JPS621401B2 - - Google Patents
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- JPS621401B2 JPS621401B2 JP54088380A JP8838079A JPS621401B2 JP S621401 B2 JPS621401 B2 JP S621401B2 JP 54088380 A JP54088380 A JP 54088380A JP 8838079 A JP8838079 A JP 8838079A JP S621401 B2 JPS621401 B2 JP S621401B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
西ドイツ国特許公開公報第2130070号により、
20℃〜100℃の範囲内の温度で20〜500nmの波長
領域の光によつてラジカル分解を励起するが、光
の遮断下では150℃〜300℃で初めてラジカル分解
するアゾ化合物の存在下でのエチレン性不飽和化
合物の光重合法は公知である。この種のアゾ開始
剤、例えば2,2′−アゾ−ビス−イソブチルアセ
テートは、100℃以下の温度での不飽和化合物の
重合を照射光量に厳密に比例して実施することが
できる。これによつて、照射光の強さを絶えず、
アゾ開始剤が熱分解が起きないように定める場合
に、重合の間好ましくない温度上昇は回避され
る。光によつて励起可能な他のアゾ開始剤、例え
ばアゾ−ビス−イソ酪酸ニトリルを使用する場
合、すでに比較的低い温度で開始剤の熱分解がは
じまる。熱によりつくられたラジカルは、不飽和
化合物の重合を生起させ、開始剤分解をさらに促
進することによつて爆発段階まで進みうる不断の
温度上昇を惹起する。
20℃〜100℃の範囲内の温度で20〜500nmの波長
領域の光によつてラジカル分解を励起するが、光
の遮断下では150℃〜300℃で初めてラジカル分解
するアゾ化合物の存在下でのエチレン性不飽和化
合物の光重合法は公知である。この種のアゾ開始
剤、例えば2,2′−アゾ−ビス−イソブチルアセ
テートは、100℃以下の温度での不飽和化合物の
重合を照射光量に厳密に比例して実施することが
できる。これによつて、照射光の強さを絶えず、
アゾ開始剤が熱分解が起きないように定める場合
に、重合の間好ましくない温度上昇は回避され
る。光によつて励起可能な他のアゾ開始剤、例え
ばアゾ−ビス−イソ酪酸ニトリルを使用する場
合、すでに比較的低い温度で開始剤の熱分解がは
じまる。熱によりつくられたラジカルは、不飽和
化合物の重合を生起させ、開始剤分解をさらに促
進することによつて爆発段階まで進みうる不断の
温度上昇を惹起する。
照射光量によつてのみ支配しうる、前記した種
類のアゾ開始剤を用いる光重合は、明らかにアゾ
開始剤の熱分解の範囲以下、例えば20℃以下にあ
る温度範囲に限定されている。しかし、このよう
に低い温度では重合は不都合にも緩慢に進行す
る。西ドイツ国特許公開公報第2130070号によつ
て使用される高い分解温度を有するアゾ開始剤が
はじめて、十分な重合温度における光量によつて
のみ支配される重合を可能ならしめる。しかし、
前記したアゾ開始剤は製造が極めて困難でかつ高
価である。
類のアゾ開始剤を用いる光重合は、明らかにアゾ
開始剤の熱分解の範囲以下、例えば20℃以下にあ
る温度範囲に限定されている。しかし、このよう
に低い温度では重合は不都合にも緩慢に進行す
る。西ドイツ国特許公開公報第2130070号によつ
て使用される高い分解温度を有するアゾ開始剤が
はじめて、十分な重合温度における光量によつて
のみ支配される重合を可能ならしめる。しかし、
前記したアゾ開始剤は製造が極めて困難でかつ高
価である。
本発明の課題は、ラジカル重合可能なエチレン
性不飽和化合物の光重合を他のアゾ化合物の存在
下に200〜500nmの波長を有する光の作用下に、
重合が100℃以下の温度で進行するような光の強
さで実施することである。この課題は、本発明に
よれば、アゾ基に結合した、分子量71〜97の第3
級脂肪族炭化水素基を含有する対称アゾアルカン
を使用することによつて解決される。このアゾア
ルカンは、例えばアゾ−ビス−イソブチルアセテ
ートと同様に光の強さによつて支配される光重合
を可能ならしめるが、これは簡単に製造可能であ
り、したがつて安価である。
性不飽和化合物の光重合を他のアゾ化合物の存在
下に200〜500nmの波長を有する光の作用下に、
重合が100℃以下の温度で進行するような光の強
さで実施することである。この課題は、本発明に
よれば、アゾ基に結合した、分子量71〜97の第3
級脂肪族炭化水素基を含有する対称アゾアルカン
を使用することによつて解決される。このアゾア
ルカンは、例えばアゾ−ビス−イソブチルアセテ
ートと同様に光の強さによつて支配される光重合
を可能ならしめるが、これは簡単に製造可能であ
り、したがつて安価である。
本発明によつて使用されるアゾ開始剤は、ヒン
ツ(J.Hinz)及びルヒアルト(Chr.Ru¨chart)
“リービヒス・アナーレン・デル・ヒエミー
(Liebig’s Ann.Chem.)”、1972年、第765巻、
第95〜109頁及びドウイスマン(W.Duis−
mann)、ヘルテル(R.Hertel)、マイスター(J.
Meister)及びルヒアルト(Ch.Riichard)”リー
ビヒス・アナーレン・デル・ヒエミー(Liebig’
s Ann.Chem.)”、1976年、第1820〜1833頁に
よつて公知である。このアゾ開始剤は、アゾ基に
結合した分子量71〜97の2個の同じ第3級脂肪族
炭化水素基を含有する。アゾ基に結合した炭素原
子は第3級である。すなわち、この炭素原子は3
個の脂肪族基を有し、そのうち場合によつては2
個の基が結合して環をなしていてよい。炭素水素
基は最低5個、最高7個の炭素原子を含有する
が、最高7個の炭素原子を含有する場合には式
C7H13の環構造を有するにすぎず、環構造のない
炭化水素基C7H15は不適当である。
ツ(J.Hinz)及びルヒアルト(Chr.Ru¨chart)
“リービヒス・アナーレン・デル・ヒエミー
(Liebig’s Ann.Chem.)”、1972年、第765巻、
第95〜109頁及びドウイスマン(W.Duis−
mann)、ヘルテル(R.Hertel)、マイスター(J.
Meister)及びルヒアルト(Ch.Riichard)”リー
ビヒス・アナーレン・デル・ヒエミー(Liebig’
s Ann.Chem.)”、1976年、第1820〜1833頁に
よつて公知である。このアゾ開始剤は、アゾ基に
結合した分子量71〜97の2個の同じ第3級脂肪族
炭化水素基を含有する。アゾ基に結合した炭素原
子は第3級である。すなわち、この炭素原子は3
個の脂肪族基を有し、そのうち場合によつては2
個の基が結合して環をなしていてよい。炭素水素
基は最低5個、最高7個の炭素原子を含有する
が、最高7個の炭素原子を含有する場合には式
C7H13の環構造を有するにすぎず、環構造のない
炭化水素基C7H15は不適当である。
優れたアゾアルカンは次式に相当する:
この場合、R1はメチル基、R2はエチル基もし
くはプロピル基を表わすか、又はR1及びR2は一
緒になつてテトラメチレン基もしくはペンタメチ
レン基を表わす。
くはプロピル基を表わすか、又はR1及びR2は一
緒になつてテトラメチレン基もしくはペンタメチ
レン基を表わす。
2,2′−アゾ−ビス−2−メチル−ブタン及び
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンが特に
優れている。
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンが特に
優れている。
アゾアルカンは、特に重合可能な化合物100g
当り0.001〜1gの量で使用される。本発明によ
つて使用されるアゾアルカンは、簡単にオーメ
(R.Ohme)及びシユミツツ(E.Schmitz)によ
り、“アンゲヴアンテ・ヒエミー(Angewandte
Chmie)”、第77巻、1965年、第429頁に記載され
た方法により得られる。相応するアルキルアミン
から出発し、このアミンを相応する硫酸−ジアル
キルアミドに変え、このアミドを次亜塩素酸塩で
相応するアゾアルカンに酸化する。アゾアルカン
の製造法は、本発明の対象ではない。
当り0.001〜1gの量で使用される。本発明によ
つて使用されるアゾアルカンは、簡単にオーメ
(R.Ohme)及びシユミツツ(E.Schmitz)によ
り、“アンゲヴアンテ・ヒエミー(Angewandte
Chmie)”、第77巻、1965年、第429頁に記載され
た方法により得られる。相応するアルキルアミン
から出発し、このアミンを相応する硫酸−ジアル
キルアミドに変え、このアミドを次亜塩素酸塩で
相応するアゾアルカンに酸化する。アゾアルカン
の製造法は、本発明の対象ではない。
本発明方法は、特定の重合法に限定されるもの
ではない。例えば、光の作用下に溶液重合又はパ
ール重合を実施することができる。しかし、この
方法では冷却が困難であるために光量によつて重
合温度を制御することが特に重要であるので、本
方法は殊に層厚30〜300mmでの不飽和化合物の塊
重合に使用するのが有利である。
ではない。例えば、光の作用下に溶液重合又はパ
ール重合を実施することができる。しかし、この
方法では冷却が困難であるために光量によつて重
合温度を制御することが特に重要であるので、本
方法は殊に層厚30〜300mmでの不飽和化合物の塊
重合に使用するのが有利である。
アゾ化合物の分解の際に生じるラジカルは、周
知のようにラジカル重合可能な全てのエチレン性
不飽和化合物の重合に好適であり、したがつて本
発明方法は全てのこの種の化合物及びその混合物
又は溶液に限定することなく使用可能である。特
に塊重合に関する本発明の優れた用途は、アクリ
ル化合物及び/又はメタクリル化合物又は主にこ
れらから成る重合可能な種々の化合物の混合物を
重合する点にある。メタクリル化合物のうちでは
メタクリル酸メチルエステルが最も重要である。
知のようにラジカル重合可能な全てのエチレン性
不飽和化合物の重合に好適であり、したがつて本
発明方法は全てのこの種の化合物及びその混合物
又は溶液に限定することなく使用可能である。特
に塊重合に関する本発明の優れた用途は、アクリ
ル化合物及び/又はメタクリル化合物又は主にこ
れらから成る重合可能な種々の化合物の混合物を
重合する点にある。メタクリル化合物のうちでは
メタクリル酸メチルエステルが最も重要である。
重合は実際低い温度、例えば20℃で実施するこ
とができるが、50〜100℃の範囲内の重合温度が
工業的に有利である。一般に、現存する冷却方法
を十分に利用して、温度を単量体の沸点にまだ達
しない程度に上昇させ、光源のスイツチ・イン又
はスイツチ・オフによつて重合温度を同じ高さに
維持するように実施する。これは場合によつては
温度センサによつて制御されるスイツチ装置を用
いて自動的に実施することもできる。
とができるが、50〜100℃の範囲内の重合温度が
工業的に有利である。一般に、現存する冷却方法
を十分に利用して、温度を単量体の沸点にまだ達
しない程度に上昇させ、光源のスイツチ・イン又
はスイツチ・オフによつて重合温度を同じ高さに
維持するように実施する。これは場合によつては
温度センサによつて制御されるスイツチ装置を用
いて自動的に実施することもできる。
本発明方法を次の実施例につき詳説するが、本
発明方法はこの実施態様に限定されるものではな
い。
発明方法はこの実施態様に限定されるものではな
い。
アゾアルカンの製造
A 2,2′−アゾ−ビス−メチルブタン
2,2′−スルフアミド−ビス−2−メチルブ
タン(ペンタン中のN−t−ペンチルアミン及
びSO2Cl2から)119.2g(0.5モル)を12.5%次
亜塩素酸ナトリウム1500ml中のNaOH40gの溶
液に加え、n−ペンタン400mlの添加後、t−
ブタノール40mlと一緒に24時間35℃で撹拌す
る。次に、ペンタン相を分離し、水相をn−ペ
ンタン100ml宛で3回抽出し、合したペンタン
溶液を乾燥する。真空蒸留すると、高い収率で
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルブタン(沸点
5.054℃;n20 D=14300)が得られる。
タン(ペンタン中のN−t−ペンチルアミン及
びSO2Cl2から)119.2g(0.5モル)を12.5%次
亜塩素酸ナトリウム1500ml中のNaOH40gの溶
液に加え、n−ペンタン400mlの添加後、t−
ブタノール40mlと一緒に24時間35℃で撹拌す
る。次に、ペンタン相を分離し、水相をn−ペ
ンタン100ml宛で3回抽出し、合したペンタン
溶液を乾燥する。真空蒸留すると、高い収率で
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルブタン(沸点
5.054℃;n20 D=14300)が得られる。
B 1,1′−ジメチル−アゾシクロペンタン
1,1′−スルフアミド−ビス−1−メチルシ
クロペンタン〔ペンタン中の1−メチル−シク
ロペンチルアミン(この製造法はJ.Hinz,C.R
u¨chardt著、Liebig’s Ann.Chem.、第765
巻、第94頁、1972年、参照)及びSO2Cl2か
ら〕26g(0.1モル)を12.5%次亜塩素酸ナト
リウム溶液300ml中のNaOH8.0gの溶液に加
え、n−ペンタン80ml及びt−ブタノール8ml
の添加後、24時間35℃〜40℃で撹拌する。上記
例Aに記載したようにアゾ化合物を単離する
と、黄色の液体(n20 D=14650)が得られる。
クロペンタン〔ペンタン中の1−メチル−シク
ロペンチルアミン(この製造法はJ.Hinz,C.R
u¨chardt著、Liebig’s Ann.Chem.、第765
巻、第94頁、1972年、参照)及びSO2Cl2か
ら〕26g(0.1モル)を12.5%次亜塩素酸ナト
リウム溶液300ml中のNaOH8.0gの溶液に加
え、n−ペンタン80ml及びt−ブタノール8ml
の添加後、24時間35℃〜40℃で撹拌する。上記
例Aに記載したようにアゾ化合物を単離する
と、黄色の液体(n20 D=14650)が得られる。
C 2,2′−アゾ−ビス−2−メチルプロパン
スルフリルクロリド67.5g(0.5モル)(n−
ペンタン75ml中に溶解)を3時間の経過中にn
−ペンタン250ml中のt−ブチルアミン146.2g
(2モル)の溶液に5℃〜20℃で滴加する。反
応後、蒸留水200mlを徐々に添加し、沈殿を吸
引過し、水で洗浄し、乾燥する。収率:理論
値の70%、ベンゾールからの再結晶後の融点:
141℃。
ペンタン75ml中に溶解)を3時間の経過中にn
−ペンタン250ml中のt−ブチルアミン146.2g
(2モル)の溶液に5℃〜20℃で滴加する。反
応後、蒸留水200mlを徐々に添加し、沈殿を吸
引過し、水で洗浄し、乾燥する。収率:理論
値の70%、ベンゾールからの再結晶後の融点:
141℃。
スルフアミドを前記のように次亜塩素酸ナト
リウムでアゾ化合物に酸化し、蒸留するとこの
アゾ化合物(沸点5640℃;n20 D=13961) D 2,2−アゾ−ビス−2,4,4−トリメチ
ル−ペンタン 2,2′−スルフアミド−ビス−2,4,4−
トリメチル−ペンタン(例C)に記載のように
製造、融点80℃)57.7g(0.18モル)を次亜塩
素酸ナトリウム溶液で20時間35℃で酸化する。
単離した生成物、2,2′−アゾ−ビス−2,
4,4−トリメチル−ペンタン、を真空蒸留に
よつて精製する;収率:理論値の50%、沸点:
88℃/0.8mmHg、n20 D=14450。
リウムでアゾ化合物に酸化し、蒸留するとこの
アゾ化合物(沸点5640℃;n20 D=13961) D 2,2−アゾ−ビス−2,4,4−トリメチ
ル−ペンタン 2,2′−スルフアミド−ビス−2,4,4−
トリメチル−ペンタン(例C)に記載のように
製造、融点80℃)57.7g(0.18モル)を次亜塩
素酸ナトリウム溶液で20時間35℃で酸化する。
単離した生成物、2,2′−アゾ−ビス−2,
4,4−トリメチル−ペンタン、を真空蒸留に
よつて精製する;収率:理論値の50%、沸点:
88℃/0.8mmHg、n20 D=14450。
重合例
例 1
ベンゾール中のメチルメタクリレート3モル溶
液を、2,2′−アゾ−ビス−2−メチルブタン
0.02モル/を用い紫外線灯(Philips
TLA20W/05)の300〜400nmの波長領域内の光
の作用下で80℃で重合させた。
液を、2,2′−アゾ−ビス−2−メチルブタン
0.02モル/を用い紫外線灯(Philips
TLA20W/05)の300〜400nmの波長領域内の光
の作用下で80℃で重合させた。
時間−変換率の経過は、第1図に記載されてい
る。同一条件下で等量の2,2′−アゾ−ビス−2
−メチルプロパン(3)又は2,2′−アゾ−ビス−2
−メチルヘキサン(4)で達成される重合速度の2倍
よりも高い重合速度1が得られる。この重合の時
間−変換率の経過は、同様に第1図に記載されて
いる。
る。同一条件下で等量の2,2′−アゾ−ビス−2
−メチルプロパン(3)又は2,2′−アゾ−ビス−2
−メチルヘキサン(4)で達成される重合速度の2倍
よりも高い重合速度1が得られる。この重合の時
間−変換率の経過は、同様に第1図に記載されて
いる。
例 2
例1を繰り返すが、2,2′−アゾ−ビス−2−
メチルブタンの代りに2,2′−アゾ−ビス−2−
メチルペンタンを使用する。第1図に曲線2で記
載した重合経過が得られる。
メチルブタンの代りに2,2′−アゾ−ビス−2−
メチルペンタンを使用する。第1図に曲線2で記
載した重合経過が得られる。
例 3
例1を繰り返すが、メチルメタクリレートの代
りにn−ブチルアクリレートを重合させる。全重
合速度は、3.1%・min-1であつた。この反応の時
間−変換率の経過は、同様に第1図に曲線5とし
て記載されている。
りにn−ブチルアクリレートを重合させる。全重
合速度は、3.1%・min-1であつた。この反応の時
間−変換率の経過は、同様に第1図に曲線5とし
て記載されている。
例 4
ベンゾール中のスチロールの3モル溶液を2,
2′−アゾ−ビス−2−メチルブタンと例1に記載
した条件下で重合した。開始剤2,2′−アゾ−ビ
ス−2−メチルブタンを用いると、2,2′−アゾ
−ビス−2−メチルプロパン(2)を用いた場合より
も明らかに高い重合速度1が得られる。この双方
の重合反応の時間−変換率の経過は、第2図に曲
線1及び2として記載されている。
2′−アゾ−ビス−2−メチルブタンと例1に記載
した条件下で重合した。開始剤2,2′−アゾ−ビ
ス−2−メチルブタンを用いると、2,2′−アゾ
−ビス−2−メチルプロパン(2)を用いた場合より
も明らかに高い重合速度1が得られる。この双方
の重合反応の時間−変換率の経過は、第2図に曲
線1及び2として記載されている。
例 5
メチルメタクリレートを酸素の遮断下に2,
2′−アゾ−ビス−イソバレロニトリル0.01%及び
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタン0.005
%を用い加圧しながら断熱条件で25℃から重合さ
せる。温度は、約110℃に上昇する。この場合、
2,2′−アゾ−ビス−バレロニトリルは完全に分
解し、その結果重合は停止する。試料は、試料を
室温に冷却した後、まだ分解されていない2,
2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンに光を作用
させることにより最終的に重合させる。重合物質
中の温度は、光線の照射量によつて制御する。
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンをより
低い熱安定度を有する2,2′−アゾ−ビス−2−
メチル−4,4−ジメチルペンタンに代えると、
重合は第1工程ですでに制御不能となる。
2′−アゾ−ビス−イソバレロニトリル0.01%及び
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタン0.005
%を用い加圧しながら断熱条件で25℃から重合さ
せる。温度は、約110℃に上昇する。この場合、
2,2′−アゾ−ビス−バレロニトリルは完全に分
解し、その結果重合は停止する。試料は、試料を
室温に冷却した後、まだ分解されていない2,
2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンに光を作用
させることにより最終的に重合させる。重合物質
中の温度は、光線の照射量によつて制御する。
2,2′−アゾ−ビス−2−メチルペンタンをより
低い熱安定度を有する2,2′−アゾ−ビス−2−
メチル−4,4−ジメチルペンタンに代えると、
重合は第1工程ですでに制御不能となる。
例 6
メチルメタクリレートを光の作用下に2,2′−
アゾ−ビス−2−メチルブタン0.01重量%を用い
浴温16℃で層厚12cmで重合させる。この場合、2
%・h-1の変換速度で、約30%の変換率が達成さ
れるまで20℃の内部温度が保たれる。その後、内
部温度は急速に上昇し、照射される光のエネルギ
ーを減少させることによつて60℃〜70℃に一定に
維持する。約80%の変換率が得られたら直ちに光
のエネルギーを再び高め、約110℃で最終的に重
合させる。生成したブロツクは視覚的に透明であ
り、封入気泡を示さない。これは、光開始剤2,
2′−アゾ−ビス−2−メチルブタンを2,2′−ア
ゾ−ビス−2−メチル−4,4−ジメチルペンタ
ンに代えた場合には当嵌らない。この場合には、
ブロツクの内部温度は、30%以上の変換率の後、
もはや光の照射を減らしても70℃以下に維持する
ことができない。むしろ、開始剤の熱分解によつ
て重合は制御できなくなり、温度は150℃以上に
上昇する。多孔質の最終生成物が得られる。
アゾ−ビス−2−メチルブタン0.01重量%を用い
浴温16℃で層厚12cmで重合させる。この場合、2
%・h-1の変換速度で、約30%の変換率が達成さ
れるまで20℃の内部温度が保たれる。その後、内
部温度は急速に上昇し、照射される光のエネルギ
ーを減少させることによつて60℃〜70℃に一定に
維持する。約80%の変換率が得られたら直ちに光
のエネルギーを再び高め、約110℃で最終的に重
合させる。生成したブロツクは視覚的に透明であ
り、封入気泡を示さない。これは、光開始剤2,
2′−アゾ−ビス−2−メチルブタンを2,2′−ア
ゾ−ビス−2−メチル−4,4−ジメチルペンタ
ンに代えた場合には当嵌らない。この場合には、
ブロツクの内部温度は、30%以上の変換率の後、
もはや光の照射を減らしても70℃以下に維持する
ことができない。むしろ、開始剤の熱分解によつ
て重合は制御できなくなり、温度は150℃以上に
上昇する。多孔質の最終生成物が得られる。
第1図は、本発明による重合開始剤及び類似構
造の実合開始剤を用いる場合のメチルメタクリレ
ート溶液の光重合速度を示す時間−変換率曲線図
であり、第2図は、スチロール溶液の2,2′−ア
ゾ−ビス−2−メチルブタン(1)又は2,2′−アゾ
−ビス−2−メチルプロパン(2)との光重合速度を
表わす第1図と同様の時間−変換率曲線図であ
る。
造の実合開始剤を用いる場合のメチルメタクリレ
ート溶液の光重合速度を示す時間−変換率曲線図
であり、第2図は、スチロール溶液の2,2′−ア
ゾ−ビス−2−メチルブタン(1)又は2,2′−アゾ
−ビス−2−メチルプロパン(2)との光重合速度を
表わす第1図と同様の時間−変換率曲線図であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 200〜500nmの波長の光を、100℃以下の温度
で起きるような強さで照射する、アゾ化合物の存
在下でのラジカル重合可能なエチレン性不飽和化
合物の光重合法において、アゾ化合物としてアゾ
基に結合した、分子量71〜97の第3級脂肪族炭化
水素基を含有する対称アゾアルカンを使用するこ
とを特徴とする、アゾ化合物の存在下でのラジカ
ル重合可能なエチレン性不飽和化合物の光重合
法。 2 アゾアルカンを重合可能な化合物100g当り
0.001〜1gの量で使用する、特許請求の範囲第
1項記載の方法。 3 アゾアルカンとして式: 〔式中、R1はメチル基、R2はエチル基もしく
はプロピル基を表わすか又はR1及びR2は一緒に
なつてテトラメチレン基もしくはペンタメチレン
基を表わす〕で示される化合物を使用する、特許
請求の範囲第1項又は第2項に記載の方法。 4 アゾアルカンとして2,2′−アゾ−ビス−2
−メチルブタン又は2,2′−アゾビス−2−メチ
ルペンタンを使用する、特許請求の範囲第3項記
載の方法。 5 重合可能な化合物として主にアクリル化合物
及び/又はメタクリル化合物を使用する、特許請
求の範囲第1項から第4項までのいずれか1項に
記載の方法。 6 メタクリル化合物としてメタクリル酸メチル
エステルを使用する、特許請求の範囲第5項記載
の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782831159 DE2831159A1 (de) | 1978-07-15 | 1978-07-15 | Verfahren zur photopolymerisation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5516083A JPS5516083A (en) | 1980-02-04 |
| JPS621401B2 true JPS621401B2 (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=6044464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8838079A Granted JPS5516083A (en) | 1978-07-15 | 1979-07-13 | Photopolymerization of ethylenic unsaturated compound which is able to radicaly polymerize under presence of azo compound |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4279719A (ja) |
| EP (1) | EP0006972B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5516083A (ja) |
| CA (1) | CA1120886A (ja) |
| DE (2) | DE2831159A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5986603A (ja) * | 1982-11-11 | 1984-05-18 | Showa Denko Kk | 光重合性組成物 |
| WO1994028080A1 (en) * | 1993-06-02 | 1994-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Novel composite structures |
| US20030164580A1 (en) * | 2000-09-14 | 2003-09-04 | Karsten Rinker | Acylphosphine oxide photoinitiators in methacrylate casting resins |
| DE102007035735A1 (de) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Pastenförmige, polymerisierbare Dentalmassen und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB622374A (en) * | 1946-03-16 | 1949-05-02 | Du Pont | Improvements in and relating to the photo-polymerisation of compounds containing theethylene double bond |
| DE1720367A1 (de) * | 1966-03-08 | 1971-07-08 | Ceskoslovenska Akademie Ved | Verfahren zur Herstellung von Polymeren durch Photoinitiation und geeignete Initiatoren |
| DE2130070C3 (de) | 1971-06-18 | 1981-08-20 | Röhm GmbH, 6100 Darmstadt | Verfahren zur Photopolymerisation von Acryl-, Methacrylverbindungen oder Styrol in Gegenwart von Azoverbindungen |
| US4048423A (en) * | 1974-03-21 | 1977-09-13 | Pennwalt Corporation | Process for polymerizing unsaturated monomers and unsaturated polyester resins employing unsymmetrical tertiary-aliphatic azoalkanes |
-
1978
- 1978-07-15 DE DE19782831159 patent/DE2831159A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-03-31 DE DE7979101003T patent/DE2962170D1/de not_active Expired
- 1979-03-31 EP EP79101003A patent/EP0006972B1/de not_active Expired
- 1979-06-12 US US06/047,769 patent/US4279719A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-13 JP JP8838079A patent/JPS5516083A/ja active Granted
- 1979-07-16 CA CA000331899A patent/CA1120886A/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2831159A1 (de) | 1980-01-24 |
| CA1120886A (en) | 1982-03-30 |
| EP0006972A1 (de) | 1980-01-23 |
| JPS5516083A (en) | 1980-02-04 |
| DE2962170D1 (de) | 1982-03-25 |
| US4279719A (en) | 1981-07-21 |
| EP0006972B1 (de) | 1982-02-24 |
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