JPS6165886A - 7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体 - Google Patents

7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−3−セフエム誘導体

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JPS6165886A
JPS6165886A JP59186257A JP18625784A JPS6165886A JP S6165886 A JPS6165886 A JP S6165886A JP 59186257 A JP59186257 A JP 59186257A JP 18625784 A JP18625784 A JP 18625784A JP S6165886 A JPS6165886 A JP S6165886A
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JP
Japan
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methyl
formula
compound
pyrrolinium
cephem
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Application number
JP59186257A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Yamauchi
博 山内
Isao Sugiyama
功 杉山
Isao Saito
勲 斉藤
Seiichiro Nomoto
野本 誠一郎
Taku Kamiya
卓 神谷
Yoshimasa Machida
町田 善正
Shigeto Negi
茂人 根木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eisai Co Ltd
Original Assignee
Eisai Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Cephalosporin Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は抗菌剤の中間体として有用な新規化合物に関す
るものである。
特開昭58−174387号公報には、セフェム骨格の
3位に(ピロリジニウム)メチル基を有する化合物が優
れた抗菌活性を有することが知られている。
本発明者等は、この(ピロリジニウム)メチル基の不飽
和体である(ピロリニウム)メチル基を3位に有する化
合物がより優れた抗菌活性を有することを見い出した。
本発明化合物はその中間体であり、7位のアミノ基に種
々の基を導入することにより、優れた抗菌剤を製造する
ことができる。
したがって9本発明の目的は、抗菌剤の中間体として有
用な新規化合物、その製造方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明の目的化合物は次のとおり示される。
一般式 〔式中、0は0またはl、’R,は水素原子または保護
基、R2は低級炭化水素基、Xは陰イオン、R1が−C
oo  (7)ときはmは0.R5が−COOR4(R
,は水素原子または保護基)のときはmは1を示す〕で
表わされる7−アミノ−3−(ピロリニウム)メチル−
3−セフェム誘導体およびその塩上記一般式CI]のR
2の低級炭化水素基としては、メチル、エチル、n−プ
ロピル、i、−プロピル。
n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルなどの低級アルキ
ル基、ビニル、アリールなどの低級アルケニ1し   
                   ニ1V−基、
プロパルギルなどの低級アルキを基などがあげられる。
Xの陰イオンとしては、クロルイオン、ブロムイオン、
ヨードイオンなどのハロゲンイオン、硫酸イオン、硝酸
イオンなどの無機酸イオンなどがあげられる。
R7の保護基としては1通常のアミン基の保護基があげ
られる。例えばホルミル、アセチル、クロルアセチル、
ジクロルアセチル、t−ブトキシカルボニル、ベンジル
オキシカルボニル、フェニルアセチル、フェノキシアセ
チル、2−チェニルアセチル、2−フリルアセチル、ト
リチル、p−メトキシベンジル、ジフェニルメチル、ト
リメチルシリル、t−ブチルジメチルシリルなどがあげ
ら′れる。
R4の保護基としては9通常のカルボン酸の保護基があ
げられる。例えば、p−メトキシベンジル。
p−ニトロベンジル、t−7’チル、メチル、2,2゜
2−トリクロロエチル、ジフェニルメチル、ピバロイル
オキシメチル、トリメチルシリル、t−ブチルジメチル
シリルなどがあげられる。
一般式CI)の化合物の塩としては、塩酸塩。
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、硫酸塩、炭酸塩。
重炭酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、マレイン酸塩。
乳酸塩、酒石酸塩、トリフルオロ酢酸塩などの有機カル
ボン酸塩;メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホンi[
、)ルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩;アスパ
ラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミノ酸塩などがあげ
られる。
本発明化合物は次に示す方法により製造することができ
る。
製造方法A 一般式 〔式中、R,、nおよびR4は前記の定義に同じ〕で表
わされる化合物またはその塩に一般式〔式中、R7は前
記の定義1こ同じ〕で表わされる化合物またはその塩を
反応させ、必要により保護基を脱離あるいはスルホキシ
ドを還元して前記一般式CI〕の化合物またはその塩を
得る。
上記反応は、アセトン、テトラハイドロフラン。
N、N−ジメチルホルムアミド、ジクロルメタン。
クロロホルム、アセトニトリルなどの不活性溶媒中9反
応温度−10°C〜50°Cで行なうことができる。
製造方法B 一般式 〔式中、R,、nおよびR4は前記の定義に同じ〕で表
わされる化合物またはその塩に一般式〔1旧で表わされ
る化合物またはその塩を反応させ、必要により保護基を
脱離あるいはスルホキシドを還元して前記一般式(I)
の化合物またはその塩を得る。
上記反応は、ヨード)+7メチルシランの存在下クロロ
ホルム、ジクロルメタン、テトラハイドロフラン、N、
N−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、アセトンなど
の無水の有機溶媒中9反応温度−20°C〜50°Cで
行なうことができる。
本発明化合物を原料として用い、その7位のアミノ基へ
公知の方法で種々の基を導入することにより、優れた抗
菌活性を有する化合物を得ることができる。
次に実施例を示し9本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1 7β−トリチルアミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 7β−トリチルアミノ−3−アセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸600 R9ヲジクロルメタン
6dに溶解し、N−メチル−N−(トリメチルシリル)
トリフルオロアセトアミド2404を加えて30分間撹
拌した。水冷後、ヨード)IJメチルシラン180μl
を加え、15分間撹拌後、室温にもどし、さらに15分
間撹拌した。溶媒を減圧留去した。残渣をアセトニトリ
ル5mlに溶解し、水冷下、N−メチル−3−ピロリン
116M9を加えて50分間撹拌し、さらに室温で1時
間撹拌した。反応液にメタノールQ、8mlを加え、生
じた沈殿をP去した。P液にエチルエーテル5Qmlを
加え生じた沈殿をP取した。この沈殿をシリカゲルのカ
ラムクロマトグラフィー〔展開溶媒:アセトン−水(7
:1)および(5:1)]で精製して目的物87 Mg
を得た。
実施例2 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例1で得られた化合物80 R9を5096451
酸4Mに懸濁し、室温で2時間撹拌した。これに水10
Mを加えて不溶物をP去し、P液を減圧濃縮した。
残渣をIN塩酸5Mに溶解し、これにイソプロパツール
15m1. xチルエーテル70rnlおよびn−ヘキ
サン15dを加えた。析出した結晶をP取し、  n 
−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物25 R9を得た
実施例3 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−(1−メチ
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト 0O− 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸3.96 gを
ジクロルメタン7Qmlに懸濁し、N−メチル−N−(
トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミド2.40
mgを加え、30分間撹拌した。水冷後。
ヨードトリメチルシラン1.85 mlを加えて5分間
撹拌後、さらに室温で15分間撹拌した。溶液を減圧濃
縮し、残渣をアセトニトリル5Qmlに溶解した。
氷り後、N−メチル−3−ピロリン873III9のア
セトニトリルlQml溶液を加え、2時間撹拌した。反
応液にメタノール5mlとアセトニトリル10m1の混
液を滴下した。この溶液を1時間撹拌した後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔
展開溶媒ニアセトニトリル−水(4:1)〕で精製して
目的物1.OIを得た。
実施例4 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト ジ塩酸
塩 実施例3で得られた化合物1001gをジクロルメタン
5mlに溶解し、N、N−ジメチルアニリン9011お
よびクロロトリメチルシラン91μlを加えた。
35゛Cで1時間15分間撹拌した後、−25°Cに冷
却した。同温度でN、N−ジメチルアニリン150μm
ついで五塩リン248璧のジクロルメタン2.5 ml
溶液を加え、1時間撹拌した。これに1,3−ブタンジ
オール256μノのジクロルメタン0.5 d溶液を加
えた。
反応液を0℃まで加温し、沈殿をr取した。沈殿をメタ
ノール2罰に溶解し、溶解液にジクロルメタン1(ln
Jおよび工°チルエーテル15IILtを加えた。析出
した結晶を沢取し、ジクロルメタンで洗浄した後、乾燥
して目的物65fi9を得た。
実施例5 7β−アミノ−3−(ニーメチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 1−オ
キシド ジ塩酸塩 a)  7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
 ジ塩酸塩および7−アミノ−3−(1−メチル−3−
ピロリニウムラメチル−2−セフェム−4−カルボキシ
レイトジ塩酸塩の混合物 7β−アミノセファロスポラン酸2.21をジクロルメ
タン4Q mlに懸濁し、これにN−メチル−N−(ト
リメチルシリル)トリフルオロアセトアミド3.3 m
lを加えて20分間撹拌した。得られた溶液にヨードト
リメチルシラン1.26 dを加え、15分間撹拌した
。溶液を減圧濃縮した。残渣をアセトニトリル20Mに
溶解し、N−メチル−3−ビロリン806 Qを加えて
1時間撹拌した。反応液にメタノール4.5 rrdl
を加え、生じた沈殿をP取した。沈殿をアンバーライト
XAD−4(商標、ロームアンドハース社、スチレン−
ジビニルベンゼンの共重合体)のカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:水)で精製し、目的とする溶出画分を
集めて減圧濃縮した。残渣をIN塩酸5mgに溶解し、
インプロパツール15m1およびエチルエーテル8Q 
mlを加えて、析出する結晶をP取し、目的物85■(
〆、パ はぼ1:1の混合物)を得た。
b)  7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリ
ニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト
 1−オキシド ジ塩酸塩上記a)で得た化合物(混合
物)IOJIIi+を水3mlに溶解し、氷冷下2m−
クロロ過安息香酸6■のジクロルメタン3d溶液を加え
、同温度で4時間撹拌した。反応液より水層を分離し、
ジクロルメタンで洗浄後、凍結乾燥した。これをアンバ
ーライトXAD−4のカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:水)で精製し、目的物7〜を得た。
実施例6 t−ブチル 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピ
ロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレ
イト 1−オキシド ブロマイドt−ブチル 7β−ア
ミノ−3−ブロムメチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 1−オキシド 臭化水素酸塩67011(J
をN、N−ジメチルホルムアミド10mに溶解し、N−
メチル−3−ピロリン275189を加え、アルゴンガ
ス気流中、24時間撹拌した。反応液にエチルエーテル
100Mを加九遊離した油を分取した。これをn−へキ
サンで洗浄し、目的物608 jI9を得た。
実施例7 7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウム)
メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト 実施例6で得られた化合物6001IIgをN、N−ジ
メチルホルムアミド5mlに溶解し、−25℃で三塩化
リン670dを加え、 30分間撹拌した。反応液に工
チルエーテル5Qmlを加え、遊離した油を分取し。
エチルエーテ3−IQmJで洗浄した。
この油状物質に、水冷下、蟻酸5 m、lおよび濃塩酸
0.5 mlを加え、3時間撹拌した後、減圧下に濃縮
した。残渣を氷水10m1に溶解し2重炭酸ナトリウム
で中和した。これをアンバーライトXAD−4のカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒:水)で精製して目的物
102 mgを得た。
〔発明の効果〕
次に本発明化合物を中間体として用いた。抗菌剤の製造
にかかわる実験例およびその抗菌力を示す。
実験例1 7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール・−4−
イル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1
−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−
4−カルボキシレイトa)  t−ブチル 7β−[(
Z) −2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イ
ル’)−2−メトキシイミノアセトアミド、]−3−(
1−メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシレイト 1−オキシド ブロマイド 実施例6で得られた化合物397y+9. (z)−2
−メトキシイミノ−2−(2−トリチルアミノチアゾー
ル−4−イル)酢酸397m9. 1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール−水和物130 tr9をN、N−ジメ
チルホルムアミド10m1に溶解し、N、N−ジシクロ
へキシルカルボジイミド166myを加え、3時間撹拌
した。反応液より沈殿をf去した後、エチルエーテル5
Qi7を加えた。遊離した油をエチルエーテルで洗浄し
て目的物を得た。
赤外線吸収スペクト)v (crrt−’、 )G3r
 ) :1780、 1020 島伝スペクトル(δ、 CD30D) :1.59(9
H,s) 、 3.23 (3H,s) 、 3.98
 (3H,s) 。
4.0〜5.0 (m) 、 5.07 (IH,d、
 J=6)Lt) 、 5.98 (IH,d。
J=6七)、 6.02(2H,s)、 6.84(I
H,s)、7.32(15H,5)b)  7β−C(
Zl−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−
メトキシイミノアセトアミド)−3−(1−メチル−3
−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カルボキ
シレイト 上記a)で得た化合物全量をN、N−ジメチルホルムア
ミド5Mに溶解し、−75℃で三塩化リン360 It
lを加えて30分間撹拌した。反応液にクロロホルム2
Qmlと飽和食塩水5mlを加えて撹拌した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸す) +7ウム
で乾燥後、減圧下に濃縮し、t−ブチル 7β−C(Z
)−2−(2−)ジチルアミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−メチ
ル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4−カ
ルボキシレイト ブロマイドを得た。
この化合物、蟻酸4ml、濃塩酸0.41nlを室温で
2時間撹拌した。反応液にアセトンIOQ dを加え。
生じた沈殿を1取した。この沈殿に3096工タノール
lQmを加えて不溶物を沢去し、P液を減圧下に濃縮し
た。残渣をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー〔展
開溶媒;アセトン−水(7:1)。
(5:1):]で精製して目的物12■を得た。
赤外線吸収スペクトル(crrt−’ 、ヌジョール)
:177 O NMRスペクトル(δ、 D、O) :3.28(3H
,s) 、 4.09(3H,s) 、 5.46(I
H,d、 J=5Hz) 。
5.99(IH,d、J=5Hz)、 6.08(2H
,s)、  7.11(IH,s)実験例2 7β−〔(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−3−(1−
メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4
−カルボキシレイト 2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−(Z)
−メトキシイミノ酢酸1cy、1−ヒドロキシIH−ベ
ンゾ)!J7ゾー/L/水和物f3m9. N、N’−
ジシクロへキシルカルボジイミド124gおよびN、N
−ジメチルホルムアミドQ、 5 mlを室温で3時間
撹拌した。不溶物をP去し、P液を0°Cに冷却し。
実施例4で得られた化合物2(Cy、 N、N−ジメチ
ルホルムアミド1mlおよびN、N−ジメチルアニリン
17μlの水冷溶液中にP液を加えた。室温で19時間
撹拌した後2反応液をr過した。P液に、撹拌エエチル
エーテル15mgを滴下した。析出した結晶を1取し、
水5mlを加えた。不、博物を1去し、P液を凍結乾燥
して目的物10!9を得た。得られた化合物の赤外線吸
収スペクトル、NMRスペクトルは実験例1の化合物の
それと一致した。
* β−ラクタマーゼ産生菌 **7β−[(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−3−(
1−メチル−1−ピロリジニウム)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシレイト

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
    基、R_2は低級炭化水素基、Xは陰イオン、R_3が
    −COO^−のときはmは0、R_3が−COOR_4
    (R_4は水素原子または保護基)のときはmは1を示
    す〕で表わされる7−アミノ−3−(ピロリニウム)メ
    チル−3−セフェム誘導体およびその塩 2)R_1が水素原子、トリチル基、2−チエニルアセ
    チル基である特許請求の範囲第一項記載の化合物 3)R_2が低級アルキル基である特許請求の範囲第一
    項記載の化合物 4)Xがハロゲンイオンである特許請求の範囲第一項記
    載の化合物 5)7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウ
    ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイトおよ
    びその塩である特許請求の範囲第一項記載の化合物 6)7β−アミノ−3−(1−メチル−3−ピロリニウ
    ム)メチル−3−セフェム−4−カルボキシレイト1−
    オキシドおよびその塩である特許請求の範囲第一項記載
    の化合物 7)7β−(2−チエニルアセトアミド)−3−(1−
    メチル−3−ピロリニウム)メチル−3−セフェム−4
    −カルボキシレイトおよびその塩である特許請求の範囲
    第一項記載の化合物 8)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
    基、R_4は水素原子または保護基を示す〕で表わされ
    る化合物またはその塩に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は低級炭化水素基を示す〕で表わされる
    化合物またはその塩を反応させ、必要により保護基を脱
    離あるいはスルホキシドを還元することを特徴とする一
    般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、nは前記の定義に同じ、R_
    3が−COO^−のときはmは0、R_3が−COOR
    _4(R_4は前記の定義に同じ)のときはmは1を示
    す〕で表わされる化合物およびその塩の製造方法 9)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、nは0または1、R_1は水素原子または保護
    基、R_4は水素原子または保護基を示す〕で表わされ
    る化合物またはその塩に一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_2は低級炭化水素基を示す〕で表わされる
    化合物を反応させ、必要により保護基を脱離あるいはス
    ルホキシドを還元することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1、R_2、nは前記の定義に同じ、R_
    3が−COO^−のときはmは0、R_3が−COOR
    _4(R_4は前記の定義に同じ)のときはmは1を示
    す〕で表わされる化合物およびその塩の製造方法
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