JPS616834A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPS616834A JPS616834A JP59127825A JP12782584A JPS616834A JP S616834 A JPS616834 A JP S616834A JP 59127825 A JP59127825 A JP 59127825A JP 12782584 A JP12782584 A JP 12782584A JP S616834 A JPS616834 A JP S616834A
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- reinforcing pattern
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- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はワイヤボンディング効率を改良した半導体装置
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
半導体チップ(以下略してチップ)はセラミック基板上
に形成された厚膜または薄膜パターン或いはプリント配
線基板上に形成された微細パターン上にワイヤポンディ
ング、フェイスダウンボンディング、ビームリードボン
ディングなどの方法で回路接続されている。
に形成された厚膜または薄膜パターン或いはプリント配
線基板上に形成された微細パターン上にワイヤポンディ
ング、フェイスダウンボンディング、ビームリードボン
ディングなどの方法で回路接続されている。
ここでビームリードボンディングはダイオードやトラン
ジスタのように端子数の少ないチップに対して適用され
ているが、ICのように構成素子数が増し、従って端子
数が増加すると製作が困難となる。
ジスタのように端子数の少ないチップに対して適用され
ているが、ICのように構成素子数が増し、従って端子
数が増加すると製作が困難となる。
そこでICの回路接続にはワイヤボンディング或いはフ
ェイスダウンポンディングが使用されている。
ェイスダウンポンディングが使用されている。
また更に構成素子数の多いLSIやVLS Iになると
端子数が数百にも達するのでワイヤボンディングは工数
が掛り過ぎて無理であり、効率の良いフェイスダウンボ
ンディング法が普及しつつある。
端子数が数百にも達するのでワイヤボンディングは工数
が掛り過ぎて無理であり、効率の良いフェイスダウンボ
ンディング法が普及しつつある。
本発明はプリント配線基板(以下略して基板)の上にチ
ップを装着してワイヤボンディング法により回路接続を
行う場合の装着方法に関するものである。
ップを装着してワイヤボンディング法により回路接続を
行う場合の装着方法に関するものである。
第2図はチップ1を基板2の上のステージ3に接着固定
した後にチップ1の周辺に設けられているパッド4と導
体パターン5の先端に形成されているリード部6とを金
線などのワイヤ7を用いてワイヤボンディングした状態
を示している。
した後にチップ1の周辺に設けられているパッド4と導
体パターン5の先端に形成されているリード部6とを金
線などのワイヤ7を用いてワイヤボンディングした状態
を示している。
ここでワイヤボンディングには常温で超音波熔接する場
合と加熱しながら超音波熔接する場合とがあるが、金線
<Au )を用いる場合は後者の方法がとられている。
合と加熱しながら超音波熔接する場合とがあるが、金線
<Au )を用いる場合は後者の方法がとられている。
すなわち溶融して丸くなった金線の先端をチップのパッ
ド4に超音波熱圧着した後に機械的に比較的安定な導体
パターンのリード部6にまで金線を引き、超音波熱圧着
することにより第2図に示すようなワイヤ接続が行われ
ている。
ド4に超音波熱圧着した後に機械的に比較的安定な導体
パターンのリード部6にまで金線を引き、超音波熱圧着
することにより第2図に示すようなワイヤ接続が行われ
ている。
なお図においては一個所のみのボンディングを示し、他
は省略しである。
は省略しである。
ここで従来は基板の厚さが充分あるためボンディング不
良は発生しなかったが、使用する基板が薄くなるに従っ
てボンディング不良が発生すると云う問題が生してきた
。
良は発生しなかったが、使用する基板が薄くなるに従っ
てボンディング不良が発生すると云う問題が生してきた
。
すなわち基板の材料としてガラスエポキシが使用される
ことが多いが、フレキシブルプリント板のような用途の
場合は厚さが0.11程度のものが使用されており、こ
の上に厚さが20μmの銅箔(Cu)を接着して基板が
作られている。
ことが多いが、フレキシブルプリント板のような用途の
場合は厚さが0.11程度のものが使用されており、こ
の上に厚さが20μmの銅箔(Cu)を接着して基板が
作られている。
このように薄い基板2のステージ3にチップ1を接着剤
により固定したのち、ワイヤボンディングを行うために
基板を200℃以上にまで加熱すると基板2が薄いこと
に加え、基板の成分であるエポキシが軟化するので超音
波熱圧着に際して超音波の減衰が甚だしく、所定の接着
力を得ることができない。そこで基板加熱温度を成るべ
く低い温度例えば150 ’Cにまで下げて熱圧着を行
っているが、基板が柔らかいために良好な接着を得には
充分な注意を必要としている。
により固定したのち、ワイヤボンディングを行うために
基板を200℃以上にまで加熱すると基板2が薄いこと
に加え、基板の成分であるエポキシが軟化するので超音
波熱圧着に際して超音波の減衰が甚だしく、所定の接着
力を得ることができない。そこで基板加熱温度を成るべ
く低い温度例えば150 ’Cにまで下げて熱圧着を行
っているが、基板が柔らかいために良好な接着を得には
充分な注意を必要としている。
また図に示すようにリード部6の裏面に導体パターン5
が存在しない場合は熱圧着に当たって基板2が沈み込み
、ボンディング装置からの超音波振動が充分に伝わらな
い問題があった。
が存在しない場合は熱圧着に当たって基板2が沈み込み
、ボンディング装置からの超音波振動が充分に伝わらな
い問題があった。
本発明に係る問題点は厚さが数100μmのように薄い
合成樹脂製の基板上の配線パターンに充分な接着力を持
つワイヤボンディングを行う方法を開発することである
。
合成樹脂製の基板上の配線パターンに充分な接着力を持
つワイヤボンディングを行う方法を開発することである
。
−F記の問題点は半導体チップを回路基板に接着したる
のち該回路基板上にパターン形成してなるリード部と半
導体チップのパッド部とを回路接続するに当たり、前記
回路基板のり一ト部パターンの裏面位置に予め該リード
部を覆う補強用パターンを形成しておきワイヤボンディ
ングを行うことにより解決することができる。
のち該回路基板上にパターン形成してなるリード部と半
導体チップのパッド部とを回路接続するに当たり、前記
回路基板のり一ト部パターンの裏面位置に予め該リード
部を覆う補強用パターンを形成しておきワイヤボンディ
ングを行うことにより解決することができる。
本発明は現在殆どの基板が両面基板であることから、ワ
イヤボンディングを行う導体パターン5のリード部6が
設けられている基板の裏面部にもしもなんらかのパター
ンが存在してない場合、この位置に補強用のダミーパタ
ーンを形成することによって実効的に超音波熱圧着が行
われる基板の硬度を高めるものである。
イヤボンディングを行う導体パターン5のリード部6が
設けられている基板の裏面部にもしもなんらかのパター
ンが存在してない場合、この位置に補強用のダミーパタ
ーンを形成することによって実効的に超音波熱圧着が行
われる基板の硬度を高めるものである。
第1図は本発明に係る装着構造を示すもので同図(A)
は平面図また(B)は側面図である。
は平面図また(B)は側面図である。
すなわちチップ1に設けられている複数個のパッド4と
基板2の上のリード部6とをワイヤ7により超音波熱圧
着した状態を示している。
基板2の上のリード部6とをワイヤ7により超音波熱圧
着した状態を示している。
本発明はかかる超音波熱圧着を行うに先立ち、予めリー
ド部6に相当する裏面位置に破線で示す補強用パターン
8を設けておくことにより接着強度を向上するものであ
る。
ド部6に相当する裏面位置に破線で示す補強用パターン
8を設けておくことにより接着強度を向上するものであ
る。
ここで補強用パターン8は通常のパターン形成と同時に
写真食刻技術を用いて作ればよく、またその位置に他の
パターンがあればそれで代用できる。
写真食刻技術を用いて作ればよく、またその位置に他の
パターンがあればそれで代用できる。
このようにして基板の強度を補強すると基板の厚さが薄
<、また軟らかな場合であっても効率よくボンディング
を行うことができる。
<、また軟らかな場合であっても効率よくボンディング
を行うことができる。
以上述べたように本発明の実施により基板強度を補強す
ることができ、そのため金線を使用してワイヤボンディ
ングを行う場合、従来の方法では基板温度を150°C
以下に下げてホンディングを行う必要があったが、本発
明の実施により200°C程度にあげることが可能とな
り、充分な接着強度を持たせることが可能となった。
ることができ、そのため金線を使用してワイヤボンディ
ングを行う場合、従来の方法では基板温度を150°C
以下に下げてホンディングを行う必要があったが、本発
明の実施により200°C程度にあげることが可能とな
り、充分な接着強度を持たせることが可能となった。
第1図は本発明を実施して半導体チップのボンディング
を行う状態を示す説明図で、同図(A)は平面図、同図
(B)は側面図。 第2図は従来法を説明する側面図である。 図において 1はチップ、 2はプリント配線基板、4は
パッド、 6はリード部、7ばワイヤ、
8は補強パターン、である。 第1図 美21に プリント曹乙C艮渥4旦
を行う状態を示す説明図で、同図(A)は平面図、同図
(B)は側面図。 第2図は従来法を説明する側面図である。 図において 1はチップ、 2はプリント配線基板、4は
パッド、 6はリード部、7ばワイヤ、
8は補強パターン、である。 第1図 美21に プリント曹乙C艮渥4旦
Claims (1)
- 半導体チップを回路基板に接着したるのち、該回路基板
上にパターン形成した配線パターンのリード部と半導体
チップのパッド部とを回路接続するに当たり、前記回路
基板のリード部パターンの裏面位置に予め該リード部を
覆う補強用パターンを形成しておきワイヤボンディング
を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59127825A JPS616834A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59127825A JPS616834A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS616834A true JPS616834A (ja) | 1986-01-13 |
Family
ID=14969598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59127825A Pending JPS616834A (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS616834A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02120868U (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-28 | ||
| JPH03102768U (ja) * | 1990-02-09 | 1991-10-25 | ||
| JPH05118936A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 薄膜ダイアフラム |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP59127825A patent/JPS616834A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02120868U (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-28 | ||
| JPH03102768U (ja) * | 1990-02-09 | 1991-10-25 | ||
| JPH05118936A (ja) * | 1991-10-25 | 1993-05-14 | Yamatake Honeywell Co Ltd | 薄膜ダイアフラム |
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