JPS6220144B2 - - Google Patents

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JPS6220144B2
JPS6220144B2 JP60106650A JP10665085A JPS6220144B2 JP S6220144 B2 JPS6220144 B2 JP S6220144B2 JP 60106650 A JP60106650 A JP 60106650A JP 10665085 A JP10665085 A JP 10665085A JP S6220144 B2 JPS6220144 B2 JP S6220144B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
optical fiber
polybutadiene
acrylate
coating material
Prior art date
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Expired
Application number
JP60106650A
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English (en)
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JPS6177646A (ja
Inventor
Takao Kimura
Nobuo Inagaki
Mitsuo Yoshihara
Fumihiko Kato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTT Inc
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP60106650A priority Critical patent/JPS6177646A/ja
Publication of JPS6177646A publication Critical patent/JPS6177646A/ja
Publication of JPS6220144B2 publication Critical patent/JPS6220144B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明は光伝送用の光学ガラスフアイバを被
覆するための材料に関する。 光伝送用媒体として使用される光学ガラスフア
イバ(以下、単に光フアイバと称する)は、通常
その直径が200μm以下であり、また材質的に脆
いため、その製造中またはケーブル化の工程や保
管中に表面に傷が発生しやすく、この傷が応力集
中源になり、外部から応力が加わつた場合に容易
に光フアイバが破断する欠点を有する。この理由
で光フアイバをそのまま光伝送用媒体として使用
することは極めて困難である。したがつて、従来
より、光フアイバの表面にプラスチツク被覆を行
い、これにより光フアイバ製造直後の初期強度の
維持および長期使用に耐える光フアイバの製造方
法が試みられてきた。 このプラスチツク被覆は、一般に初期強度を維
持するための一次被覆と、ケーブル化などのその
後の取り扱いに対処するためのポリアミド、ポリ
エチレンの如き熱可塑性樹脂の押出成形による二
次被覆と、二次被覆時の伝送損失の増加を防ぐた
めに一次被覆と二次被覆との間に緩衝層を設ける
三段階からなり、通常一次被覆と緩衝層の形成と
は、光フアイバの紡糸工程に引き続く工程でなさ
れている。 しかる後に、従来の一次被覆材料であるウレタ
ン系やエポキシ系の熱硬化性樹脂は硬化速度がお
そく、硬化乾燥に長時間を要するため光フアイバ
の線引速度が制限され、光フアイバの量産上の問
題点のひとつとなつている。また、これらの樹脂
では厚塗り被覆できないため、光フアイバの強度
が弱くなる欠点もある。さらに、従来の緩衝層形
成材料としては、伝送特性の理由から常温硬化型
のシリコーンゴムが用いられているが、このシリ
コーンゴムは室温に放置するだけで粘度が上昇
し、長時間の紡糸に耐えられないとともに、比較
的粘着性が高いためじんあいなどが付着しやす
く、二次被覆時に悪影響をおよぼす欠点があつ
た。 この発明は、かかる欠点を回避し、光フアイバ
の量産性および強度の改善を図ることができる一
次被覆材料でかつ緩衝層をも兼ねさせることがで
きる新規かつ有用な光フアイバ用被覆材料を提供
せんとするものであり、その要旨とするところ
は、被覆材料の主材として、水酸基を有する1・
4―ポリブタジエンにジイソシアネート化合物を
反応させ、これにさらにヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートを反応させて得られる反応生成
物を使用することにある。 すなわち、この発明の被覆材料は、主材の原料
として1・4―ポリブタジエンを用いているた
め、その被膜が従来の熱硬化性樹脂を用いたもの
に較べ、さらには他のポリマーたとえば上記1・
4―ポリブタジエンの代わりに1・2―ポリブタ
ジエンを用いたものなどに較べて低硬度で非常に
柔軟性にすぐれたものとなる。このため、この一
次被覆層上にさらに緩衝層を設ける必要がなく、
しかも上記主材はその分子内に1・4―ポリブタ
ジエンおよびヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートに由来する、特に後者のヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートに由来する反応性の高い
重合性二重結合を有しているため、これ単独で加
熱硬化ないし光硬化あるいは電子線硬化できる性
質を有し、その硬化速度が従来の被覆材料に較べ
て速いため、被覆作業が著しく改善されたものと
なり、光フアイバの量産性を大きく向上できる。 また、上記被膜の柔軟性によつて、さらには
1・4―ポリブタジエンとジイソシアネート化合
物を反応させる際およびこの反応物にさらにヒド
ロキシアルキル(メタ)アクリレートを反応させ
る際に生じるウレタン結合が被膜の弾性率および
伸びの向上に寄与することによつて、強度的にも
好結果が得られるだけでなく、従来の熱硬化性樹
脂にみられたマイクロベンデイングなどに起因し
た伝送損失の増加が抑えられ、高信頼性の光フア
イバの製造が可能となる。 しかも、この種の主材は、原料として用いる上
記1・4―ポリブタジエンが比較的高分子量体で
あつても常温で液状であるため、無溶剤タイプな
いし有機溶剤量の少ない被覆材料として適用で
き、その結果、厚塗り被覆が容易となりこれによ
つても光フアイバの強度を改善できる。また、上
記無溶剤タイプとすることによつて、省資源、無
公害などの観点から有利となるばかりでなく、脱
溶剤による被膜の発泡,ピンホールの発生などが
抑えられる。 この発明において主材の原料として用いられる
水酸基を有する1・4―ポリブタジエンは、分子
内に上記官能基を少なくとも2個有する、とくに
好適には分子両末端に上記官能基を有する1・4
―ポリブタジエンであり、市販品をそのまま使用
できる。 この発明においては、上述した水酸基を有する
1・4―ポリブタジエンにまずジイソシアネート
化合物を反応させてウレタン結合を生じさせ、残
存するイソシアネート基にさらにヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレートを反応させて新たなウ
レタン結合を生じさせるとともに、重合性二重結
合としての(メタ)アクリル基を導入した反応生
成物とし、これを主材として使用する。 上記のジイソシアネート化合物は、トリレンジ
イソシアネートなどの分子内に2個のイソシアネ
ート基を有するものであればよく、また上記のヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては
2―ヒドロキシエチルアクリレートないしメタク
リレートの如き分子内にヒドロキシアルキル基を
有する(メタ)アクリレートが広く用いられる。 このような反応生成物からなるこの発明の主材
は、その分子内にヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレートに由来する非常に反応性の高い重合性
二重結合を有しているため、適宜の熱硬化触媒や
光増感剤の使用によつて、これ単独で速やかに熱
硬化ないし光硬化あるいは電子線硬化させること
ができる。しかも、この主材はこれ単独でも塗工
可能な粘度を示す。したがつて、通常は反応性希
釈剤としての重合性二重結合を有する化合物をあ
えて配合する必要はない。しかし、とくに望むな
ら配合しても差し支えないものである。 このような重合性二重結合を有する化合物のな
かで、とくに好適なものは、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステルおよびアリルエステル
である。具体的には、ブチルトリエチレングリコ
ールアクリレート、ポリプロピレングリコールメ
タクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ポリエステルジアクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ポリプロピレン
グリコールジアクリレート、ジアリルアジペー
ト、ジアリルフタレート、ジエチレングリコール
ビス(アリルカーボネート)、トリアリルイソシ
アヌレートなどが挙げられる。これら化合物の使
用割合は、前記反応生成物からなる主材100重量
部に対して通常50重量部以下とするのが好まし
く、あまり多く配合すると被膜の柔軟性などを損
なうおそれがある。 この発明の光フアイバ用被覆材料は、これに含
まれる重合性二重結合の熱重合ないし光重合ある
いは電子線重合によつて硬化される。このため、
硬化触媒として一般にベンゾイルパーオキサイ
ド、t―ブチルパーオキシベンゾエートの如き熱
硬化触媒やアセトフエノン、ベンゾフエノン、ベ
ンゾイソプロピルエーテルなどの光増感剤が用い
られる。これら硬化触媒は、被覆材料全体の通常
0.1〜10重量%程度でよい。なお、前記反応生成
物からなる主材が分子両末端に(メタ)アクリル
基つまりアクリル基および/またはメタクリル基
を有するものでは、光増感剤をとくに必要としな
い場合もある。 この発明の被覆材料には、必要に応じて変性用
樹脂や各種添加剤を含有していてもよく、また所
望ならば溶剤により希釈して用いてもよい。変性
用樹脂は、主材と同量以下、好ましくは1/4量以
下の範囲で用いられる。その具体例としては、エ
ポキシ樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエ
ーテル、ポリアミドイミド、シリコーン樹脂、フ
エノール樹脂などが挙げられる。また、上記添加
剤としては、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜
鉛、ジメチルアニリン、ジブチルスズジラウレー
トの如き硬化促進剤、有機ケイ素化合物、界面活
性剤などが挙げられる。 この発明において、光フアイバの被覆方法は、
常法により光フアイバの紡糸工程、つまり、光フ
アイバ用の棒状素材やブロツク状素材を加熱延伸
して所望径の光フアイバに紡糸する工程の直後
で、上記光フアイバの表面にこの発明の被覆材料
を塗布したのち、通常熱を加えまたは紫外線の如
き光をあるいは電子線を照射して硬化させればよ
い。 この硬化によつて柔軟な二次被覆を行えるか
ら、その後は緩衝層を設けることなく直接二次被
覆の工程に供される。 なお、上記光フアイバ用の棒状素材とは、一般
に石英系フアイバの母材とよばれるものであり、
ブロツク状素材とは、多成分系フアイバの二重る
つぼ法により紡糸されるものである。また、光フ
アイバの所望径とは、通常200μm以下である。 以上説明したように、この発明の光フアイバ用
被覆材料は、水残基を有する1・4―ポリブタジ
エンにジイソシアネート化合物を反応させ、これ
にさらにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
トを反応させて得られる反応生成物を主材として
使用したものであるから、従来の材料に較べて硬
化速度が速く、光フアイバの生産性にすぐれるの
みならず、低硬度で柔軟なまた弾性率や伸びの良
好な被膜を形成してまた厚肉の被膜形成によつ
て、光フアイバの強度と信頼性を改善する。 以下に、実施例を挙げてこの発明を説明する
が、この発明はこれら実施例になんら制限される
ものではない。なお、以下、部とあるのは重量部
を意味する。 実施例 1 分子末端に水酸基を有する1・4―ポリブタジ
エン(水酸基含量0.83ミリ当量/g)120gを、
撹拌機,温度計および分留器を付けた四つ口フラ
スコに仕込み、トリレンジイソシアネート174g
を、30〜40℃で1時間に亘つて滴下したのち、さ
らに30〜40℃で2―ヒドロキシエチルアクリレー
ト116gを1時間で滴下して反応させることによ
り、分子末端にアクリル基を有する横色透明な粘
稠液体を得た。 この液体100部に対して、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル5部を配合して、この発明の光フア
イバ用被覆材料とした。この材料の粘度は400ポ
イズ/60℃であつた。 比較例 1 ビスフエノール型エポキシアクリレート100部
に、ベンゾインイソプロピルエーテル5部を混合
して、光フアイバ用被覆材料とした。この材料の
粘度は320ポイズ/50℃であつた。 比較例 2 分子末端に水酸基を有する1・2―ポリブタジ
エン(水酸基含量1.96ミリ当量/g)10g、アク
リル酸72g、ベンゼン50ml、p―トルエンスルホ
ン酸1.7g、ハイドロキノン70mgを、実施例1と
同様の四つ口フラスコに仕込み、90℃で生成水を
除去しながら7時間反応させた。その後、反応混
合物を水洗し、未反応のアクリル酸を除去したの
ち、さらに減圧下でベンゼンを除去して、分子末
端にアクリル基を有する粘稠液体を得た。 この液体100部に対して、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル5部を配合して、光フアイバ用被覆
材料とした。この材料の粘度は60ポイズ/30℃で
あつた。 比較例 3 エポキシ樹脂Epon―828(シエル石油社製)
100部に、2―エチル―4―メチルイミダゾール
5部を溶解して、光フアイバ用被覆材料とした。
この材料のゲル化時間は59秒/150℃、粘度は150
ポイズ/25℃であつた。 上記実施例1および比較例1〜3の各材料につ
き、硬化後の硬度(シヨア硬度A)を調べたとこ
ろ、次の第1表に示されるとおりであつた。な
お、シヨア硬度Aは次のようにして測定した。す
なわち、比較例3の材料については、この材料を
150℃,15分間の条件で加熱硬化させて、厚み2
mmの板状体を作成し、これを用いて測定した。実
施例1および比較例1,2の材料については2本
の高圧水銀ランプ(入力120W/cm、ランプ出力
5KW)を平行に配した光源下15cmの位置で照射
して(コンベアースピード50m/分)、厚み100μ
mのシートを作成し、これを用いて測定した。
【表】 つぎに、上記実施例1および比較例1〜3の被
覆材料を用いて、以下の試験例1および比較試験
例1〜3に示されるとおり、実際に光フアイバを
被覆し、その性能をテストした。 試験例 1 30m/分の速度で紡糸した直径125μmの光フ
アイバの表面に、紡糸工程に引続く工程におい
て、実施例1に示した被覆材料を塗布したのち、
紫外線(ランプ出力2KW2本)を照射して硬化さ
せた。被覆後の光フアイバ外径は約250μmであ
り、表面は均一であつた。また、破断強度は6.5
Kg(試料長10m、試料数20本の平均値)であり、
−40℃まで伝送損失の増加は認められなかつた。 比較試験例 1 実施例1の被覆材料の代わりに、比較例1の被
覆材料を用いた以外は、試験例1と同様に被覆し
た。被覆後の光フアイバ外径は約215〜249μmと
ばらついていた。また破断強度は6.0Kgであり、−
40℃以下で伝送損失の急激な増加が認められた。 比較試験例 2 実施例1の被覆材料の代わりに、比較例2の被
覆材料を用いた以外は、試験例1と同様にして被
覆した。被覆後の光フアイバ外径は約250μm
で、破断強度は5.5Kgであり、−20℃で伝送損失の
増加が認められた。 比較試験例 3 20m/分の速度で紡糸した直径125μmの光フ
アイバの表面に、紡糸工程に引続く工程におい
て、比較例3に示した被覆材料を塗布したのち、
650℃に加熱した電気炉を用いて硬化させた。被
覆後の光フアイバの外径は150〜310μmの範囲に
ばらついていた。また、得られた光フアイバは−
20℃以下で伝送損失の急激な増加が認められた。 以上に説明したように、この発明の光フアイバ
用被覆材料は、硬化速度が速いため、光フアイバ
の紡糸工程において速やかにかつ密着良好に被覆
でき、しかも硬化後の柔軟性に富みまた弾性率、
伸びなどの特性が良好であるため、伝送特性にす
ぐれる光フアイバ被覆体を得ることができる利点
がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 水酸基を有する1・4―ポリブタジエンにジ
    イソシアネート化合物を反応させ、これにさらに
    ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを反応
    させて得られる反応生成物を主材とした光学ガラ
    スフアイバ用被覆材料。
JP60106650A 1985-05-18 1985-05-18 光学ガラスフアイバ用被覆材料 Granted JPS6177646A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60106650A JPS6177646A (ja) 1985-05-18 1985-05-18 光学ガラスフアイバ用被覆材料

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JP60106650A JPS6177646A (ja) 1985-05-18 1985-05-18 光学ガラスフアイバ用被覆材料

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JP56104770A Division JPS6049146B2 (ja) 1981-07-04 1981-07-04 光学ガラスフアイバ用被覆材料

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Publication Number Publication Date
JPS6177646A JPS6177646A (ja) 1986-04-21
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5265116B2 (ja) * 2006-01-12 2013-08-14 日本曹達株式会社 アクリル変性ポリブタジエン
JP2010260905A (ja) * 2009-04-30 2010-11-18 Nippon Paint Co Ltd 光硬化性組成物

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6045139B2 (ja) * 1978-09-20 1985-10-08 日本電信電話株式会社 光フアイバの製造方法

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JPS6177646A (ja) 1986-04-21

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