JPS6183061A - サ−マルヘッドの製造装置 - Google Patents

サ−マルヘッドの製造装置

Info

Publication number
JPS6183061A
JPS6183061A JP60017789A JP1778985A JPS6183061A JP S6183061 A JPS6183061 A JP S6183061A JP 60017789 A JP60017789 A JP 60017789A JP 1778985 A JP1778985 A JP 1778985A JP S6183061 A JPS6183061 A JP S6183061A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
value
resistance value
resistance
pulse
resistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60017789A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsunori Sawae
沢江 哲則
Hiromi Yamashita
山下 博實
Takafumi Endo
孝文 遠藤
Kohei Katayama
片山 康平
Yukio Murata
村田 幸男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP60017789A priority Critical patent/JPS6183061A/ja
Publication of JPS6183061A publication Critical patent/JPS6183061A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/35Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads providing current or voltage to the thermal head

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)
  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は主としてファクシミリやプリンタに便用さnる
サーマルヘッドの製造装置に関するものである。
〔従来の技術〕
現像、定着の必要かなく、無騒音、メインテプンフリー
であり、信頼性の高いサーマルヘッドか、感熱記録紙の
向上とともに普及している。感熱記録は、基板上に設け
た抵抗体に、記録電流を印・加し、抵抗体に流れた電流
により生ずるジュール熱を利用して、抵抗体上に接する
感熱紙を発色させたり、熱転写紙のインク層を溶融させ
、被転写紙に記録信号情報を印字記録する技術である。
サーマルヘッドの一般構造図を第9図に示す。
サーマルヘッドは絶縁基板(1)上にAi、Au、 C
u等の良電気導体材料にて成膜技術により構成したリー
ド部(2)とそれに両端を接続した膜状のエレメント抵
抗体(3)で全体で発熱素子を構成される。
絶縁基板(1)の材料にはアルミナセラミック基板又は
グレーズ層付アルミナセラミック基板を使用する事が多
い。エレメント抵抗体(3)の材料として薄膜方式の場
合はTa2N、 Ta−5i02. Ta−5ir N
i −CuTi 203等の材料が用いらnる。
又、厚膜方式の場合はRu2O、PtO等の貴金属の酸
化物をガラス材と混合して塗付して焼結する。
図示しないか、エレメント抵抗体(3)を形成した後こ
しを保護するためのガラス膜を焼成する。
このサーマルヘッドのリード部両端に一定の電圧を一定
時間印加した場合、ジュール熱により抵抗体部に熱か発
生する。この熱は第10図の様に構成する記録装置のA
部分で感熱紙(5ンに伝達され感熱紙(5)が発色して
その表面に印画される。なお、第10図において、第9
図と同一符号は相当部分を示す。Pはロール(4)の抑
圧方向を示す。
一般に、例えばファクシミリ用のサーマルヘッドは、発
熱抵抗体として、1ヘッド当り約2000個の抵抗体が
独立して並列に設けられている。これらの発熱抵抗体は
、そのジュール熱により表面温度が、250℃〜600
℃程度まで加熱され、この温度に到達させるに等しい印
加エネルギーは、サーマルヘッド各々の解像度により異
なるか、約0,2mJ  (ジュール)〜2mJ必要と
さnる。
従来よりこのサーマルヘッドには、抵抗体の製造プロセ
スおよびその材料の違いにより、厚膜形と薄膜形および
半導体形があった。厚膜形はペースト状の抵抗材料を用
いて、あらかじめ所望とするパターンをスクリーンやフ
ォトレジスト膜に形成しておき、スクリーン印刷技術に
よヴ抵抗材料を印刷、又は埋込み、後工程として焼成す
ることで発熱抵抗体が形成される。薄膜形は主としてタ
ンタル系材料を蒸着又はスパッタリングし、あらかじめ
抵抗体となりうる基本パターンを形成しその後、フォト
エツチングにより所望パターンの独立した抵抗体に仕上
げる。半導体形は、たとえばシリコン基材の一部に抵抗
拡散を行い、抵抗体を形成し、P−N接合面の発熱を利
用するもので半導体製造工程とほぼ同一手段を用いる。
以上3種の製造方法のうち実用化が実施されているのは
、厚膜形と薄膜形である。ところで薄膜形は、その製造
工程は多大であるか、発熱抵抗体の抵抗値のばらつきは
少なく、微細パターンが形成できるという大きな利点を
持っている。反面厚膜形は、比較的短い製造工程によっ
て安価に製造可能であるが、発熱抵抗体の抵抗値のばら
つきが大きいという重大な欠点を持ち合わせていた。感
熱記録は、抵抗体の抵抗値により決定さイ′シ、発生す
るジュール熱を利用するため、抵抗値のばらつきは当然
その上に印字される画質の濃度ムラの原因となる。
第11図はサーマルヘッドを構成する各エレメント抵抗
体の抵抗値RI+ R2+・・・Rn  の−例を示す
通常薄膜形の抵抗値ばらつきは、±5%〜±15%引内
に均一化されているのに対し、厚膜形は±15%〜±3
0%にばらついており、薄膜形より劣っているのに一主
流を成しているのは、過負荷電力、耐摩耗性に代表され
る信頼性の良さと低コストという大きな利点を持ち合わ
せている故である。厚膜形でも最近は、微細パターンの
形成は薄膜形に劣らず作成することが可能となった。た
とえば導体パターンの形成においては、印刷膜厚は従来
3μm以上必要とされていたが、3000Å以下の導体
膜厚でも構成できる。この利点は、フォトエツチング時
のエツチングファクターか従来20μmを要したのに比
べ、薄膜形と同程度、即ちほぼ零のエツチングファクタ
となることによる。−刃厚膜形の抵抗値のばらつきの改
善に関しては、メツシュスクリーンやメタルマスクスク
リーンの改良など従来のスクリーン印刷技術の向上のほ
かに、たとえば特公昭59−22675号に記載されで
ある厚膜抵抗体のフォトエツチングや、特公昭57−1
8506号に記載されである厚膜抵抗体をフォトレジス
トパターンに埋込む方法、特開昭54−99443号に
記載しである厚膜抵抗体の表面研磨処理をする方法等が
ある。さらには昭55−47597に記載しであるよう
に薄膜導体に厚膜抵抗を印刷したものがある。
こnらは、発熱抵抗体の形状を均一化し、その効果によ
る抵抗値のばらつきを改善しようとしたものである。
また、厚膜抵抗材料の改良も進めらnてきた。
厚膜抵抗材料としては、たとえば、特開昭53−954
4号および特開昭51−9541号に記載の酸化ルテニ
ウと、高融点フリットガラス、酸化ジルコニウム等が適
当である。しかしこrしらは主として、厚膜形サーマル
ヘッドとしての信頼性を保持するために改良さ口たもの
であり、発熱抵抗値のパラツキの改善とはなっていない
。ところで厚膜抵抗体の形状が幾度学的に薄膜抵抗体と
同等に整ったとした場合、本当に抵抗値のばらつきか薄
膜抵抗体と同等になるのかという疑問かある。理論的に
は抵抗体の抵抗値は次式で示される。
R=ρ°7.【 ■ ここで、ρ:抵抗体の比抵抗(Ω−cIR)l:抵抗体
の長さくCIR) W:抵抗体の幅 (cIR) t:抵抗体の厚み(cIl) スクリーンで印刷された発熱抵抗体は通常その抵抗体の
長さくl)、抵抗体の幅(W)、抵抗体の厚み(1)共
に、わずかにばらつくが、終局的に問題となるのは厚膜
抵抗材料か基本的にある大きさの粒径を保持する酸化ル
テニウム、ガラスフリット。
酸化ジルコニウム等の焼成時に生ずる結合度の差異によ
り生ずる抵抗体の比抵抗そのもののばらつきであり、結
果生ずる抵抗値のばらつきである。
これは厚膜製造工程の厳密なスクリーン印刷、および焼
成条件、さらにはそnら発熱抵抗体を製造の前工程後玉
程度の改善によっても解決さjLない。
これは、酸化ルテニウム等の粒径が特開昭58−954
4号に記載にもあるように5μmと無視できない大きさ
であるということ、また、厚膜抵抗体の抵抗値の決定に
は主として酸化ルテニウムガラスフリットとの接触界面
のbae−xsMe(メタル−インシュレーターメタル
)の不均質結合状態による原因か終局的にあるからであ
る。基本的に厚膜抵抗材料がその焼成温度、雰囲気、焼
成スピードに同一材料にもかかわらず抵抗値が大幅に変
化するのは、Me −1s−Meの結合状態が変化する
ためと推定できる。
そこで、酸化ルテニウム、ガラスフリット等の粒径をさ
らに緻密化した厚膜抵抗材料か最近市販されるようにな
った。しかし、目標とする効果は得られなかった。
以上から、接触界面の不均一による厚膜抵抗の   、
ばらつきを改善しないことには、結局抵抗値のばらつき
が改善さnないことがわかる。ところで、抵抗体のばら
つきの改善に関しては従来からレーザートリミング法な
どを利用して、抵抗値の調整等を主として厚膜回路基板
、薄膜回路基板等で実施さずしている。また、特開昭5
8−7,360号又は特開昭58−7360号記載の液
体噴射記録ヘッドでは薄膜抵抗素子をレーザートリミン
グし、電気−熱変換特性に合わせるように抵抗値を調整
している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
厚膜抵抗体の抵抗値のばらつきを改善する従来の方法は
いづれも不十分なものであった。発熱抵抗体上部に位置
し感熱紙を圧接する回転ローラの躍動による機械的振動
かあるため、衝撃に弱い化学的トリミング方法は使用で
きない。また、均一な温度分布を必要とするので発熱抵
抗体の形状も重要な要素となるため、レーザ、ダイヤモ
ンドカット、サンドブラスト等の機械的トリミング法で
は、形状の変化によりサーマルヘッドの性能を悪化させ
るため使用できなかった。
この発明は厚膜形サーマルヘッドの発熱抵抗体の形状を
変えることなく、その抵抗値を変化して製造する装置を
提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明はパルス発生回路によりサーマルヘッドの発熱
抵抗体に電圧パルスを印加することにより抵抗値を減少
させ、抵抗のばらつきを減少せしめる。又発熱抵抗体の
抵抗値を測定するための抵抗計と、抵抗の測定値に応じ
て電圧パルスの波高値を変える計算部とを備えている。
〔作用〕
この発明では電圧パルスの印加によって発熱抵抗体の抵
抗値か減少することを利用して、抵抗値のばらつきを著
しく減少させることができる。こnにより、サーマルヘ
ッドの印字画質の濃度ムラを著しく減少させることがで
きる。抵抗の測定値に応じて電圧パルスの波高値を変え
るようにしたので抵抗値の効果的に減少する。
〔発明の実施例〕
この発明は主要な生産プロセスの後に、発熱抵抗体の抵
抗値を減少させるプロセスを実施する。
即ち、基板上に発熱抵抗体、リード線、保護ガラス膜を
形成した後に、本発明の装置を使って抵抗値を減少させ
るプロセスを実施する。
第1図は発熱抵抗体の抵抗値を減少させてばらつきをな
くする方法の原理を示す図である。
この発明は厚膜抵抗体−[[圧を印加すると抵抗値が低
下するという現象を利用している。この現象はM I 
M (Metal In5ulator”Metal 
)構造をもつ厚膜抵抗体の絶縁物(Insulator
)が電圧によりブレークスル、−するためであるとも考
えらnている。
ともかく、抵抗体の物理的性質が電圧印加により変化し
ていることは確実である。
第1図は当初の抵抗値がRI+ R2* R3である発
熱抵抗体の抵抗値をRn  に調整する場合を示してい
る。
先づ最初に各発熱抵抗体の抵抗値を測定し、目標とする
抵抗値R8と比較する。R4のようにR8より低い抵抗
値をもつ発熱抵抗体に対しては電圧パルスは印加しない
。Roより大きい抵抗値R,,R2゜R3を持つ発熱抵
抗体に対し電圧パルスを印加する。
最初−に波高値の初期設定がV。である電圧パルスを印
加して抵抗値を減少させる。減少後の抵抗値を測定し、
その値かR8以上であれば■。+Δ■の波高値の電圧パ
ルスを印加する。その後抵抗値を測定し、その値がR6
以上であわば■。+2△Vの波高値を持つ電圧パルスを
印加する。このように抵抗値がR0以下になるまで次第
に印加電圧パルスの波高値を高くしながら次第に抵抗値
を減少させて行く。抵抗値かR0以下になればそこで調
整を終了する。このようにして発熱体の抵抗値をR8以
下の一定範囲内に揃える。抵抗値のばらつきを少なくす
るのがこの発明の目的であるから、抵抗値かR6以下に
なりさえすれば良いのでなく、Ro以下の一定範囲内に
あることを要する。そのため少しづつ抵抗値を減少させ
て行き、Ro以下になった時点で止めるのである。
第2図および第3図は本発明の製造装置を使って抵抗値
を揃える方法を実施しない場合と実施した場合の発熱抵
抗体の抵抗値の分布を示す図である。何個かの発熱抵抗
体を−グループとし、その中の最大値を白丸印、平均値
を黒丸印、最小値をX印で示している。
実施しない場合は抵抗値のばらつきは非常に大きいか、
実施した場合はほとんどばらつきかなくなっていること
がわかる。
第4図はこの発明の装置の一例を示す溝成図である。第
5図は第4図の主要な信号の波形図である。
(6)は調整対象のサーマルヘッド(7)に探針(プロ
ーブ)を押し当てるブロービング装置、(8)は印加電
圧パルスを所望の発熱抵抗体に導くリレー網、(9)は
電圧印加と抵抗測定とを切り換えるスイッチ、叫は調整
電圧パルスを発生するパルス発生回路、(ロ)は抵抗計
、口は計算部、qQはその入出力部、α膏は中央演算処
理装置(以下cpuと称す)、叫はメモリ、qQはキー
ボード、aηはプリンタである。
本発明の装置により抵抗値を減少させる手順について説
明する。
計算部(2)から印加電圧の波高値Vsの設定信号、1
回の電圧印加に含まれるパルス数nの設定信号が与えら
nている。ここで抵抗値を測定し、目標とする抵抗値R
8より大きな抵抗値をもつ発熱抵抗体については以下の
プロセスが実施される。計算部四からの電圧印加開始信
号5TARTを受けるとパルス発生回路a0はENAB
LE禁止信号を計算部に返送する。又、スイッチ(9)
がパルス発生回路四側に切り換わる。ENABLE禁止
信号か出力されている期間は波高値Vsの変更と5TA
RT信号の発生は禁止される。これは電圧パルス印加中
においては、波高値Vsの変更をすべきではないし、ま
た現在の電圧パルスの印加が終了するまでは次の電圧パ
ルス印加の開始信号5TARTを発するべきではないか
らである。5TART信号印加後一定時間T1か経過す
ると、パルス発生回路00は波高値かVsのn個のパル
スをスイッチ(9)、リレー網(8)を経てサーマルヘ
ッド(7)の発熱抵抗体に印加する。パルス電圧の印加
が終了した後12時間経過後スイッチ(9)は抵抗計q
υ側へ切り換えられる。そして更に13時間後にはEN
ABLE禁止信号が解除さnて次の電圧印加が可能にな
る。時間T3の間に抵抗値の測定か行われ、その測定結
果か計算部Uへ送ら0る。計算部@ではCPUα弔が測
定値を前回の測定値と比較する。そして、前回の測定値
を基準として一定の範囲内にない場合は接触不良である
と判断する。一定の範囲の設定方法は種々あるか、前回
測定値に比してより高い値であるか否か比較するように
するのか最も簡単な方法である。以下−例としてこの方
法の場合を述べる。
もし、前回の測定値よりも高い値が得らnたならば、C
PUt、14.lはこの測定値を採用せず、ブロービン
グ装置(6)に対し測定対象のサーマルヘッド(7)へ
の探針の接触を解き、再接触さるべくリプローブ信号を
送出する。そして抵抗値の再測定が行われる。第1図か
ら理解できるように、電圧パルスの印加によって抵抗値
が増加することはあり得ないのであって、もし増加する
ことがあ「しばそnは探針(プローブ)の接触不良によ
るものと考えられるからである。
この場合の探針の再接触であるか、前と同じ箇所に再接
触したのでは再び接触不良になる可能性かある。そこで
、再接触は前の箇所ではなく、少し離れた箇所に対して
行う。探針の接触はリード線の先に設けられるパッドと
呼ばBる箇所にされるが、再接触は同一パッド内の少し
離nた位置にする。
抵抗測定値が前回の測定値よ・り低ければCPU114
+はこの測定値を採用して調整目標値R0と比較する。
Ro以下に達していなければCPUαΦはENABLE
禁止信号が解除された後に、印加する電圧パルスの波高
値の設定値Vsを△Vだけ高めてパルス発生回路αQに
与えた後、次回の電圧パルスの印加のための開始信号5
TARTを発生する。
このようにして、次第に印加電圧パルスの波高値を高め
ながら発熱抵抗体の抵抗値を減少させて行く。抵抗値が
調整目標値R8以下となれば、その発熱抵抗体の抵抗値
の調整は終了する。
時限T、、 T2. T3を設けているのはスイッチ(
9)。
リレー網(8)のチャタリングによる影響を避けるため
である。スイッチ(9)、リレー網(8)が完全に切り
換えられる前に、パルス発生回路叫から電圧パルスを発
生させても、そのパルスはサーマルヘッド(7)には印
加されない。また、スイッチ(9)、リレー網(8)が
完全に切り換えらnる前に抵抗値の測定を行っても正確
な測定はできない。
印加する電圧パルスは、単一パルスで与えても良いが、
むしろ数個のパルスからなるパルス群で与える方が制御
が容易である。電圧パルスのエネルギーは波高値とパル
ス巾△tによって規定されるが、これがあまりに大きく
なると発熱抵抗体が破壊される。そこで、電圧パルスの
エネルギーがある程度であって発熱抵抗体を破壊する危
険があるときは電圧パルスの波高値に応じてパルス巾を
減少させるよう調整しなけnばならない。単一パルスの
パルス巾を調整するよりはむしろ、複数のパルスからな
るパルス群の各パルスの巾△tは一定としておいて、パ
ルス周期Tとパルス巾△【との比△t / T  を波
高値の変化に応じて発熱抵抗体を破壊しない値以下に調
整する方が容易である。
あるいは、△t / Tを一定としておき、波高値の変
化に応じてパルス群を構成するパルス数nを変化させて
も良い。電圧パルスのエネルギーが十分小さい場合は単
一パルス又はパルス群のいづnで与えても良い。
印加する電圧パルスの波高値が低いと抵抗値が減少する
現象は見らnなくなる。そこで、抵抗値の減少が期待で
きるような波高値から第1回の電圧パルスの印加は開始
さfLる。第1図のV。は第1回の印加電圧パルスの波
高値を示す。
調整目標抵抗値R6,パルスの数nの変更はキーボード
QQを使って行われる。調整後の抵抗値及びCPUCl
Φの計算結果はプリンタqηに打ち出さnる。
第6図は第4図の装置による発熱抵抗体の抵抗値調整方
法のフローチャート図である。
ステップ(ホ)では波高値Vs、パルス数n等のパルス
条件の初期設定を行う。次いで、ステップ?Vでブロー
ビング装置(6)によるサーマルヘッド(7)へのブロ
ービングと、リレー網(8)の切換えとを行う。
次にステップ□□□で抵抗値の測定を行う。ステップQ
5υで測定値を目標値R0と比較しR6より小のときは
電圧パルスの印加は行なわない。抵抗値がR8より大の
ときステップ四、 G!3では設定さiした波高値をも
つn個のパルス列を印加し、抵抗値の測定を行う。今回
の測定値と前回の測定値との比較をステップ−で行い、
前回の測定値より大であればステップ□で再びブロービ
ングを行う。前回測定値より小であれば調整目標抵抗値
R0との比較をステップ(7)で行う。測定値がR0以
下であればその発熱抵抗体についての調整は終了する。
Ro以下になっていなければ、印加電圧パルスの波高値
を△Vだけ増してパ′ノにスを印加する(ステップ@)
このようにして調整は測定値がR6以下となるまで原則
として続けられる。ただし中にはパルス電圧をいくら印
加しても抵抗値が減少しない特異な素子もある。又パル
ス発生回路αQが発生しうるパルス電圧の波高値には制
限がある。そこで、抵抗値がR6以下とならなくてもパ
ルス電圧の印加回数がある一定数に達するとそこで調整
を終了する。
ステップ奏はそのために設けられている。
数個の発熱抵抗体を−グループとして抵抗値の測定が行
われることは既に第2図、第3図で述べた。 ゛ 一グループの調整が終るとCPU(14は平均値。
標準偏差を求めるための演算ΣR1ΣR′を行う。そし
てプリンタαηは−グループの最大値、平均値。
最小値が第8図のようにプリントさnる。−個のサーマ
ルヘッドの全発熱抵抗について調整が終るとCPUIJ
41は全体の平均値および標準偏差σを計算する。その
結果はプリンタαηに打ち出さrしる。
第7図は第4図のパルス発生回路α0の詳細説明図であ
る。図において、■、μs、tQはフリップフロップ回
路、6υ、菊、四はタイマ回路、卿はパルス発生器、(
7)は単安定マルチ回路、(7)はトランジスタ、(ロ
)は電圧電源、(至)は計数器、田は比較器である。
計算部(2)から開始信号5TART信号を受けると、
フリップフロップ回路内、卿はセットされる。フリップ
フロップ回路端からは計算部へENABLE禁止信号が
送られる。ENABLE禁止信号が継続している間は波
高値信号Vsの変更と、5TART信号の発生は禁止さ
れる。フリップフロップ回路略の出力によりスイッチ(
9)のコイルQυか通電し、接点V4゜鱒が図とは反対
側に切替えられる。フリップフロップ回路内がセットさ
れてからT1時間後にタイマ回路6υは出力する。これ
によりフリップフロップ回路qがセットされるとゲート
図が開か01パルス発生器役の発生したパルスが単安定
マルチ回路−に与えられる。単安定マルチ回路内はパル
ス発生器卿のパルス巾を所望のパルス巾Δtをもつパル
スに整形する′。Δtは単安定マルチ回路(7)中の抵
抗とコンデンサによって定められる。第8図にパルス発
生器(至)の出力パルス波形と単安定マルチ回路(7)
の出力波形を示す。
単安定マルチ回路μsのパルスにより、トランジスタ(
7)のゲートドライブ電流が供給されてトランジスタ(
至)はパルスが存在する期間△口よON状態となる。ト
ランジスタ(7)がON状態の期間に電圧電源(ロ)の
出力電圧がスイッチ(9)の接点(イ)、o4、リレー
網(8)を経てサンプルに印加される。電圧電源(ロ)
の波高値は計算部四からの波高値信号Vsによって決定
されている。
ゲート曽を通過するパルスはカウンタ裟によって計数さ
れる。カウンタ卿の計数値は比較器端によって計算部四
から与えらnる数nと比較さiLる。
計数値がnに達すると比較器端の出力によりフリップフ
ロップ回路Qをリセットする。こイしによりゲート貧は
閉じら01サンプルへの1回のパルス電圧の印加が終了
する。
比較器−の出力はタイマ回路−にも与えらlしる。
時限T2後にタイマ回路旬は出力し、これによってフリ
ップフロップ卿はリセットされ、スイッチ(9)は抵抗
計測に切換えらrしる。スイッチ(9)が切換えらGる
と、接点U4.&J+よ図示の位置に切換えられ、抵抗
計αυによってサンプルの発熱抵抗体の抵抗値が測定さ
れる。
タイマ回路−が出力してから1゛3時間経過するとタイ
マ回路凝が出力し、そイtによりフリップフロップ回路
端がリセットされ互端子出力はゞHルベルとなり、EN
ABLE禁止信号は消滅する。こしにより次の電圧パル
スの印加が可能になる。
本発明による抵抗値の変化の実験結果の一例を示すと、
本発明を実施しない場合は一個につき2000以上の発
熱抵抗体をもつサーマルヘッド内で絶対値で±20%、
標準偏差σが5.6%であるのに対し、本発明を実施す
ると絶対値で±3%、標準偏差が0.4%になる等大幅
に抵抗値のばらつきが改善された。これによってサーマ
ルヘッドの印字の濃度ムラをほとんどなくすることがで
きた。
発明者等は抵抗値の調整のために印加する電圧パルスの
波高値の初期設定値(第1図■。)を数十v1印加パル
ス電圧の1回毎の増加分△VをIVないし数V、1回の
電圧印加に含まれるパルス数nをlθ〜20.1個のパ
ルス巾Δtを1μないし数μ秒、パルス間隔を数十μ秒
として発熱体の抵抗値の調整を行った。
時限T、、T、は10m秒前後に、時限T2は数m秒に
設定して、発明者等は抵抗値の調整を行った。
抵抗値の調整に用いるパラメータの具体的な数値は以上
に述べた一例に限られるものではなく、この発明の効果
を奏する範囲内で種々の数値をとりうろことは言うまで
もない。
第6図のステップ曽においては前回の抵抗測定値と大小
比較を行っているか、これに代えて前回の抵抗測定値に
比して一定の範囲内、例えば09〜1.0倍の範囲内に
あるか否かを確認し、この範囲内にないときは抵抗値は
再測定をするようにしても良い。
この発明に係るサーマルヘッドの製造装置の一例を第4
図、第7図に示したが、この発明はこれらに限られない
パルス電圧に含まれるパルス数nを計算部側からパルス
発生回路aCJに自動的に与えているが、こnを手動操
作にて設定するようにする事もできる。
それは、パルス発生回路にパルス数nを設定するスイッ
チを設けることによって容易に実施できる。
又計算部側からの自動設定と手動操作の両者を併用して
も良い。
スイッチ(9)は第7図の例ではコイルoDに通電して
接点器、詩を駆動するリレーであるが、こnに代えて半
導体スイッチを用いることも可能である。
〔発明の効果〕
この発明に係るサーマルヘッドの製造装置は、電圧パル
スを発熱抵抗体に印加して抵抗値を減少させるパルス発
生回路および発熱抵抗体の抵抗値を測定する抵抗計とを
備えるようにしたので、サーマルヘッドの発熱抵抗体の
抵抗値のばらつきを少なくして、サーマルヘッドの印字
濃度のむらを著しく減少させることができる。抵抗値が
目標値以上であるときは電圧パルスの波高値を自動的に
高めるようにしたので抵抗値が効果的に減少する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係るサーマルヘッドの製造方法の原
理説明図、第2図、第3図はこの発明に係るサーマルヘ
ッドの製造装置による抵抗値を揃える製造プロセスを実
施しない場合と、実施した場合の抵抗値の分布を示す図
、第4図はこの発明に係るサーマルヘッドの製造装置の
一実施例を示す構成図、第5図は第4図の主要部の波形
図、第6図はこの発明に係るサーマルヘッドの製造装置
による製造プロセスの一実施手順を示すフローチャート
図、第7図は第4図のパルス発生回路の詳細構成図、第
8図は第7図の波形説明図、第9図はサーマルヘッドの
一般構成図、第10図は感熱記録装置におけるサーマル
ヘッドの使用状態を説明する図、第11図は一般的なサ
ーマルヘッドにおける抵抗値の分布の一例を示す図であ
る。 図において、(1)は絶縁基板、(2)はリード線、(
3)は発熱抵抗素子、(6)はブロービング装置、(7
)はサーマルヘッド、(8)はリレー網、(9)はスイ
ッチ、(10はパルス発生回路、σηは抵抗計、@は計
算部、Q4JはCPU、0υ、(7)、(6)はタイマ
回路、(至)はパルス発生器、(7)は単安定マルチ回
路、□□□は電圧電源、(7)は計数器、田は比較器で
ある。 なお、各図中の同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)サーマルヘッドの発熱抵抗体に電圧パルスを印加
    するパルス発生回路と、前記発熱抵抗体の抵抗値を測定
    する抵抗計と、この抵抗計の測定値を目標値と比較し、
    目標値以上であるときは電圧パルスの波高値を高めるよ
    う前記パルス発生回路に指示する計算部とを備えたサー
    マルヘツドの製造装置。
  2. (2)電圧パルスが発熱抵抗体の抵抗を減少せしめるに
    十分な所定値以上の波高値をもつことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項に記載のサーマルヘツドの製造装置。
JP60017789A 1985-01-30 1985-01-30 サ−マルヘッドの製造装置 Pending JPS6183061A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60017789A JPS6183061A (ja) 1985-01-30 1985-01-30 サ−マルヘッドの製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60017789A JPS6183061A (ja) 1985-01-30 1985-01-30 サ−マルヘッドの製造装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59205015A Division JPS6183053A (ja) 1984-09-28 1984-09-28 サ−マルヘツドの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6183061A true JPS6183061A (ja) 1986-04-26

Family

ID=11953480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60017789A Pending JPS6183061A (ja) 1985-01-30 1985-01-30 サ−マルヘッドの製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6183061A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6183061A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183055A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS61124109A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS6183062A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183065A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183057A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183059A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183058A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS61251106A (ja) サ−マルヘツドの製造装置
JPS6183060A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPH0229023B2 (ja)
JPH0547961B2 (ja)
JPS6183063A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPH024123B2 (ja)
JPS6183066A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183064A (ja) サ−マルヘッドの製造装置
JPS6183054A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS6183052A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS598232B2 (ja) サ−マルヘツド用厚膜材料及びサ−マルヘツド
JPH05305722A (ja) サーマルヘッドの抵抗値調整方法
JP3819650B2 (ja) サーマルプリントヘッドの発熱抵抗体、サーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの発熱抵抗体の製造方法
JP2645759B2 (ja) 発熱抵抗体保護層表面温度を高精度に均一化するサーマルヘッドの製造方法
JPS6183053A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JP2590916B2 (ja) 厚膜型サーマルヘッドの製造方法
JP2002067366A (ja) サーマルプリントヘッドの発熱抵抗体、サーマルプリントヘッドおよびサーマルプリントヘッドの発熱抵抗体の製造方法