JPS6165886A - 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 - Google Patents
7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体Info
- Publication number
- JPS6165886A JPS6165886A JP59186257A JP18625784A JPS6165886A JP S6165886 A JPS6165886 A JP S6165886A JP 59186257 A JP59186257 A JP 59186257A JP 18625784 A JP18625784 A JP 18625784A JP S6165886 A JPS6165886 A JP S6165886A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- methyl
- formula
- compound
- pyrrolinium
- cephem
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- HQOQSFITXGQQDM-SSDOTTSWSA-N methyl (6R)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CCS[C@@H]2CC(=O)N12 HQOQSFITXGQQDM-SSDOTTSWSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract 3
- -1 halogen ion Chemical group 0.000 claims description 24
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 18
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Substances C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 28
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 4
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl iodide Chemical compound C[Si](C)(C)I CSRZQMIRAZTJOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 3
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N Dicylcohexylcarbodiimide Chemical compound C1CCCCC1N=C=NC1CCCCC1 QOSSAOTZNIDXMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MSPCIZMDDUQPGJ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-N-(trimethylsilyl)trifluoroacetamide Chemical compound C[Si](C)(C)N(C)C(=O)C(F)(F)F MSPCIZMDDUQPGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005982 diphenylmethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OVARTBFNCCXQKS-UHFFFAOYSA-N propan-2-one;hydrate Chemical compound O.CC(C)=O OVARTBFNCCXQKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- PKPGSMOHYWOGJR-XAYXJRQQSA-N (2e)-2-methoxyimino-2-[2-(tritylamino)-1,3-thiazol-4-yl]acetic acid Chemical compound CO\N=C(\C(O)=O)C1=CSC(NC(C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=N1 PKPGSMOHYWOGJR-XAYXJRQQSA-N 0.000 description 1
- SAAMGLGCZVEVLE-LCZXQBLYSA-N (6R)-4-methyl-5,8-dioxo-5lambda4-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid Chemical compound CC1S([C@H]2N(C(=C1)C(=O)O)C(C2)=O)=O SAAMGLGCZVEVLE-LCZXQBLYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJUPKRYGDFTMTM-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxybenzotriazole;hydrate Chemical compound O.C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 PJUPKRYGDFTMTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetamide Chemical compound NC(=O)C(F)(F)F NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQQGOGMQRGFFR-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzenecarboperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ULQQGOGMQRGFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 7beta-aminocephalosporanic acid Chemical compound S1CC(COC(=O)C)=C(C([O-])=O)N2C(=O)[C@@H]([NH3+])[C@@H]12 HSHGZXNAXBPPDL-HZGVNTEJSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- 108090000204 Dipeptidase 1 Proteins 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M Lactate Chemical compound CC(O)C([O-])=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- FXTTXRHGRZVUAG-UHFFFAOYSA-N P.Cl.Cl.Cl.Cl.Cl Chemical compound P.Cl.Cl.Cl.Cl.Cl FXTTXRHGRZVUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940024606 amino acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940009098 aspartate Drugs 0.000 description 1
- 125000001584 benzyloxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC1=CC=CC=C1)* 0.000 description 1
- 102000006635 beta-lactamase Human genes 0.000 description 1
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 1
- 125000006244 carboxylic acid protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001782 cephems Chemical group 0.000 description 1
- 125000002668 chloroacetyl group Chemical group ClCC(=O)* 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229930195712 glutamate Natural products 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N hydroxybenzotriazole Substances O=C1C=CC=C2NNN=C12 NPZTUJOABDZTLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- YMARZXXLIVEHAS-XCUBXKJBSA-N methyl (6R)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylate dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.COC(=O)C1=CCS[C@H]2N1C(C2)=O YMARZXXLIVEHAS-XCUBXKJBSA-N 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical compound [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006503 p-nitrobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1[N+]([O-])=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N phenylmethyl ester of formic acid Natural products O=COCC1=CC=CC=C1 UYWQUFXKFGHYNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
本発明は抗菌剤の中間体として有用な新規化合物に関す
るものである。
るものである。
特開昭58−174387号公報には、セフェム骨格の
3位に(ピロリジニウム)メチル基を有する化合物が優
れた抗菌活性を有することが知られている。
3位に(ピロリジニウム)メチル基を有する化合物が優
れた抗菌活性を有することが知られている。
本発明者等は、この(ピロリジニウム)メチル基の不飽
和体である(ピロリニウム)メチル基を3位に有する化
合物がより優れた抗菌活性を有することを見い出した。
和体である(ピロリニウム)メチル基を3位に有する化
合物がより優れた抗菌活性を有することを見い出した。
本発明化合物はその中間体であり、7位のアミノ基に種
々の基を導入することにより、優れた抗菌剤を製造する
ことができる。
々の基を導入することにより、優れた抗菌剤を製造する
ことができる。
したがって9本発明の目的は、抗菌剤の中間体として有
用な新規化合物、その製造方法を提供することにある。
用な新規化合物、その製造方法を提供することにある。
本発明の目的化合物は次のとおり示される。
一般式
〔式中、0は0またはl、’R,は水素原子または保護
基、R2は低級炭化水素基、Xは陰イオン、R1が−C
oo (7)ときはmは0.R5が−COOR4(R
,は水素原子または保護基)のときはmは1を示す〕で
表わされる7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−
3−セフェム誘導体およびその塩上記一般式CI]のR
2の低級炭化水素基としては、メチル、エチル、n−プ
ロピル、i、−プロピル。
基、R2は低級炭化水素基、Xは陰イオン、R1が−C
oo (7)ときはmは0.R5が−COOR4(R
,は水素原子または保護基)のときはmは1を示す〕で
表わされる7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−
3−セフェム誘導体およびその塩上記一般式CI]のR
2の低級炭化水素基としては、メチル、エチル、n−プ
ロピル、i、−プロピル。
n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルなどの低級アルキ
ル基、ビニル、アリールなどの低級アルケニ1し
ニ1V−基、
プロパルギルなどの低級アルキを基などがあげられる。
ル基、ビニル、アリールなどの低級アルケニ1し
ニ1V−基、
プロパルギルなどの低級アルキを基などがあげられる。
Xの陰イオンとしては、クロルイオン、ブロムイオン、
ヨードイオンなどのハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸
イオンなどの無機酸イオンなどがあげられる。
ヨードイオンなどのハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸
イオンなどの無機酸イオンなどがあげられる。
R7の保護基としては1通常のアミン基の保護基があげ
られる。例えばホルミル、アセチル、クロルアセチル、
ジクロルアセチル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、フェニルアセチル、フェノキシアセ
チル、2−チェニルアセチル、2−フリルアセチル、ト
リチル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル、ト
リメチルシリル、t−ブチルジメチルシリルなどがあげ
ら′れる。
られる。例えばホルミル、アセチル、クロルアセチル、
ジクロルアセチル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、フェニルアセチル、フェノキシアセ
チル、2−チェニルアセチル、2−フリルアセチル、ト
リチル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル、ト
リメチルシリル、t−ブチルジメチルシリルなどがあげ
ら′れる。
R4の保護基としては9通常のカルボン酸の保護基があ
げられる。例えば、p−メトキシベンジル。
げられる。例えば、p−メトキシベンジル。
p−ニトロベンジル、t−7’チル、メチル、2,2゜
2−トリクロロエチル、ジフェニルメチル、ピバロイル
オキシメチル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリルなどがあげられる。
2−トリクロロエチル、ジフェニルメチル、ピバロイル
オキシメチル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリルなどがあげられる。
一般式CI)の化合物の塩としては、塩酸塩。
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩。
重炭酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、マレイン酸塩。
乳酸塩、酒石酸塩、トリフルオロ酢酸塩などの有機カル
ボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホンi[
、)ルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩;アスパ
ラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸塩などがあげ
られる。
ボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホンi[
、)ルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩;アスパ
ラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸塩などがあげ
られる。
本発明化合物は次に示す方法により製造することができ
る。
る。
製造方法A
一般式
〔式中、R,、nおよびR4は前記の定義に同じ〕で表
わされる化合物またはその塩に一般式〔式中、R7は前
記の定義1こ同じ〕で表わされる化合物またはその塩を
反応させ、必要により保護基を脱離あるいはスルホキシ
ドを還元して前記一般式CI〕の化合物またはその塩を
得る。
わされる化合物またはその塩に一般式〔式中、R7は前
記の定義1こ同じ〕で表わされる化合物またはその塩を
反応させ、必要により保護基を脱離あるいはスルホキシ
ドを還元して前記一般式CI〕の化合物またはその塩を
得る。
上記反応は、アセトン、テトラハイドロフラン。
N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロルメタン。
クロロホルム、アセトニトリルなどの不活性溶媒中9反
応温度−10°C〜50°Cで行なうことができる。
応温度−10°C〜50°Cで行なうことができる。
製造方法B
一般式
〔式中、R,、nおよびR4は前記の定義に同じ〕で表
わされる化合物またはその塩に一般式〔1旧で表わされ
る化合物またはその塩を反応させ、必要により保護基を
脱離あるいはスルホキシドを還元して前記一般式(I)
の化合物またはその塩を得る。
わされる化合物またはその塩に一般式〔1旧で表わされ
る化合物またはその塩を反応させ、必要により保護基を
脱離あるいはスルホキシドを還元して前記一般式(I)
の化合物またはその塩を得る。
上記反応は、ヨード)+7メチルシランの存在下クロロ
ホルム、ジクロルメタン、テトラハイドロフラン、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、アセトンなど
の無水の有機溶媒中9反応温度−20°C〜50°Cで
行なうことができる。
ホルム、ジクロルメタン、テトラハイドロフラン、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、アセトンなど
の無水の有機溶媒中9反応温度−20°C〜50°Cで
行なうことができる。
本発明化合物を原料として用い、その7位のアミノ基へ
公知の方法で種々の基を導入することにより、優れた抗
菌活性を有する化合物を得ることができる。
公知の方法で種々の基を導入することにより、優れた抗
菌活性を有する化合物を得ることができる。
次に実施例を示し9本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1
7β−トリチルアミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 7β−トリチルアミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸600 R9ヲジクロルメタン
6dに溶解し、N−メチル−N−(トリメチルシリル)
トリフルオロアセトアミド2404を加えて30分間撹
拌した。水冷後、ヨード)IJメチルシラン180μl
を加え、15分間撹拌後、室温にもどし、さらに15分
間撹拌した。溶媒を減圧留去した。残渣をアセトニトリ
ル5mlに溶解し、水冷下、N−メチル−3−ピロリン
116M9を加えて50分間撹拌し、さらに室温で1時
間撹拌した。反応液にメタノールQ、8mlを加え、生
じた沈殿をP去した。P液にエチルエーテル5Qmlを
加え生じた沈殿をP取した。この沈殿をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィー〔展開溶媒:アセトン−水(7
:1)および(5:1)]で精製して目的物87 Mg
を得た。
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 7β−トリチルアミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸600 R9ヲジクロルメタン
6dに溶解し、N−メチル−N−(トリメチルシリル)
トリフルオロアセトアミド2404を加えて30分間撹
拌した。水冷後、ヨード)IJメチルシラン180μl
を加え、15分間撹拌後、室温にもどし、さらに15分
間撹拌した。溶媒を減圧留去した。残渣をアセトニトリ
ル5mlに溶解し、水冷下、N−メチル−3−ピロリン
116M9を加えて50分間撹拌し、さらに室温で1時
間撹拌した。反応液にメタノールQ、8mlを加え、生
じた沈殿をP去した。P液にエチルエーテル5Qmlを
加え生じた沈殿をP取した。この沈殿をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィー〔展開溶媒:アセトン−水(7
:1)および(5:1)]で精製して目的物87 Mg
を得た。
実施例2
7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例1で得られた化合物80 R9を5096451
酸4Mに懸濁し、室温で2時間撹拌した。これに水10
Mを加えて不溶物をP去し、P液を減圧濃縮した。
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例1で得られた化合物80 R9を5096451
酸4Mに懸濁し、室温で2時間撹拌した。これに水10
Mを加えて不溶物をP去し、P液を減圧濃縮した。
残渣をIN塩酸5Mに溶解し、これにイソプロパツール
15m1. xチルエーテル70rnlおよびn−ヘキ
サン15dを加えた。析出した結晶をP取し、 n
−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物25 R9を得た
。
15m1. xチルエーテル70rnlおよびn−ヘキ
サン15dを加えた。析出した結晶をP取し、 n
−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物25 R9を得た
。
実施例3
7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−(1−メチ
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト 0O− 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸3.96 gを
ジクロルメタン7Qmlに懸濁し、N−メチル−N−(
トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド2.40
mgを加え、30分間撹拌した。水冷後。
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト 0O− 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸3.96 gを
ジクロルメタン7Qmlに懸濁し、N−メチル−N−(
トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド2.40
mgを加え、30分間撹拌した。水冷後。
ヨードトリメチルシラン1.85 mlを加えて5分間
撹拌後、さらに室温で15分間撹拌した。溶液を減圧濃
縮し、残渣をアセトニトリル5Qmlに溶解した。
撹拌後、さらに室温で15分間撹拌した。溶液を減圧濃
縮し、残渣をアセトニトリル5Qmlに溶解した。
氷り後、N−メチル−3−ピロリン873III9のア
セトニトリルlQml溶液を加え、2時間撹拌した。反
応液にメタノール5mlとアセトニトリル10m1の混
液を滴下した。この溶液を1時間撹拌した後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔
展開溶媒ニアセトニトリル−水(4:1)〕で精製して
目的物1.OIを得た。
セトニトリルlQml溶液を加え、2時間撹拌した。反
応液にメタノール5mlとアセトニトリル10m1の混
液を滴下した。この溶液を1時間撹拌した後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔
展開溶媒ニアセトニトリル−水(4:1)〕で精製して
目的物1.OIを得た。
実施例4
7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例3で得られた化合物1001gをジクロルメタン
5mlに溶解し、N、N−ジメチルアニリン9011お
よびクロロトリメチルシラン91μlを加えた。
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例3で得られた化合物1001gをジクロルメタン
5mlに溶解し、N、N−ジメチルアニリン9011お
よびクロロトリメチルシラン91μlを加えた。
35゛Cで1時間15分間撹拌した後、−25°Cに冷
却した。同温度でN、N−ジメチルアニリン150μm
ついで五塩リン248璧のジクロルメタン2.5 ml
溶液を加え、1時間撹拌した。これに1,3−ブタンジ
オール256μノのジクロルメタン0.5 d溶液を加
えた。
却した。同温度でN、N−ジメチルアニリン150μm
ついで五塩リン248璧のジクロルメタン2.5 ml
溶液を加え、1時間撹拌した。これに1,3−ブタンジ
オール256μノのジクロルメタン0.5 d溶液を加
えた。
反応液を0℃まで加温し、沈殿をr取した。沈殿をメタ
ノール2罰に溶解し、溶解液にジクロルメタン1(ln
Jおよび工°チルエーテル15IILtを加えた。析出
した結晶を沢取し、ジクロルメタンで洗浄した後、乾燥
して目的物65fi9を得た。
ノール2罰に溶解し、溶解液にジクロルメタン1(ln
Jおよび工°チルエーテル15IILtを加えた。析出
した結晶を沢取し、ジクロルメタンで洗浄した後、乾燥
して目的物65fi9を得た。
実施例5
7β−アミノ−3−(ニーメチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 1−オ
キシド ジ塩酸塩 a) 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
ジ塩酸塩および7−アミノ−3−(1−メチル−3−
ピロリニウムラメチル−2−セフェム−4−カルボキシ
レイトジ塩酸塩の混合物 7β−アミノセファロスポラン酸2.21をジクロルメ
タン4Q mlに懸濁し、これにN−メチル−N−(ト
リメチルシリル)トリフルオロアセトアミド3.3 m
lを加えて20分間撹拌した。得られた溶液にヨードト
リメチルシラン1.26 dを加え、15分間撹拌した
。溶液を減圧濃縮した。残渣をアセトニトリル20Mに
溶解し、N−メチル−3−ビロリン806 Qを加えて
1時間撹拌した。反応液にメタノール4.5 rrdl
を加え、生じた沈殿をP取した。沈殿をアンバーライト
XAD−4(商標、ロームアンドハース社、スチレン−
ジビニルベンゼンの共重合体)のカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:水)で精製し、目的とする溶出画分を
集めて減圧濃縮した。残渣をIN塩酸5mgに溶解し、
インプロパツール15m1およびエチルエーテル8Q
mlを加えて、析出する結晶をP取し、目的物85■(
〆、パ はぼ1:1の混合物)を得た。
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 1−オ
キシド ジ塩酸塩 a) 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
ジ塩酸塩および7−アミノ−3−(1−メチル−3−
ピロリニウムラメチル−2−セフェム−4−カルボキシ
レイトジ塩酸塩の混合物 7β−アミノセファロスポラン酸2.21をジクロルメ
タン4Q mlに懸濁し、これにN−メチル−N−(ト
リメチルシリル)トリフルオロアセトアミド3.3 m
lを加えて20分間撹拌した。得られた溶液にヨードト
リメチルシラン1.26 dを加え、15分間撹拌した
。溶液を減圧濃縮した。残渣をアセトニトリル20Mに
溶解し、N−メチル−3−ビロリン806 Qを加えて
1時間撹拌した。反応液にメタノール4.5 rrdl
を加え、生じた沈殿をP取した。沈殿をアンバーライト
XAD−4(商標、ロームアンドハース社、スチレン−
ジビニルベンゼンの共重合体)のカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:水)で精製し、目的とする溶出画分を
集めて減圧濃縮した。残渣をIN塩酸5mgに溶解し、
インプロパツール15m1およびエチルエーテル8Q
mlを加えて、析出する結晶をP取し、目的物85■(
〆、パ はぼ1:1の混合物)を得た。
b) 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
1−オキシド ジ塩酸塩上記a)で得た化合物(混合
物)IOJIIi+を水3mlに溶解し、氷冷下2m−
クロロ過安息香酸6■のジクロルメタン3d溶液を加え
、同温度で4時間撹拌した。反応液より水層を分離し、
ジクロルメタンで洗浄後、凍結乾燥した。これをアンバ
ーライトXAD−4のカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:水)で精製し、目的物7〜を得た。
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
1−オキシド ジ塩酸塩上記a)で得た化合物(混合
物)IOJIIi+を水3mlに溶解し、氷冷下2m−
クロロ過安息香酸6■のジクロルメタン3d溶液を加え
、同温度で4時間撹拌した。反応液より水層を分離し、
ジクロルメタンで洗浄後、凍結乾燥した。これをアンバ
ーライトXAD−4のカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:水)で精製し、目的物7〜を得た。
実施例6
t−ブチル 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピ
ロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
イト 1−オキシド ブロマイドt−ブチル 7β−ア
ミノ−3−ブロムメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 1−オキシド 臭化水素酸塩67011(J
をN、N−ジメチルホルムアミド10mに溶解し、N−
メチル−3−ピロリン275189を加え、アルゴンガ
ス気流中、24時間撹拌した。反応液にエチルエーテル
100Mを加九遊離した油を分取した。これをn−へキ
サンで洗浄し、目的物608 jI9を得た。
ロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
イト 1−オキシド ブロマイドt−ブチル 7β−ア
ミノ−3−ブロムメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 1−オキシド 臭化水素酸塩67011(J
をN、N−ジメチルホルムアミド10mに溶解し、N−
メチル−3−ピロリン275189を加え、アルゴンガ
ス気流中、24時間撹拌した。反応液にエチルエーテル
100Mを加九遊離した油を分取した。これをn−へキ
サンで洗浄し、目的物608 jI9を得た。
実施例7
7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 実施例6で得られた化合物6001IIgをN、N−ジ
メチルホルムアミド5mlに溶解し、−25℃で三塩化
リン670dを加え、 30分間撹拌した。反応液に工
チルエーテル5Qmlを加え、遊離した油を分取し。
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 実施例6で得られた化合物6001IIgをN、N−ジ
メチルホルムアミド5mlに溶解し、−25℃で三塩化
リン670dを加え、 30分間撹拌した。反応液に工
チルエーテル5Qmlを加え、遊離した油を分取し。
エチルエーテ3−IQmJで洗浄した。
この油状物質に、水冷下、蟻酸5 m、lおよび濃塩酸
0.5 mlを加え、3時間撹拌した後、減圧下に濃縮
した。残渣を氷水10m1に溶解し2重炭酸ナトリウム
で中和した。これをアンバーライトXAD−4のカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:水)で精製して目的物
102 mgを得た。
0.5 mlを加え、3時間撹拌した後、減圧下に濃縮
した。残渣を氷水10m1に溶解し2重炭酸ナトリウム
で中和した。これをアンバーライトXAD−4のカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:水)で精製して目的物
102 mgを得た。
次に本発明化合物を中間体として用いた。抗菌剤の製造
にかかわる実験例およびその抗菌力を示す。
にかかわる実験例およびその抗菌力を示す。
実験例1
7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール・−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1
−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−
4−カルボキシレイトa) t−ブチル 7β−[(
Z) −2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イ
ル’)−2−メトキシイミノアセトアミド、]−3−(
1−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレイト 1−オキシド ブロマイド 実施例6で得られた化合物397y+9. (z)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)酢酸397m9. 1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール−水和物130 tr9をN、N−ジメ
チルホルムアミド10m1に溶解し、N、N−ジシクロ
へキシルカルボジイミド166myを加え、3時間撹拌
した。反応液より沈殿をf去した後、エチルエーテル5
Qi7を加えた。遊離した油をエチルエーテルで洗浄し
て目的物を得た。
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1
−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−
4−カルボキシレイトa) t−ブチル 7β−[(
Z) −2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イ
ル’)−2−メトキシイミノアセトアミド、]−3−(
1−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレイト 1−オキシド ブロマイド 実施例6で得られた化合物397y+9. (z)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)酢酸397m9. 1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール−水和物130 tr9をN、N−ジメ
チルホルムアミド10m1に溶解し、N、N−ジシクロ
へキシルカルボジイミド166myを加え、3時間撹拌
した。反応液より沈殿をf去した後、エチルエーテル5
Qi7を加えた。遊離した油をエチルエーテルで洗浄し
て目的物を得た。
赤外線吸収スペクト)v (crrt−’、 )G3r
) :1780、 1020 島伝スペクトル(δ、 CD30D) :1.59(9
H,s) 、 3.23 (3H,s) 、 3.98
(3H,s) 。
) :1780、 1020 島伝スペクトル(δ、 CD30D) :1.59(9
H,s) 、 3.23 (3H,s) 、 3.98
(3H,s) 。
4.0〜5.0 (m) 、 5.07 (IH,d、
J=6)Lt) 、 5.98 (IH,d。
J=6)Lt) 、 5.98 (IH,d。
J=6七)、 6.02(2H,s)、 6.84(I
H,s)、7.32(15H,5)b) 7β−C(
Zl−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−メチル−3
−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 上記a)で得た化合物全量をN、N−ジメチルホルムア
ミド5Mに溶解し、−75℃で三塩化リン360 It
lを加えて30分間撹拌した。反応液にクロロホルム2
Qmlと飽和食塩水5mlを加えて撹拌した。
H,s)、7.32(15H,5)b) 7β−C(
Zl−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−メチル−3
−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 上記a)で得た化合物全量をN、N−ジメチルホルムア
ミド5Mに溶解し、−75℃で三塩化リン360 It
lを加えて30分間撹拌した。反応液にクロロホルム2
Qmlと飽和食塩水5mlを加えて撹拌した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す) +7ウム
で乾燥後、減圧下に濃縮し、t−ブチル 7β−C(Z
)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト ブロマイドを得た。
で乾燥後、減圧下に濃縮し、t−ブチル 7β−C(Z
)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト ブロマイドを得た。
この化合物、蟻酸4ml、濃塩酸0.41nlを室温で
2時間撹拌した。反応液にアセトンIOQ dを加え。
2時間撹拌した。反応液にアセトンIOQ dを加え。
生じた沈殿を1取した。この沈殿に3096工タノール
lQmを加えて不溶物を沢去し、P液を減圧下に濃縮し
た。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔展
開溶媒;アセトン−水(7:1)。
lQmを加えて不溶物を沢去し、P液を減圧下に濃縮し
た。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔展
開溶媒;アセトン−水(7:1)。
(5:1):]で精製して目的物12■を得た。
赤外線吸収スペクトル(crrt−’ 、ヌジョール)
:177 O NMRスペクトル(δ、 D、O) :3.28(3H
,s) 、 4.09(3H,s) 、 5.46(I
H,d、 J=5Hz) 。
:177 O NMRスペクトル(δ、 D、O) :3.28(3H
,s) 、 4.09(3H,s) 、 5.46(I
H,d、 J=5Hz) 。
5.99(IH,d、J=5Hz)、 6.08(2H
,s)、 7.11(IH,s)実験例2 7β−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−
メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレイト 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)
−メトキシイミノ酢酸1cy、1−ヒドロキシIH−ベ
ンゾ)!J7ゾー/L/水和物f3m9. N、N’−
ジシクロへキシルカルボジイミド124gおよびN、N
−ジメチルホルムアミドQ、 5 mlを室温で3時間
撹拌した。不溶物をP去し、P液を0°Cに冷却し。
,s)、 7.11(IH,s)実験例2 7β−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−
メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレイト 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)
−メトキシイミノ酢酸1cy、1−ヒドロキシIH−ベ
ンゾ)!J7ゾー/L/水和物f3m9. N、N’−
ジシクロへキシルカルボジイミド124gおよびN、N
−ジメチルホルムアミドQ、 5 mlを室温で3時間
撹拌した。不溶物をP去し、P液を0°Cに冷却し。
実施例4で得られた化合物2(Cy、 N、N−ジメチ
ルホルムアミド1mlおよびN、N−ジメチルアニリン
17μlの水冷溶液中にP液を加えた。室温で19時間
撹拌した後2反応液をr過した。P液に、撹拌エエチル
エーテル15mgを滴下した。析出した結晶を1取し、
水5mlを加えた。不、博物を1去し、P液を凍結乾燥
して目的物10!9を得た。得られた化合物の赤外線吸
収スペクトル、NMRスペクトルは実験例1の化合物の
それと一致した。
ルホルムアミド1mlおよびN、N−ジメチルアニリン
17μlの水冷溶液中にP液を加えた。室温で19時間
撹拌した後2反応液をr過した。P液に、撹拌エエチル
エーテル15mgを滴下した。析出した結晶を1取し、
水5mlを加えた。不、博物を1去し、P液を凍結乾燥
して目的物10!9を得た。得られた化合物の赤外線吸
収スペクトル、NMRスペクトルは実験例1の化合物の
それと一致した。
* β−ラクタマーゼ産生菌
**7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(
1−メチル−1−ピロリジニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレイト
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(
1−メチル−1−ピロリジニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレイト
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
基、R_2は低級炭化水素基、Xは陰イオン、R_3が
−COO^−のときはmは0、R_3が−COOR_4
(R_4は水素原子または保護基)のときはmは1を示
す〕で表わされる7−アミノ−3−(ピロリニウム)メ
チル−3−セフェム誘導体およびその塩 2)R_1が水素原子、トリチル基、2−チエニルアセ
チル基である特許請求の範囲第一項記載の化合物 3)R_2が低級アルキル基である特許請求の範囲第一
項記載の化合物 4)Xがハロゲンイオンである特許請求の範囲第一項記
載の化合物 5)7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイトおよ
びその塩である特許請求の範囲第一項記載の化合物 6)7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウ
ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト1−
オキシドおよびその塩である特許請求の範囲第一項記載
の化合物 7)7β−(2−チエニルアセトアミド)−3−(1−
メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレイトおよびその塩である特許請求の範囲
第一項記載の化合物 8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
基、R_4は水素原子または保護基を示す〕で表わされ
る化合物またはその塩に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は低級炭化水素基を示す〕で表わされる
化合物またはその塩を反応させ、必要により保護基を脱
離あるいはスルホキシドを還元することを特徴とする一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、nは前記の定義に同じ、R_
3が−COO^−のときはmは0、R_3が−COOR
_4(R_4は前記の定義に同じ)のときはmは1を示
す〕で表わされる化合物およびその塩の製造方法 9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
基、R_4は水素原子または保護基を示す〕で表わされ
る化合物またはその塩に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は低級炭化水素基を示す〕で表わされる
化合物を反応させ、必要により保護基を脱離あるいはス
ルホキシドを還元することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、nは前記の定義に同じ、R_
3が−COO^−のときはmは0、R_3が−COOR
_4(R_4は前記の定義に同じ)のときはmは1を示
す〕で表わされる化合物およびその塩の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186257A JPS6165886A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59186257A JPS6165886A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6165886A true JPS6165886A (ja) | 1986-04-04 |
Family
ID=16185104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59186257A Pending JPS6165886A (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6165886A (ja) |
-
1984
- 1984-09-07 JP JP59186257A patent/JPS6165886A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0250914B2 (ja) | ||
| JPS5989689A (ja) | 7−置換−3−ビニル−3−セフエム化合物、その製法およびそれを含有する抗菌剤 | |
| HU195664B (en) | Process for producing cepheme derivatives and pharmaceutical compositions containing them | |
| JPS61249989A (ja) | 7−アミノ−3−プロペニルセフアロスポラン酸及びそのエステル | |
| JPH02790A (ja) | 7―[2―(2―アミノチアゾール―4―イル)―2―ヒドロキシイミノアセトアミド]―3―セフェム化合物の製造法 | |
| JP2533711B2 (ja) | 新規なセファロスポリン化合物およびその製法 | |
| JP3115455B2 (ja) | 新規セファロスポリン誘導体 | |
| JPS6165886A (ja) | 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 | |
| JPS60197693A (ja) | 3−(キヌクリジニウム)メチル−3−セフエム誘導体 | |
| JPS6219593A (ja) | 新規セフエム化合物 | |
| JPS6165888A (ja) | 3−(デヒドロキヌクリジニウム)メチル−3−セフエム誘導体 | |
| JPS6351389A (ja) | セフアロスポリン誘導体、その製造法及び抗菌活性組成物 | |
| JP2904810B2 (ja) | 7―チアゾリルアセトアミド―3―プロペニルセフェム誘導体 | |
| JP2605096B2 (ja) | セフェム誘導体 | |
| JPH0633286B2 (ja) | セフエム誘導体 | |
| RU2010796C1 (ru) | Способ получения производных 3-пропенилцефема или их фармакологически приемлемых солей | |
| JPS6230786A (ja) | 3−(キヌクリジニオ)メチル−3−セフエム誘導体 | |
| JPH0576480B2 (ja) | ||
| JPS61137890A (ja) | 7−チアジアゾリルアセトアミドセフエム誘導体 | |
| JPS60188389A (ja) | 7−〔α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(チオカルバモイルメトキシイミノ)アセトアミド〕−3−置換メチル−Δ↑3−セフエム−4−カルボン酸 | |
| JPS60197692A (ja) | 7−アミノチアゾリルアセトアミドセフエム誘導体 | |
| JPH06211872A (ja) | 新規なセファロスポリン化合物 | |
| JPS62228084A (ja) | セフアロスポリン誘導体 | |
| JPS6388187A (ja) | 3−アンモニオプロペニルセフエム誘導体 | |
| JPS624290A (ja) | 新規なセフアロスポリン類およびその塩 |