)などのア
ラルキル基などが用いられる。
化合物(A)と化合物(V)との反応は1通常溶媒中冷
却下乃至室温下で行なわれる。溶媒は反応に関与しない
ものであれば特に制限はない。
却下乃至室温下で行なわれる。溶媒は反応に関与しない
ものであれば特に制限はない。
前段の反応で使用された溶媒を用いることができるほか
1通常使用されるものとしては、ジオキサン、エーテル
、エチルメチルケトン、クロロホルム、ジクロルエタン
、酢酸エチル、キ酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられる。これら
の溶媒は適宜混合して用いることもできる。
1通常使用されるものとしては、ジオキサン、エーテル
、エチルメチルケトン、クロロホルム、ジクロルエタン
、酢酸エチル、キ酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられる。これら
の溶媒は適宜混合して用いることもできる。
化合物(V)は遊離カルボン酸の状態で使用されるほか
、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供される。カ
ルボン酸の反応性誘導体としては活性エステル、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、活性アミド、酸無水物、酸ア
ジド等が用いられる。化合物(V)を遊離のカルボン酸
の状態で使用するときは、N、!(−ジシクロへキシル
カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジイミド等
の縮合剤を使用するのが好ましい。
、カルボン酸の反応性誘導体として反応に供される。カ
ルボン酸の反応性誘導体としては活性エステル、混合酸
無水物、酸ハロゲン化物、活性アミド、酸無水物、酸ア
ジド等が用いられる。化合物(V)を遊離のカルボン酸
の状態で使用するときは、N、!(−ジシクロへキシル
カルボジイミド、N、N’−ジエチルカルボジイミド等
の縮合剤を使用するのが好ましい。
また用いられるカルボン酸の反応性誘導体の種類によっ
ては、塩基の存在下に反応させるのが9反応を円滑に進
行させる上で好ましい場合もある。かかる塩基としては
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有機
塩基が挙げられる。
ては、塩基の存在下に反応させるのが9反応を円滑に進
行させる上で好ましい場合もある。かかる塩基としては
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の無機塩基、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルアニリン、ピリジン等の有機
塩基が挙げられる。
こうして得られた生成物からの保護基の脱離は、保護基
がトリ低級アルキルシリル基であるときは、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。また、トリチル
基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用いる場合に
は酸による加水分解によって容易に行うことができる。
がトリ低級アルキルシリル基であるときは、水で処理す
ることにより容易に行うことができる。また、トリチル
基の如きアラルキル基や各種のアシル基を用いる場合に
は酸による加水分解によって容易に行うことができる。
この際用いられる酸としてはギ酸、トリフルオロ酢酸、
塩酸等が好ましい。
塩酸等が好ましい。
一般式(I)で示される本発明化合物の塩は。
たとえば上記製法において予じめ原料化合物の塩を用い
て製造することにより、あるいは上記製法により製造さ
れた遊離の化合物に当分針で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
て製造することにより、あるいは上記製法により製造さ
れた遊離の化合物に当分針で慣用されている造塩反応を
適用することにより製造することができる。
本発明化合物(I)及びその塩の単離精製は常法に従っ
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精製が用いられる。
て行なわれ、有機溶媒による抽出、結晶化、カラムクロ
マトグラフィー等による分離精製が用いられる。
実施例 1゜
、OCR。
1)7−アミノ−3−ヨードメチル−Δ3−セフェムー
4−カルボン酸680111gをジクロロメタン20m
1に懸濁すせ、N、O−ビス(トリメチルシリル)トリ
フルオロアセトアミド1.24 mlを加え室温で30
分攪拌し、透明溶液を得る。この溶液に、3−アミノ−
4−メチルピリジン[ケミカルアブストラクト63巻1
4805 e (1965)参照コ216■を加え、室
温で3時間攪拌し、トリメチルシリル 7−ドリメチル
シリルアミノー3−(3−アミノ−4−メチルピリジニ
オメチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートヨ
ージドを含む溶液を得る。
4−カルボン酸680111gをジクロロメタン20m
1に懸濁すせ、N、O−ビス(トリメチルシリル)トリ
フルオロアセトアミド1.24 mlを加え室温で30
分攪拌し、透明溶液を得る。この溶液に、3−アミノ−
4−メチルピリジン[ケミカルアブストラクト63巻1
4805 e (1965)参照コ216■を加え、室
温で3時間攪拌し、トリメチルシリル 7−ドリメチル
シリルアミノー3−(3−アミノ−4−メチルピリジニ
オメチル)−Δ3−セフェムー4−カルボキシレートヨ
ージドを含む溶液を得る。
ii) (Z)−α−(2−トリチルアミノ−4−チ
アゾリル)−α−メトキシイミノ酢酸886111gを
ジクロロンタフ20m乙に懸濁させ、−5℃に冷却し。
アゾリル)−α−メトキシイミノ酢酸886111gを
ジクロロンタフ20m乙に懸濁させ、−5℃に冷却し。
五塩化リン416 mgを加え、−5〜0℃で15分攪
拌する(A液と呼ぶ)。一方 1)で得たトリメチチル
シリル7−ドリメチルシリルアミノー3−(3−アミノ
−4−メチルピリジニオメチル)一Δ3−セフェムー4
−カルポキシレートヨーヂドを含む溶液を、−40℃に
冷却したのち、ピリジン0.8 mlを加え、これに上
記A液を加え、30分かけて−15℃まで昇温させる。
拌する(A液と呼ぶ)。一方 1)で得たトリメチチル
シリル7−ドリメチルシリルアミノー3−(3−アミノ
−4−メチルピリジニオメチル)一Δ3−セフェムー4
−カルポキシレートヨーヂドを含む溶液を、−40℃に
冷却したのち、ピリジン0.8 mlを加え、これに上
記A液を加え、30分かけて−15℃まで昇温させる。
この反応液に。
1規定塩酸5.4m4.水6.7ml、テトラヒドロフ
ラン6.7 mlを加えOoCで10分攪拌する。攪拌
後。
ラン6.7 mlを加えOoCで10分攪拌する。攪拌
後。
反応液を減圧で濃縮し、残渣に水66 mlを加え。
析出物を濾過する。
iiD ) IJフルオロ酢酸20 mlを5℃に冷
却し、攪拌しながら、11)で得た析出物を加え、さら
に水1mlを加えた後、室温で1時間攪拌する。この反
応液を減圧下に濃縮し、残渣にエタノール2 calを
加え、さらにエーテル30 mlを加えて粉末化し。
却し、攪拌しながら、11)で得た析出物を加え、さら
に水1mlを加えた後、室温で1時間攪拌する。この反
応液を減圧下に濃縮し、残渣にエタノール2 calを
加え、さらにエーテル30 mlを加えて粉末化し。
濾過して粗製物1.03 gを得る。これを水50m1
゜1規定塩酸5 mlを加えて溶解し、少量の不溶物を
濾過して除き、P液をダイヤイオンHP−200カラム
クロマトグラフィーに付し、最初水ついで水−メタノー
ルの混合化を75 : 25まで序々に変えて溶出し、
目的物を含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して(Z
)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−
メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−アミノ−4
−メチルピリジニオメチル)−Δ3−セフェムー4−カ
ルボキシレート200■を得る。
゜1規定塩酸5 mlを加えて溶解し、少量の不溶物を
濾過して除き、P液をダイヤイオンHP−200カラム
クロマトグラフィーに付し、最初水ついで水−メタノー
ルの混合化を75 : 25まで序々に変えて溶出し、
目的物を含むフラクションを濃縮し、凍結乾燥して(Z
)−7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−
メトキシイミノアセトアミド)−3−(3−アミノ−4
−メチルピリジニオメチル)−Δ3−セフェムー4−カ
ルボキシレート200■を得る。
ONMR(DMSO−d、)δppm :2.24
3 H,s、 −9CHs6.42 2
H,broad s。
3 H,s、 −9CHs6.42 2
H,broad s。
6・651H・°・ 阜8
7.14 2H,broad s。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は低級アルキル基を意味す
る。) で示される7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド]−3−
置換ピリジニオメチル−Δ^3−セフェム−4−カルボ
キシレートまたはその塩類。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xはハロゲン原子を意味する。) で示される7−アミノ−3−ハロゲノメチル−Δ^3−
セフェム−4−カルボン酸に一般式▲数式、化学式、表
等があります▼ (式中、R^3は低級アルキル基を意味する。)で示さ
れるN,O−ビス(トリ低級アルキルシリル)トリフル
オロアセトアミドおよび式▲数式、化学式、表等があり
ます▼(式中、R^2は低級アルキル基を、また、R^
4は水素原子またはアミノ基の保護基を意味する。)で
示されるジ置換ピリジンを反応させ、反応生成物に一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は低級アルキル基を、また、R^4は水
素原子またはアミノ基の保護基を意味する。) で示される置換オキシイミノチアゾリル酢酸またはその
反応性誘導体を反応させたのち、その反応生成物から必
要により保護基を除去することとを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1およびR^2は前記の意味を有する。)
で示される7−[α−(2−アミノ−4−チアゾリル)
−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド]−3−
置換ピリジニオメチル−Δ^3−セフェム−4−カルボ
キシレートまたはその塩類の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59184986A JPS6163685A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−△↑3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造方法 |
| EP85302985A EP0160546A3 (en) | 1984-04-26 | 1985-04-26 | Cephalosporin compounds, and their production, and medicaments containing them |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59184986A JPS6163685A (ja) | 1984-09-03 | 1984-09-03 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−△↑3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6163685A true JPS6163685A (ja) | 1986-04-01 |
Family
ID=16162795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59184986A Pending JPS6163685A (ja) | 1984-04-26 | 1984-09-03 | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(低級アルコキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換ピリジニオメチル−△↑3−セフエム−4−カルボキシレ−トおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6163685A (ja) |
-
1984
- 1984-09-03 JP JP59184986A patent/JPS6163685A/ja active Pending
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