JPS6217701A - 反射防止膜を有する液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、外部ガラス基板および／または液晶セルのガ
ラス基板上に良好な反゛射防止膜を有する液晶表示装置
に関する。

〔発明の概要〕

本発明は、液晶表示装置の外部ガラス基板および／また
は液晶セルのガラス基板上に屈折率の異なる三層の薄膜
を施すことにより画面の鮮明度の向上をはかり、且つそ
れぞれの薄膜の構成成分の少くとも２０重ｉ％が有機物
からなる成分で構成される為、耐衝撃性、耐アルカリ性
、耐熱性、易加工性、染色性にすぐれ、また、溶液或い
はコロイド状懸濁液を塗布し、乾燥硬化反応全行う為、
蒸着その他の従来技術に較べ、大容量、大量生産を可能
としたものである。

〔従来の技術〕

従来、液晶表示装置の液晶セルに反射防止膜を施す技術
は、セグメント形表示方式やマトリクス形表示方式では
利用されておらず、元アドレス不形液晶表示装置のガラ
ス基板上に用いられることが知られている。筐た、液晶
表示装置ｔ−ａう外部ガラス基板に、反射防止膜を設け
たものも見られなかった。

反射防止膜の理論とその積１法については、多くの方法
が提案されており、真空蒸着法により、金属酸化物やフ
ッ化物等の薄膜を形成する方法やスパッタ蒸着、イオン
ブレーティング等のＰＶＤ法や各種のＣＶＤ技術が一般
的である。

一方、これらの物理蒸着法以外に、液状で塗布し硬化さ
せることによって反射防止膜を得る方法として、特開昭
５８−４６３０１号公報にはニーからなる反射防止膜、
特開昭５９−４９５０１号公報には三層からなる反射防
止膜が提案されている。これらの方法は、チタンアルコ
ラードとコロイダルシリカからなる組成物を高屈折率薄
膜用材料に用い、シランカップリング剤とエポキシ化合
物およびコロイダルシリカからなる組成物全低屈折率薄
膜用材料に用いることにより反射防止効果全発現してい
る。

また、特開昭５７−５７５０１号公報には、合成樹脂の
層からなる単ｒ？１１または多層の反射防止膜を施した
合成樹脂製レンズが提案されており、この方法では、高
屈折率薄膜用材料として、チタン、タンタル等のアルコ
ラード、メラミン樹脂等が用いられている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、前述の従来技術の内、真空蒸着法、スパッタ蒸
着、イオンブレーティング、ＣＶＤ法等による反射防止
膜を有する薄膜形成法は、（１）　　高度の真空度全要
する為、処理すべき基板の大きさ、材料に制限を生じ、
大容量化の方向にある液晶表示パネルの薄膜形成法とし
て適当ではない。また、製造時間が長くかかり、生産性
、経済性が低い。

（２）染色、着色等の加工性に乏しい為、可視部に吸収
帯を持つ蒸着材料による着色に限定される。

また、反射防止加工後の着色や染色は不可能である。

等の問題点を有する。

また、特開昭５８−４６３０１号公報、特開昭５９−４
９５０１号公報による方法では、各層の密着性に難点が
ある。また、塗膜の柔軟性が乏しい為に、加工条件によ
ってはクラックが発生するという問題点を有する。

また、特開昭５７−５７５０１号公報の実施例に開示さ
れた方法では、反射防止効果が充分でなく、また耐水性
も充分でｈｚいという問題点全有する。

そこで、本発明はこのような問題点全解決するもので、
その目的とするところは画面の鮮明度の向上をはかるた
めの優れた反射防止特性ｔＶし、且つ、経済性が高く、
広い面積金有する大容量パネルの生産に適し、さらに、
大量生産が可能な反射防止膜ｙｋ有する。

液晶表示装置全提供するところにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の反射防止膜を有する液晶表示装置は、α）外部
ガラス基板および／または液晶セルのガラス基板の表面
に該基板から大気側にむかって、■、［ロ］、［ハ］の
三−の薄膜からなる反射防止膜を形成するにあたり、 ｂ）前記■、■、θの各薄膜の構成成分が、それぞれ少
くとも２０重量％の金属原子に結合した有機基成分或い
は樹脂化合物成分と、８０重量％未満の金属酸化物或い
に有機鎖に結合した金属原子からなり、 Ｃ）■、［ロ］、［ハ］の三層の光字特性は、各々■　
１．５５（ルα（１，８０ルα、ｄα＝ｔλ１／４　（
Ｂ、） ＠　　１．６５（ｎＡ（２，２５ ｎ　ｂ　、　ｃｌ　ｂ＝ｍＡ２／４　　（ｎｍ）ルｂ＞
ルα θ　１．４０（ルｃ　（１，５０ ｎｃ、ｄｃ＝ｎλｓ／４　（ｎｍ） （ここで、九α、ルｈ、ｎｃは各々、０層、＠ｌ―、０
階の屈折率、ｄａ、ｃＬｂ、ｄａ　は各々、■１４１ｉ
、＠）層、０層の膜厚（ｒＬ、）　　１−表し、屏は正
の整数、ｔ。

ルは正の奇数、λ１．λ８．λ、は各々独立に可視領域
の波長（ルＷＬ＞　　１表す。また、ルα〉（基板の屈
折率）である。）の条件を満たし、 ＬＬ）　　■、［ロ］、［ハ］の各薄膜は、各々、溶液
或いはコロイド状懸濁液からなるコーティング溶液を塗
布し、加熱、乾燥、或いは活性エネルギー線により硬化
させて施した光学薄膜を液晶表示装置のガラス基板に積
層したこと全特徴とする。

本発明における反射防止膜は、液晶表示装置のガラス基
板へ塗布されるが、外部ガラス基板と液晶セルのガラス
基板の両方に反射防止膜を施すことにより、さらに鮮明
な画像を得ることができる。

反射防止膜として、屈折率の相異なる三層の薄膜全基板
上に形成する訳であるが、薄膜の光学機能は、それぞれ
の薄膜全形成するコーティング組底物およびその塗布法
・硬化法によシその性能が決足づけられる。本発明にお
ける■鳴、０層、０層全形成させる為のコーティング材
料としては、金属酸化物微粒子を溶剤にコロイド状に分
散した懸濁溶液、そして金属アルコラード、金属キレー
ト、金属アシレートやその加水分解縮合物、そして天然
樹脂、合成樹脂等の高分子、そして重合性単量体、熱硬
化反応型化合物、カップリング反応型単量体、縮重合型
単量体等の反応性化合物から選ばれる少くとも１成分か
らなるものである。

上記の金属酸化物全溶剤に分散させたものとは、粒径１
〜１００ｍμのシリカ微粒子からなるコロイダルシリカ
をはじめとし、アルミナゾル、酸化ジルコニウムゾル、
五酸化アンチモンゾル、酸化チタンゾル、酸化スズゾル
、酸化鉄ゾル、三酸化クロムゾル、酸化セリウムゾル、
三酸化イツトリウムゾル、酸化タンタルゾル等があげら
れる。更に、ハフニウム、トリウム、バナジウム、ニオ
ブ、モリブデン、鉛、亜鉛等の酸化物の分散体も使用出
来る。また、導電性向上等の目的で該微粒子に、その他
の金属酸化物をドープしたものを用いて所与の特性を付
加することもＭ用である。

また、有機残基金有する金属化合物としては、一般式札
Ｒ％Ｂｉ、−α−ｂ　で表されるシランカップリング剤
や、テトラアルコキシシラン等がある。これらの加水分
解物、部分縮合物等も同等の性質を有する。ここでＲ１
は、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、ハロゲン
基等、またＲ１は、エポキシ基、アミノ基、アミド基、
メルカプト基、メタクリロイルオキシ基、シアノ基、核
ハロゲン化芳香環を有する基等を含む有機基を示し、Ｘ
は、ハｌ：Ｉゲ：４．フルコキシル基、アルコキシアル
コキシル基、アシルオキシ基等の加水分解可能な基を示
す。また、α、ｈは各々Ｉ１１または２で、α＋ｂが１
ないし３である。これらの化合物の例としては、テトラ
メトキシシラン等の四官能シラン、メチルトリメトキシ
シラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロ
ピルトリメトキシシラン、β−（５，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルトリメトキシ７ラン、γ−メルカプトグロ
ビルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、Ｎ−Ｂ−（アミノエチル）−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリ
メトキシシラン、γ−シアノグロビルトリメトキシシラ
ン、γ−モルフオリノグロビルトリメトキシシラン、Ｎ
−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等の三官
能シラン、前記三官能シランの一部がメチル基、エチル
基、ビビニル基に置換した三官能シラン等が挙げられる
。

この他、特に低屈折率層を形成させる為に、パーフルオ
ロアルキル基會含む官能シラン化合物が好適である。

ま次、シラン以外の有機残基金有する金属化合物は、全
般に屈折率の高い薄膜形成に有用である。

この例としては、チタネート系カップリング剤−？アル
ミニウム系カップリング剤ｔｈしめ、ジルコニウム、メ
ンタル、スズ、インジウム等のアルコラード、アシレー
トやキレート性化合物が有用である。この他、これらと
類似の方法で調整出来るハフニウム、トリウム、バナジ
ウム、ニオブ、クロム、モリブデン、マンガン、鉄、セ
リウム、ランタン、鉛、亜鉛等のアルコラード、アシレ
ート、キレート性化合物等も利用可能である。

これら好適な化合物として、テトラインプロピルチタネ
ート、テトラ−ループチルチタネート、テトラキス（２
−エチルヘキシル）チタネート、ジイソプロピル・ビス
（アセチルアセトン）チタネート、ジ−ループチル・ビ
ス（トリエタノールアミン）チタネート、ジヒドロキシ
・ビス（ラクテート）チタン、イソプロピル・オクチレ
ングリコールテタネート、イソプロピルトリイソステア
ロイルチタネート、イングロビルドデシルベンゼ７　ス
ル；ｆ−ニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオク
チルパイロホスフェート）チタネート、テトライソプロ
ピルビス（ジオクチルホスフェート）チタネート、テト
ラオクチルビス（ジトリデシルホスフェート）チタネー
ト、テトラ（２，２−ジアリルオキシメチル−１−ブチ
ル）ビス（ジ−トリデシル）ホスフェートチタネート、
ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテー
トチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェートエ
チレンチタネート、イングロビルトリオクタイノルチタ
ネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチ
タネート、イソプロピルインステアロイルジアクリルチ
タネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート
）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネ
ート、イソプロピルトリ（Ｎ−アミノエチル・アミノエ
チル）チタ＊−ト、ジクミルフェニルオキシアセテート
チタネート、ジイソステアロイルエチレンナタネート等
のチタンカップリング剤や、アルコラード全一部加水分
解縮合したチタンアルコラードプレポリマーなどが挙げ
られる。有機チタン化合物としてはこれら以外に、その
有機基が他のアルコールで置換したアルコラードや、有
機酸で置換したアシレート、更にアセト酢酸エチルやエ
チレングリコール、サリチルアルデヒド、酒石酸、乳酸
、ジアセトンアルコール等のキレート性化合物の配位し
たものも使用できる。

またジルコニウム化合物としては、テトライソグロビル
ジルコネート、テトラ−ループチルジルコネート等のア
ルコラードやその部分縮合したプレポリマー、ジインプ
ロピル・ビス（アセチルアセトン）ジルコネート、ビス
（アセチルアセトン）ジルコネート、ビス（アセチルア
セトン）ジルコネート等のキレート化合物’ｔｈじめ、
チタン化合物と同様の置換基金もつ几有機ジルコニウム
化合物が利用できる。

また、タンタル、スズ、アルミニウム等の化合物は、そ
れぞれ５，２．３の配位数をもつ以外は上記のものと同
様の有機金属類が扱える。即ち、ペンタエトキシタンタ
ル、ペンタブトキシタンタル、ジェトキシスズ、ジブト
キシスズ、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポ
キシアルミニウム等のアルコラード及び、アセチルアセ
トンや乳酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸等の配位子
をもつキレート化物、アシレートやエチレングリコール
等の置換した化合物が挙げられる。

また、これら以外にアンチモン、鉄、クロム、セリウム
、イツトリウム、ハフニウム、トリウム、バナジウム、
ニオブ、モリブデン、鉛、亜鉛から選ばれる金属のアル
コラード、アシレート、キレート化合物も使用可能であ
る。

また、以上述べた化合物の有機残基成分が、ポリアクリ
ル酸、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール
、ポリビニルアミン等、結合性残基成分金有する高分子
材料で置換したもの上用いても差支えない。

次に、天然樹脂、合成樹脂等の高分子材料としては、生
な目的は、金Ｊ４原子の安定化剤、或いは柔軟性、被染
色性、靭性を付与することである。

材料の例としては、カルボキシアルキル化セルロース等
のセルロース類、テルペン系ｍ脂、ｙｖコ−ス誘導体、
ポリアミノ酸、キチン、キトサン類、デンプン類の天然
高分子やポリビニルアルコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリメ
タクリル酸エステル、ポリビニルアミン、ポリウレタン
、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリビ
ニルイミダゾール等の極性基全方する合成高分子や、ポ
リスチレン、ビスフェノールＨ，ｙｔ４　＋）　カーｒ
ｔｌネ−ト等の含芳香族高分子やポリサル７オン類の高
屈折率高分子、フッ素樹脂のような低屈折率高分子が挙
げられる。

また、粘度調整、特性改質、強靭さ、耐久性を得る為に
加える反応性化合物の例としては、元硬化型の多官能ア
クリレート類をはじめとして、エチレングリコールジグ
リシジルエーテル等のエポキシ化合物、ラクトン等の開
環重合性モノマー、インシアネート類等の反応性七ツマ
−を挙げることができる。

また、更に、これらの反応基の反応を促進する硬化触媒
を加えて、キユアリング時間の短縮や架橋密度の増大を
図ることもできる。

これらの有機成分は、形成された薄膜中に、少くとも、
２０１量Ｓｔ−含むことが必要である。すなわち、２０
重ｔチ以下では、弾力性が充分でなく、耐クラツク性等
の耐久性に劣る。また、薄膜各層間の付着性も充分なも
のが得られない場合が多い。また、上限は限定されない
が、Ｍ機成分の多いものは、硬さが劣る傾向にあり、ま
た、高屈折率層の屈折率を高く保つことが難しくなる。

従って、用途との兼ねおいて該範囲でＭ機物成分の種類
と含量を決めてゆくべきである。

これらの材料は、適当な溶剤に希釈して用いる。

すなわち、アルコール類、エステル類、ケトン類、セロ
ソルブ類、ホルムアミド類や水、フレオン等の溶剤音用
いて、１〜２０重量％の固形分を含む溶液が好適である
が、必ずしも限足されるものではない。

また、界面活性剤や紫外線吸収剤、酸化防止剤、チキン
トロピー剤、顔料、染料、帯電防止剤、導電性粒子等を
加えることもできる。

このようにして得られた組成物は、公知の方法で塗布、
硬化させることによって塗膜を形成させる。即ち、フロ
ーコート、ディップコート、スピンコード、ロールコー
トおよび、各種の改善されたコーティング方法を用いる
ことができる。

また、乾燥と硬化は、用いる成分によって決められるが
、好１しくに４０℃〜１３０℃で、１０分〜１０時間の
カロ熱による硬化が実用的である。

また、用いた成分中の反応基の架橋、重合反応を促進す
る為、赤外線、紫外線や、γ線、電子線の照射を行うこ
とによっても硬化を行うことが出来る。

また、本発明の■、■、６層の塗工前に、その付着性を
向上させる為、アルカリ性溶液或いは酸化力のある強酸
による処理、オゾン処理、電荷を負荷した火炎による処
理、プラズマガスによる処理、酸化剤と還元剤による処
理等の適当な表面処理の方法の一種以上の処理を行うこ
とが出来る。

本発明における反射防止薄膜の屈折率は、基材から第１
層、第２１ｉ＃、第３層の屈折率がそれぞれ１．５５〜
１．８０　、および１．６５〜２．２５および１．４０
〜１．５０であシ、且つ屈折率は第２ｒ＠が最も高く、
次に第１層、第３層と低くなるものである。またルαは
基材の屈折率より高いものを選択する必要がある。一方
、膜厚は、溶剤或いはコーティング法で調整する事によ
り任意の値に設足出米る為、屈折率の組合せに応じた任
意の膜厚の組合せから選択するが、特に各層の光学膜厚
は、可視波長の四分の−の整数倍が好ましい。これらの
光学的条件から外れる場合は、反射防止特性が劣るため
好ましくない。

〔実施例〕

以下、実施例により、本発明を更に詳しく説明するが、
本発明はこれらの実施例に限足されるものではない。

実施例１ （１）高屈折率用コーテイング液（Ａ１）の調合反応用
フラスコ内に、エタノール１５５ｔｆ入れ、攪拌下、γ
−グリシドキシグロビル（メチル）ジメトキシシラン１
０ｔ、エタノール分散コロイダル７リカ（オスカル１２
３２．触媒化成（書、固形分濃度３０％）５．Ｏｆ、テ
トラブチルチタネートのテトラマー（ＴＢＴ−Ｂ４　　
日本１違（…）５０ｆｆ７ＪＱえたのち、室温下、１昼
夜放置した。

つづいて、メチルエチルケトン１００？およびシリコン
系界面活性剤α０２２を加えコーテイング液とした。こ
の塗液の粘度は、１．５センチストークス（２０℃）、
固形分濃度な６７重量％であった。

（２）低屈折率用コーテイング液（Ａ２）の調合反応用
フラスコに、エタノール（６０？　を入ｎ攪拌下、γ−
グリシドキシグロビルトリメトキ７シラン１ｉ９Ｆ、イ
ングロビルビルアルコール分散コロイダルシリカ（オス
カル１４３２　　触媒化成（…　固形分−１ｉ３０％）
１０２を加えたのち、（１０５規足の塩酸水工５ｖを滴
下した。この液を一昼夜、室温にて熟成を行ったのち、
シリコン系界面活性剤ｌｌ０２ｆおよび、メチルエチル
ケトン１００ｆｆ、加え、更に攪拌下、グリセロールジ
グリシジルエーテルａ４ｆｔ、過塩素酸マグネシウムα
１５？を加え、溶解させた。この塗液の粘度は、１．４
センチストークス（２０℃）、固形分濃度は、１１重量
％であった。

（８）　　中屈折率用コーテイング液（Ａ５）の調合中
屈折率コーテイング液（Ａ５）は、（Ａ１）と（Ａ２）
各々１００？ずつを混合して（Ａ５）とした。

この液の粘＃は、１．５センチストークス（２０℃）、
固形分濃度は、＆８ｆｉ：１％であった。

（４）反射防止膜を有する外部ガラス基板の作成液晶表
示時計の外部ガラス基板（屈折″＄１．５４）に反射防
止加工全行った。これに先立ち、（Ａ１）、（Ａ２）、
（Ａ５）の各コーティング液金、メンツラインフィルタ
ーによりろ過全行い、巨大粒子や不溶分金除去して用い
念。

最初に、中屈折率用コーテイング液（Ａ３）にディップ
を行った。この時の液温は１１℃で、引き上げ速度は３
ｃｆＲＺ分であった。ディップ後、該ガラス基板金、８
０℃で２５分間乾燥硬化させた。

続いて、このガラス基板金、５％ＮａＯＨ水溶液中に６
分間浸し、アルカリ処理を行った後、十分水洗いし乾燥
後、高屈折率用コーテイング液（Ａ１）にディップを行
った。この時の液温は１０℃で、引き上げ速度は４備／
分であった。ディップ後、８０℃で２５分間乾燥硬化さ
せた。

上記二層の薄膜全施し九ガラス基板を、１．０５Ｎ塩酸
水溶液で４分間処理した後、十分乾燥させ、低屈折率用
コーテイング液（Ａ２）′ｔｔ−ディラグ性行た。この
時の液温は１１℃で、引き上げ速度は五５儒／分であっ
た。ディップ後、８０℃で６０分、更［１３０℃で６０
分乾燥硬化した。

このようにして得られた液晶表示時計の外部ガラス基板
は緑色の反射干渉色全示し、また可視光透過″Ｓは９ａ
２チであった。

筐た、クロスカットテープテスト、温水煮沸テスト、慮
外暴露テスト（１ケ月）、サンシャインウエザーメータ
ーテス）（５００時間）により、薄膜の密着性の評価を
した結果、良好な結果を示した。尚、（人３）、（Ａ１
）、（Ａ２）の各液を塗布して得られた薄膜を各々、１
１．１２．１３着とすると、屈折率と膜厚は各々、 薄膜　　屈折率　　膜厚（ｒＬ、） １１　　　　　１．６７　　　　　７９１２　　　　　
１．８２　　　　　７５１３　　　　　１．４９　　　
　８７ であった。

実施例２ 反射防止膜を施す基板として、自動車のダツシュボード
表示に使われているカラー液晶表示装置の外部ガラス基
板（屈折率１．５４　）　ｔｌ−用いた他は、実施例１
と同様の反射防止膜全施した。これらの緒特性は、実施
例１と同様に良好であり、画面の鮮明度の向上が認めら
れた。

実施例３ 反射防止膜とじてに、実施例１の（Ａ１）、（Ａ２）、
（、Ａ３　）’に利用し、これらの薄膜を以下の方法で
、大容量液晶表示セルのガラス基板に積層した。

液晶注入前の液晶セルにおいて、注入口金封止し、実施
例１と同様の方法で、（Ａ３）、（Ａ１）、（Ａ２）の
薄膜を順にディップし、加熱硬化後、液晶注入口金開け
、液晶材料全注入し、再び注入口の封止全行った。緒特
性は実施例１．２と同様に良好であった。

実施例４ （１）　　高屈折率用コーテイング液（Ｂ１）の調合反
応用フラスコ内に、イングロビルアルコール４５？、テ
トラブトキシジルコニウムの酢酸エチル溶液（商品名“
アトロンＮＺｒ”日本１達■製、Ｚｒ０１含ｉ１５％）
　１００ｊ’、γ−グリシドキシグロビルトリメトキシ
シラン１２．５Ｆおよびアセチルアセトン４０ｆ’ｉ加
えて室温下、２時間攪拌を行った。続いて、水金分散媒
とする酸化ジルコニウムゾル（ＺｒＯ，含［２０％、酢
酸安定化物、日量化学（轡製）２５ｆに氷酢酸１５１、
メタノール６０ｆ’ｉ攪拌下、滴下し変成した溶液を前
記反応液に加えた。続いて、α０２２の過塩素アンモニ
ウムを加えてコーティング塗液とした。

この塗液の粘度は、１．８センチストークス（２０℃）
で、固形分濃度は、４３重量％であった。

（２）低屈折率用コーテイング液（Ｂ２）の調合低屈折
率コーテイング液として、市販のフッ素シリコーンコー
ティング剤（商品名″’ＫＰ−８０１’。

信越シリコーン（彎製、固形分濃度５％）全周いた（８
）中屈折率用コーテイング液（Ｂ３）の調合前述の（＊
２）５０Ｆおよび（Ｂ１　）７５１を混合し、中屈折率
コーテイング液（Ｂ３）とした。

この塗液の粘度は、１．６センチストークス（２０℃）
で固形分濃度は、６．５重量％であった。

（４）反射防止膜上有する外部ガラス基板の作成電卓用
液晶表示装置の外部ガラス基板（屈折率１、５４　）に
反射防止膜全施し次。コーティングと表面処理は、（Ｂ
６）、（Ｂ１）、（Ｂ２）の順に実施例１と同様の方法
で行った。また、コーテイング液の液温と引き上げ速度
は、（Ｂ３）、１０”Ｃ３ａｎ　７分、（Ｂ１　）　１
１℃、五５ｃＭ／分、（Ｂ２）１０℃、３ｃ！Ｒ／分で
行った。

このようにして得られた外部ガラス基板の反射干渉色は
青緑で、可視光透過率は、９ａ３チであった。尚、（Ｂ
３）、（Ｂ１）、（Ｂ２）の各液を塗布して得られた塗
膜を各々２１．２２．２３層とすると、屈折率と膜厚は
各々、 薄膜　　屈折率　　膜厚（４風） ２１　　　　　１．６５　　　　　７６．０２２　　　
　　１．８４　　　　　７Ｑ、３２５　　１．４７　　
８１１Ｌ２ であった。

実施例５ 反射防止膜としては、実施例４の（Ｂ１）、（Ｂ２）、
（Ｂ３）を利用し、これらの薄膜を、ポケット型液晶カ
ラーテレビ（諏訪精工金製−商品名“テレビアン”）の
液晶ディスプレイ金種う外部ガラス基板に積層した。積
層方法は、実施例４と同様に行った。膜の緒特性は、実
施例４七同様良好であり、画像の鮮明度の向上が認めら
れた。

比較例１ 市販の時計、計算機等の液晶表示装置に使われている外
部ガラス基板の可視光透過率を測足した結果、９１．７
チ〜９４．０％であった。

比較例２ Ｓ１０＊　＋　”Ｏｔ　ｒ　Ａ４０ｓ　ｔ”真空蒸着法
により、ガラス板（屈折率１．５４　）上に積層した。

基板と反射防止膜の密着性等各種性能は良好であったが
、基板の大きさが制限された。

〔発明の効果〕

以上述べたように、本発明によれば、液晶表示装置の外
部ガラス基板および／またに液晶セルのガラス基板に反
射防止膜を施すことによジ、反射防止膜が、三ｌ！ｌの
異なる屈折率の薄膜よりなり、且つ各薄膜の少くとも２
０重量％が有機物成分からなる薄膜であシ、更に該薄膜
がコーティング溶液全塗布し乾燥硬化させることによシ
形成させるために、着色性、染色性に丁ぐれ、かつ大容
量、大量生産可能な経済性にすぐれた反射防止膜を提供
し、同時に反射防止膜による画面の鮮明度の向上全提供
する効果を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例１の反射防止膜を有する液晶表示時計
の断面図金示す。 １１・・・・・・中屈折率薄膜 １２・・・・・・高屈折率薄膜 １３・・・・・・低屈折率薄膜 １４・・・・・・外部ガラス基板 １５．１７・・・・・・偏光板 １６・・・・・・ＴＮ液晶セル １８・・・・・・光反射板 １９・・・・・・セルガラス基板 第２図は実施例１の反射スペクトル−全示す。 第３囚に、実施例５の反射防止膜全有する液晶セルの断
面図を示す。 以　　上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ａ）液晶表示装置の外部ガラス基板および／また
   は液晶セルのガラス基板の表面に該基板から大気側にむ
   かつて、［イ］、［ロ］、［ハ］の三層の薄膜からなる
   反射防止膜を形成した反射防止膜を有する液晶表示装置
   において、 ｂ）前記［イ］、［ロ］、［ハ］の各薄膜の構成成分が
   、それぞれ少くとも２０重量％の金属原子に結合した有
   機基成分或いは樹脂化合物成分と、８０重量％未満の金
   属酸化物或いは有機鎖に結合した金属原子からなり、 ｃ）前記［イ］、［ロ］、［ハ］の各薄膜の化学特性は
   ［イ］１．５５＜ｎａ＜１．８０ ｎａ、ｄａ＝ｌλ＿１／４（ｎｍ） ［ロ］１．６５＜ｎｂ＜２．２５ ｎｂ、ｄｂ＝ｍλ＿２／４（ｎｍ） ｎｂ＞ｎａ ［ハ］１．４０＜ｎｃ＜１．５０ ｎｃ、ｄｃ＝ｎλ＿３／４（ｎｍ） （ここで、ｎａ、ｎｂ、ｎｃは各々、［イ］層、［ロ］
   層、［ハ］層の屈折率、ｄａ、ｄｂ、ｄｃは各々［イ］
   層、［ロ］層、［ハ］層の膜厚（ｎｍ）を表し、ｍは正
   の整数、ｌ、ｎは正の奇数、λ＿１、λ＿２、λ＿３は
   各々独立に可視領域の波長（ｎｍ）を表す。また、ｎａ
   ＞（基板の屈折率）である。）の条件を満たすことを特
   徴とする反射防止膜を有する液晶表示装置。