JPS62208055A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPS62208055A JPS62208055A JP5067886A JP5067886A JPS62208055A JP S62208055 A JPS62208055 A JP S62208055A JP 5067886 A JP5067886 A JP 5067886A JP 5067886 A JP5067886 A JP 5067886A JP S62208055 A JPS62208055 A JP S62208055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- silicone
- formula
- photosensitive
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0571—Polyamides; Polyimides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0578—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14747—Macromolecular material obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14773—Polycondensates comprising silicon atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真複写機、レーザービームプリンター
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関する。
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関する。
電子写真感光体の光導電材料としてセレン、硫化カドミ
ウム、酸化亜鉛などの無機光導電材料が従来より用いら
れている。一方ポリビニル力ルバゾール、オキサジアゾ
ール、フタロシアニンなどの有機光導電材料は無機光導
電材料に較べて無公害性、高生産性などの利点があるが
、感度が低くその実用化は困難であった。そのため、い
くつかの増悪方法が提案されているが、効果的な方法と
しては電荷発生層と電荷輸送層を積層した機能分離型感
光体を用いることが知られ実用化されている。
ウム、酸化亜鉛などの無機光導電材料が従来より用いら
れている。一方ポリビニル力ルバゾール、オキサジアゾ
ール、フタロシアニンなどの有機光導電材料は無機光導
電材料に較べて無公害性、高生産性などの利点があるが
、感度が低くその実用化は困難であった。そのため、い
くつかの増悪方法が提案されているが、効果的な方法と
しては電荷発生層と電荷輸送層を積層した機能分離型感
光体を用いることが知られ実用化されている。
一方、電子写真感光体には、当然のことであるが、適用
される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性
、更には光学特性を備えていることが要求される。特に
繰返し使用可能な感光体にあってはその感光体の表面層
、即ち基体より最も離隔する層にはコロナ帯電、トナー
現像、紙への転写、クリーニング処理などの電気的機械
的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性
が要求される。具体的には、コロナ帯電時に発生するオ
ゾンによる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位
増加、お゛よび摺擦による表面の摩耗や傷の発生などに
対する耐久性が要求されている。
される電子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性
、更には光学特性を備えていることが要求される。特に
繰返し使用可能な感光体にあってはその感光体の表面層
、即ち基体より最も離隔する層にはコロナ帯電、トナー
現像、紙への転写、クリーニング処理などの電気的機械
的外力が直接に加えられるため、それらに対する耐久性
が要求される。具体的には、コロナ帯電時に発生するオ
ゾンによる劣化のために感度低下や電位低下、残留電位
増加、お゛よび摺擦による表面の摩耗や傷の発生などに
対する耐久性が要求されている。
又、紙との接触による紙粉の付着は、高湿下での画像流
れの原因の一つとなり、又、トナーのフィルミングやク
リーニング不良による残留トナーは、得られる画像を著
しく損ねるものであり、従って、これらに汚染されにく
くかつ容易に除去されやすい感光体表面を形成させるこ
とが要求されている。
れの原因の一つとなり、又、トナーのフィルミングやク
リーニング不良による残留トナーは、得られる画像を著
しく損ねるものであり、従って、これらに汚染されにく
くかつ容易に除去されやすい感光体表面を形成させるこ
とが要求されている。
従来より前記欠点を解決すべ(種々の方法が提案されて
いる。その一つとして、マレインイミド系樹脂を表面層
のバインダーとして用いることが検討されている。マレ
インイミド系樹脂は、電子写真感光体用バインダーとし
て用いた場合、電荷輸送剤等と類似した極性構造を持つ
為、相溶性に優れ、良好な電子写真特性が得られる。し
かしながら耐摩耗性に劣り、実際の複写機に装着した場
合、クリーナー、紙等との接触摩耗及びトナー融着が早
期に発生する。これを改良すべく表面層に潤滑性を付与
させ、すべり抵抗を低減させ結果的に、摩耗量を低減さ
せ、かつトナーの融着を防ぐ事が試みられている。その
手段として、一般的な塗膜表面改質剤、すなわちレベリ
ング剤、シリコーンオイル等の添加やテフロン粉末等を
分散させる方法がある。
いる。その一つとして、マレインイミド系樹脂を表面層
のバインダーとして用いることが検討されている。マレ
インイミド系樹脂は、電子写真感光体用バインダーとし
て用いた場合、電荷輸送剤等と類似した極性構造を持つ
為、相溶性に優れ、良好な電子写真特性が得られる。し
かしながら耐摩耗性に劣り、実際の複写機に装着した場
合、クリーナー、紙等との接触摩耗及びトナー融着が早
期に発生する。これを改良すべく表面層に潤滑性を付与
させ、すべり抵抗を低減させ結果的に、摩耗量を低減さ
せ、かつトナーの融着を防ぐ事が試みられている。その
手段として、一般的な塗膜表面改質剤、すなわちレベリ
ング剤、シリコーンオイル等の添加やテフロン粉末等を
分散させる方法がある。
しかしながら、これら一般的な表面改質剤は、添加され
る塗工液の成分との相溶性に乏しいため、長期使用の間
に表面層の上に移行ないし滲み出してくるので効果の持
続性に難点があった。また、表面層自体が光導電層を形
成している場合、表面改質剤が光導電性物質との相溶性
に乏しく、さらに光生成によるキャリヤーの移動に対し
てトラップとなり易く、繰返し電子写真プロセスにより
残留電荷が増大していく傾向があった。一方テフロン粉
末などを分散させた表面層においては分散性不良、透明
性低下、キャリヤーのトラップなどの問題を生じていた
。
る塗工液の成分との相溶性に乏しいため、長期使用の間
に表面層の上に移行ないし滲み出してくるので効果の持
続性に難点があった。また、表面層自体が光導電層を形
成している場合、表面改質剤が光導電性物質との相溶性
に乏しく、さらに光生成によるキャリヤーの移動に対し
てトラップとなり易く、繰返し電子写真プロセスにより
残留電荷が増大していく傾向があった。一方テフロン粉
末などを分散させた表面層においては分散性不良、透明
性低下、キャリヤーのトラップなどの問題を生じていた
。
本発明は、従来の問題点を解決して、表面の潤滑性を上
げる事によりすべり抵抗を低減させ、結果的に耐摩耗性
に優れ、かつ、すべり性に優れる為トナー融着等の発生
のない電子写真感光体も提供する事を目的としている。
げる事によりすべり抵抗を低減させ、結果的に耐摩耗性
に優れ、かつ、すべり性に優れる為トナー融着等の発生
のない電子写真感光体も提供する事を目的としている。
本発明の別の目的は繰返し電子写真プロセスにおいて残
留電荷の蓄積がなく、怒度に優れ常に高品位の画像が得
られる電子写真感光体を提供することにある。
留電荷の蓄積がなく、怒度に優れ常に高品位の画像が得
られる電子写真感光体を提供することにある。
本発明は電子写真感光体の、少なくとも基体より最も離
隔する層に、特定のシリ−コン系クシ型グラフトポリマ
ーとマレインイミド系樹脂とを含有させることによって
上記目的を達成しようとするものである。
隔する層に、特定のシリ−コン系クシ型グラフトポリマ
ーとマレインイミド系樹脂とを含有させることによって
上記目的を達成しようとするものである。
すなわち、本発明は一般式(I)
(式中、R+ 、Rz 、R3,R4、Rsは置換基を
有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(n) ■ HO−+ S i O+−VH(II )嘲 Rフ (式中、R,、R,は置換基を有してもよいアルキル基
または了り−ル基を示し、nは平均重合度を示す。) で示されるシリコーンと少な(とも一般式(nl)(式
中、Rs 、Rq 、R+。は水素原子、ハロゲン原子
、置換基を有してもよいアルキル基または了り−ル基を
示し、R11は置換基を有してもよいアルキル基または
アリール基を示し、Aは置換基を有してもよいアリーレ
ンを示し、Xはハロゲン原子、置換基を有してもよいア
ルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーと、マレインイミド系樹脂を、少なくと
も基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とす
る電子写真感光体である。
有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(n) ■ HO−+ S i O+−VH(II )嘲 Rフ (式中、R,、R,は置換基を有してもよいアルキル基
または了り−ル基を示し、nは平均重合度を示す。) で示されるシリコーンと少な(とも一般式(nl)(式
中、Rs 、Rq 、R+。は水素原子、ハロゲン原子
、置換基を有してもよいアルキル基または了り−ル基を
示し、R11は置換基を有してもよいアルキル基または
アリール基を示し、Aは置換基を有してもよいアリーレ
ンを示し、Xはハロゲン原子、置換基を有してもよいア
ルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーと、マレインイミド系樹脂を、少なくと
も基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とす
る電子写真感光体である。
以下本発明の詳細な説明する。
電子写真感光体は、当業界で知られている様に、基体上
に感光層及び必要に応じて非感光性の下引層、中間層及
び表面層等を有し、また、前記感光層としては、単層構
造を有しているものや電荷発生層と電荷輸送層との積層
構造を有するものなどがある。本発明はこれら公知のあ
らゆるタイプの電子写真感光体として適用することがで
きるものであり、少なくとも基体より最も離隔する層(
以下、本発明に係る表面層という)として、例えば前記
非感光性の表面層、単層構造の感光層、積層構造の感光
層における電荷発生層乃至は電荷輸送層に、以下に詳述
するシリコーン系クシ型グラフトポリマーとマレインイ
ミド系樹脂とが含有されている。
に感光層及び必要に応じて非感光性の下引層、中間層及
び表面層等を有し、また、前記感光層としては、単層構
造を有しているものや電荷発生層と電荷輸送層との積層
構造を有するものなどがある。本発明はこれら公知のあ
らゆるタイプの電子写真感光体として適用することがで
きるものであり、少なくとも基体より最も離隔する層(
以下、本発明に係る表面層という)として、例えば前記
非感光性の表面層、単層構造の感光層、積層構造の感光
層における電荷発生層乃至は電荷輸送層に、以下に詳述
するシリコーン系クシ型グラフトポリマーとマレインイ
ミド系樹脂とが含有されている。
本発明で用いられるシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーは下記一般式(1)および/または一般式(n)で示
されるシリコンと下記一般式(III)を含む化合物と
の縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基
をもつ化合物を共重合させて得られるものであり、重合
性官能基を含有せる化合物からなる主鎖に対して変性シ
リコーンからなるシリコーンを含有する側鎖基が枝状に
結合した構造を有している。
ーは下記一般式(1)および/または一般式(n)で示
されるシリコンと下記一般式(III)を含む化合物と
の縮合反応生成物である変性シリコーンと重合性官能基
をもつ化合物を共重合させて得られるものであり、重合
性官能基を含有せる化合物からなる主鎖に対して変性シ
リコーンからなるシリコーンを含有する側鎖基が枝状に
結合した構造を有している。
一般式(I)
但し、R+ 、Rz 、Rs 、R4、Rsは置換基を
有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。
有してもよいアルキル基またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。
一般式(n)
HO−+ 5iOh−H
■
R1
但し、R,、Rtは置換基を有してもよいアルキル基ま
たは了り−ル基を示し、nは平均重合度を示す。
たは了り−ル基を示し、nは平均重合度を示す。
一般式(I[[)
但し、Ro + R9+ Rhoは水素原子、ハロゲ
ン原子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリー
ル基を示し、Roは置換基を有してもよいアルキル基ま
たは了り−ル基を示し、Aは置換基を有してもよいアリ
ーレンを示し、Xはハロゲン原子、置換基を有してもよ
いアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。
ン原子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリー
ル基を示し、Roは置換基を有してもよいアルキル基ま
たは了り−ル基を示し、Aは置換基を有してもよいアリ
ーレンを示し、Xはハロゲン原子、置換基を有してもよ
いアルコキシ基を示し、mは1〜3の整数を示す。
前記一般式(I)および(n)式中、R,、Rt。
R3,R,、Rs、R&およびR7は、具体的には、メ
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基また
はフェニル、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基などの置換基を有してもよい。
チル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基また
はフェニル、ナフチルなどのアリール基であり、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基などの置換基を有してもよい。
好ましくはメチル基、フェニル基である。
nは平均重合度を示し、1〜1000の範囲、好ましく
は10〜500の範囲である。
は10〜500の範囲である。
一般式(I[[)の式中、R1,R9およびR5゜は、
具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
どハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのアリー
ル基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの置換
基を有してもよい。好ましくは水素原子である。
具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
どハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、ブチルな
どのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどのアリー
ル基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの置換
基を有してもよい。好ましくは水素原子である。
R11は、具体的には、メチル、エチル、プロピル、ブ
チルなどのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどの
アリール基であり、ハロゲン原子などの置換基を有して
もよい。好ましくはメチル基、フェニル基である。
チルなどのアルキル基またはフェニル、ナフチルなどの
アリール基であり、ハロゲン原子などの置換基を有して
もよい。好ましくはメチル基、フェニル基である。
Xは具体的には、水素原子、フッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などハロゲン原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシなどのアルコキシ基であり、低級アルコキシ
基などの置換基を有してもよい。好ましくはメトキシ基
、エトキシ基、2−メトキシ−エトキシ基である。
素などハロゲン原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
、ブトキシなどのアルコキシ基であり、低級アルコキシ
基などの置換基を有してもよい。好ましくはメトキシ基
、エトキシ基、2−メトキシ−エトキシ基である。
Aはフェニレン、ビフェニレン、ナフチレンなどのアリ
ーレン基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの
置換基を有してもよい。mは1〜3の整数である。
ーレン基であり、ハロゲン原子、低級アルキル基などの
置換基を有してもよい。mは1〜3の整数である。
−a式(I)〜(III)の具体例を以下に示す。
一般式(1)の具体例
CHs CHx
CHx CHx
CzHs C3H?
C4H9CHs
r
CI
一般式(II)の具体例
患
CH。
26 HO−f S i Oh−Hs
CH。
2Hs
27 HO−e S i Oh−Hs
Ct H5
C2H?
「
28 HO−+S i Oh−Hs
Cx H’r
C4Hq
29 HO−+S iOh−Hs
C4H9
H3
♂
30 HO→S i Oh−Hs
C,Hs
CH3
31HO−f S i O)−H
s
C3H?
Cz Hs
32 HO→ S i Oh−Hs
C4Hq
C4HmC1
33HO→SiO+r−H
s
04H@CII
CH’r
34 HO−+ S i Oh−HtH
sC1 H3 CZ Hs r ■ 一般式(I[[)の具体例 Br 一般式(1)および/または一般式(II)で示される
シリコーンと、構成成分として一般式(I[I)を含む
化合物との縮合反応は、通常の有機化学反応操作に従い
きわめて円滑に進行し、例えばクシ型グラフトポリマー
の合成方法が開示されている特開昭58−167606
、特開昭59−126478に従いその反応モル比や反
応条件を適当に制御する事により安定な変性シリコーン
を得ることができる。
sC1 H3 CZ Hs r ■ 一般式(I[[)の具体例 Br 一般式(1)および/または一般式(II)で示される
シリコーンと、構成成分として一般式(I[I)を含む
化合物との縮合反応は、通常の有機化学反応操作に従い
きわめて円滑に進行し、例えばクシ型グラフトポリマー
の合成方法が開示されている特開昭58−167606
、特開昭59−126478に従いその反応モル比や反
応条件を適当に制御する事により安定な変性シリコーン
を得ることができる。
重合性官能基を有する化合物としては、ケイ素原子を持
たない重合性の単量体もしくは末端に重合性の官能基を
有する分子量が1000から10000程度の比較的低
分子量の重合体からなるマクロモノマー等が挙げられる
0重合性単量体としては、オレフィン系化合物の例とし
てエチレン、プロピレン、ブチレンの如き低分子量直鎖
状不飽和炭化水素、塩化ビニル及びフッ化ビニルの如き
ハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエ
ステル、スチレン、スチレン置換体並びにビニルピリジ
ン及びビニルナフタレンの如きその他のビニル芳香族化
合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びにそれらのエス
テル、アミド及びアクリロニトリルを含むアクリル酸、
メタクリル酸の誘導体、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物等があげられる。ジ置換エチレンも使
用でき、その例としてフッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン等をあげることができ、又無水マレイン酸、マレイン
酸及びフマル酸のエステル等もあげることができる。
たない重合性の単量体もしくは末端に重合性の官能基を
有する分子量が1000から10000程度の比較的低
分子量の重合体からなるマクロモノマー等が挙げられる
0重合性単量体としては、オレフィン系化合物の例とし
てエチレン、プロピレン、ブチレンの如き低分子量直鎖
状不飽和炭化水素、塩化ビニル及びフッ化ビニルの如き
ハロゲン化ビニル、酢酸ビニルの如き有機酸のビニルエ
ステル、スチレン、スチレン置換体並びにビニルピリジ
ン及びビニルナフタレンの如きその他のビニル芳香族化
合物、アクリル酸、メタクリル酸、並びにそれらのエス
テル、アミド及びアクリロニトリルを含むアクリル酸、
メタクリル酸の誘導体、N−ビニルカルバゾール、N−
ビニルピロリドン及びN−ビニルカプロラクタムの如き
N−ビニル化合物、ビニルトリエトキシシランの如きビ
ニルケイ素化合物等があげられる。ジ置換エチレンも使
用でき、その例としてフッ化ビニリデン、塩化ビニリデ
ン等をあげることができ、又無水マレイン酸、マレイン
酸及びフマル酸のエステル等もあげることができる。
特に、マレインイミド系樹脂との親和性から、アクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン系等
が好ましい。
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチレン系等
が好ましい。
又、モノマーは単独又は2種類以上のモノマーを組み合
わせて使用できる。
わせて使用できる。
本発明で使用する重合性官能基を有する化合物はアクリ
ルアミド、アクリル酸、アクリロニトリル、1.3−7
’タジエン、2−クロロエチル、ビニルエーテル、メタ
クリル酸ジエチル、アミノエチル、フマル酸ジエチル、
N、Nジメチルアクリルアミド、アクリル酸エチル、エ
チレン、イソブチレン、マレイン酸、無水マレイン酸、
メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリロニトリル
、メタクリル酸メチル、α−メチルスチレン、p−メチ
ルスチレン、メチルビニルケトン、フマロニトリル、プ
ロペニルエーテル、プロピレン、スチレン、四フッ化エ
チレン、酢酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、ビニルピリ
ジン、4−ビニルピリジン、2−ビニルピロール、N−
ビニルピロリドン、N−ビニルコハク酸イミド、ビニル
スルフィド等が挙げられる。
ルアミド、アクリル酸、アクリロニトリル、1.3−7
’タジエン、2−クロロエチル、ビニルエーテル、メタ
クリル酸ジエチル、アミノエチル、フマル酸ジエチル、
N、Nジメチルアクリルアミド、アクリル酸エチル、エ
チレン、イソブチレン、マレイン酸、無水マレイン酸、
メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリロニトリル
、メタクリル酸メチル、α−メチルスチレン、p−メチ
ルスチレン、メチルビニルケトン、フマロニトリル、プ
ロペニルエーテル、プロピレン、スチレン、四フッ化エ
チレン、酢酸ビニル、N−ビニルカルバゾール、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、ビニルピリ
ジン、4−ビニルピリジン、2−ビニルピロール、N−
ビニルピロリドン、N−ビニルコハク酸イミド、ビニル
スルフィド等が挙げられる。
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの重合法としては
溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法等のラジカル重
合やイオン重合が適用できるが、溶液重合法によるラジ
カル重合が筒便で好ましい。
溶液重合法、懸濁重合法、バルク重合法等のラジカル重
合やイオン重合が適用できるが、溶液重合法によるラジ
カル重合が筒便で好ましい。
共重合比はシリコーン系単量体の含有率として5〜90
重量%が好ましく、10〜70重世%が更に好ましい。
重量%が好ましく、10〜70重世%が更に好ましい。
得られた重合体の分子量は数平均分子量として500か
ら100000、特に1000から50000が好まし
い。
ら100000、特に1000から50000が好まし
い。
本発明におけるシリコーン系クシ型グラフトポリマーは
かかる構造を有しているので本発明に係る表面層形成用
のバインダー樹脂として、マレインイミド系樹脂を含有
する塗工液に対する相溶性がすぐれており、従って得ら
れる塗膜は良好な透明性を有し、かつ本発明に係る表面
層上への移行ないし滲み出しをおこすことなく効果の持
続性を有するものであり、またシリコーン含有の技の部
分は界面移行性がすぐれているので少量の添加により表
面の改質が達成される。更にこの添加剤を表面層に含有
させてもくり返し電子写真プロセスによる残留電荷の蓄
積がなく安定した帯電特性が得られる。
かかる構造を有しているので本発明に係る表面層形成用
のバインダー樹脂として、マレインイミド系樹脂を含有
する塗工液に対する相溶性がすぐれており、従って得ら
れる塗膜は良好な透明性を有し、かつ本発明に係る表面
層上への移行ないし滲み出しをおこすことなく効果の持
続性を有するものであり、またシリコーン含有の技の部
分は界面移行性がすぐれているので少量の添加により表
面の改質が達成される。更にこの添加剤を表面層に含有
させてもくり返し電子写真プロセスによる残留電荷の蓄
積がなく安定した帯電特性が得られる。
本発明で用いられるマレインイミド系樹脂は、下記一般
式(IV)で示される繰り返し単位の1種又は2種以上
を成分とするポリマーを含有するものである。
式(IV)で示される繰り返し単位の1種又は2種以上
を成分とするポリマーを含有するものである。
一般式(IV)
(式中R,−R,は水素原子、フェニル基、置換基を有
してもよいアルキル基、またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。) 本発明に用いられるマレインイミド系樹脂は、下記一般
式(V)で示されるマレインイミド化合物とオレフィン
類、ビニル化合物類、アクリル酸化合物類等重合性官能
基を有する化合物とを共重合させる事によって得られる
。
してもよいアルキル基、またはアリール基を示し、nは
平均重合度を示す。) 本発明に用いられるマレインイミド系樹脂は、下記一般
式(V)で示されるマレインイミド化合物とオレフィン
類、ビニル化合物類、アクリル酸化合物類等重合性官能
基を有する化合物とを共重合させる事によって得られる
。
一般式(V)
R,R。
+1
C= C
o=c c=。
(式中R1,R1,R,は水素原子、フェニル基、置換
基を有してもよいアルキル基、またはアリール基) 一般式(V)で示される具体例を構造式で示す。
基を有してもよいアルキル基、またはアリール基) 一般式(V)で示される具体例を構造式で示す。
H
C= C
I
H
CHzCHz
CH。
H
CHtG HzC1
■
CH3
N
■
Hx
本発明に用いられるマレインイミド系樹脂を得る方法は
前記一般式(V)で示されるマレインイミド化合物の1
種あるいは2種以上と前記重合性官能基を有する化合物
の1種あるいは2種以上とを共重合せしめる事により得
る事ができる。
前記一般式(V)で示されるマレインイミド化合物の1
種あるいは2種以上と前記重合性官能基を有する化合物
の1種あるいは2種以上とを共重合せしめる事により得
る事ができる。
重合方法としては、溶液重合法、懸濁重合法、バルク重
合法等のラジカル重合やイオン重合が適用できるが、溶
液重合法によるラジカル重合が簡便であり好ましい。
合法等のラジカル重合やイオン重合が適用できるが、溶
液重合法によるラジカル重合が簡便であり好ましい。
本発明においては、マレインイミドの含有率は共重合体
の5%以上特に10〜70%が好ましく得られた重合体
の分子量は重量平均分子量MWで10.000〜i 、
ooo 、 ooo特に100.000〜600,0
00が好ましい。
の5%以上特に10〜70%が好ましく得られた重合体
の分子量は重量平均分子量MWで10.000〜i 、
ooo 、 ooo特に100.000〜600,0
00が好ましい。
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの添加量は表面層
の固形分重量にもとづいて0.01〜10%が適当であ
り、特に0.05〜5%が好ましい。
の固形分重量にもとづいて0.01〜10%が適当であ
り、特に0.05〜5%が好ましい。
添加量が0.01%未満では十分な表面改質効果が得ら
れず、一方10%を、こえるとグラフトポリマーが塗膜
表面だけでなくバルク中にも存在するようになるため表
面層の主成分である樹脂や光導電性物質との相溶性の問
題から白化をひきおこしたり、繰返し電子写真プロセス
を行なったとき残留電荷の蓄積が生じてくる。
れず、一方10%を、こえるとグラフトポリマーが塗膜
表面だけでなくバルク中にも存在するようになるため表
面層の主成分である樹脂や光導電性物質との相溶性の問
題から白化をひきおこしたり、繰返し電子写真プロセス
を行なったとき残留電荷の蓄積が生じてくる。
以下、感光層が電荷発生層と電荷輸送層との積層構造を
有し、本発明に係る表面層が電荷輸送層である場合を例
にとり、本発明の詳細な説明する。
有し、本発明に係る表面層が電荷輸送層である場合を例
にとり、本発明の詳細な説明する。
本発明の電子写真感光体を製造する場合、基体としては
、アルミニウム、ステンレスなどの金属、紙、プラスチ
ックなどの円筒状シリンダーまたはフィルムが用いられ
る。これらの基体の上には、バリアー機能と下引機能を
もつ下引層(接着層)を設けることができる。
、アルミニウム、ステンレスなどの金属、紙、プラスチ
ックなどの円筒状シリンダーまたはフィルムが用いられ
る。これらの基体の上には、バリアー機能と下引機能を
もつ下引層(接着層)を設けることができる。
下引層は感光層の接着性改良、塗工性改良、基体の保護
、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性改良、感
光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される
。下引層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ
−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エ
チルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ
ル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロ
ン、ニカワ、ゼラチン、等が知られている。これらはそ
れぞれに適した溶剤に溶解されて基体上に塗布される。
、基体上の欠陥の被覆、基体からの電荷注入性改良、感
光層の電気的破壊に対する保護などのために形成される
。下引層の材料としては、ポリビニルアルコール、ポリ
−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エ
チルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリ
ル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重合ナイロ
ン、ニカワ、ゼラチン、等が知られている。これらはそ
れぞれに適した溶剤に溶解されて基体上に塗布される。
その膜厚は0.2〜2μ程度である。
機能分離型感光体においては、電荷発生物質としてセレ
ン、セレン−テルル、ピリリウム、チオピリリウム系染
料、フタロシアニン系顔料アントアントロン顔料、ジベ
ンズピレンキノン顔料、とラントロン顔料、トリスアゾ
顔料、ジスアゾ顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナク
リドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンある
いは特開昭54−143645号公報に記載のアモルフ
ァスシリコンなどを用いることができ、電荷輸送物質と
しては、ピレン、N−エチルカルバゾール、N−イソプ
ロピルカルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラ
ジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N、
N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチ
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N−α−ナフチル−N−フェニルヒド
ラジノ、p−ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジ
フェニルヒドラゾン、1,3.3− )ジメチルインド
レニン−ω−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾ
ン、p−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチルベンズ
チアゾリノン−2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,
5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル”)−1,3,
4−オキサジアゾール、l−フェニル−3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ビラプリン、1−〔キノリル(21〕−3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシー
ビリジル(2)) −3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−〔ピリジル(3))−3−(p−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、1−〔レビジルfzl) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p−
ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、■−〔ピリジル
(2))−3−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチ
リル)−5(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−4−メチル−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−フェニル−3−(α−ベンジル−p−ジ
エチルアミノスチリル)−5(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン
類、2− (p−ジエチルアミノスチリル)−6−シエ
チルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジエチルア
ミノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)
−5−、(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキ
サゾール系化合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル
)−6−シエチルアミノベンズオキサゾール等のチアゾ
ール系化合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチル
フェニル)−フェニルメタン等のトリアリールメタン系
化合物、1.1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−
2−メチルフェニル)へブタン、1.1.2.2−テト
ラキス(4−N、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェ
ニル)エタン等のポリアリールアルカン類などを用いる
ことができる。
ン、セレン−テルル、ピリリウム、チオピリリウム系染
料、フタロシアニン系顔料アントアントロン顔料、ジベ
ンズピレンキノン顔料、とラントロン顔料、トリスアゾ
顔料、ジスアゾ顔料、アゾ顔料、インジゴ顔料、キナク
リドン系顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンある
いは特開昭54−143645号公報に記載のアモルフ
ァスシリコンなどを用いることができ、電荷輸送物質と
しては、ピレン、N−エチルカルバゾール、N−イソプ
ロピルカルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラ
ジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N、
N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチ
ルカルバゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−
メチリデン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジ
フェニルヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフ
ェノキサジン、p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチルアミノベ
ンズアルデヒド−N−α−ナフチル−N−フェニルヒド
ラジノ、p−ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジ
フェニルヒドラゾン、1,3.3− )ジメチルインド
レニン−ω−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾ
ン、p−ジエチルベンズアルデヒド−3−メチルベンズ
チアゾリノン−2−ヒドラゾン等のヒドラゾン類、2,
5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル”)−1,3,
4−オキサジアゾール、l−フェニル−3−(p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ビラプリン、1−〔キノリル(21〕−3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2))−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシー
ビリジル(2)) −3−(p−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−〔ピリジル(3))−3−(p−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラ
ゾリン、1−〔レビジルfzl) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2)) −3−(p
−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p−
ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、■−〔ピリジル
(2))−3−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチ
リル)−5(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)
−4−メチル−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−フェニル−3−(α−ベンジル−p−ジ
エチルアミノスチリル)−5(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン
類、2− (p−ジエチルアミノスチリル)−6−シエ
チルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジエチルア
ミノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)
−5−、(2−クロロフェニル)オキサゾール等のオキ
サゾール系化合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル
)−6−シエチルアミノベンズオキサゾール等のチアゾ
ール系化合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチル
フェニル)−フェニルメタン等のトリアリールメタン系
化合物、1.1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−
2−メチルフェニル)へブタン、1.1.2.2−テト
ラキス(4−N、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェ
ニル)エタン等のポリアリールアルカン類などを用いる
ことができる。
電荷発生層は、前記の電荷発生物質を0.3〜4倍量の
結着剤樹脂、および溶剤と共に、ホモジナイザー、超音
波、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトラ
イター、ロールミルなどの方法でよく分散し、塗布−乾
燥されて形成される。
結着剤樹脂、および溶剤と共に、ホモジナイザー、超音
波、ボールミル、振動ボールミル、サンドミル、アトラ
イター、ロールミルなどの方法でよく分散し、塗布−乾
燥されて形成される。
その厚みは0.1〜1μ程度である。
電荷輸送層は本9発明に係るマレインイミド系樹脂とシ
リコーン系クシ型グラフトポリマーとを結着剤として電
荷輸送物質と共に溶剤に溶解し、電荷発生層上に塗布さ
れる。電荷輸送物質と結着剤樹脂との混合割合は2:1
〜1:2程度である。
リコーン系クシ型グラフトポリマーとを結着剤として電
荷輸送物質と共に溶剤に溶解し、電荷発生層上に塗布さ
れる。電荷輸送物質と結着剤樹脂との混合割合は2:1
〜1:2程度である。
溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロルベン
ゼン、クロロホルム、四塩化炭素などの塩素系炭化水素
類などが用いられる。
トン類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロルベン
ゼン、クロロホルム、四塩化炭素などの塩素系炭化水素
類などが用いられる。
この溶液を塗布する際には、例えば浸漬コーティング法
、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法
、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、カ
ーテンコーティング法などのコーティング法を用いるこ
とができ、乾燥は10℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃の範囲の温度で5分〜5時間、好ましくは1
0分〜2時間の時間で送風乾燥または静止乾燥下で行な
うことができる。生成した電荷輸送層の膜厚は5〜20
μ程度である。
、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法
、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、カ
ーテンコーティング法などのコーティング法を用いるこ
とができ、乾燥は10℃〜200℃、好ましくは20℃
〜150℃の範囲の温度で5分〜5時間、好ましくは1
0分〜2時間の時間で送風乾燥または静止乾燥下で行な
うことができる。生成した電荷輸送層の膜厚は5〜20
μ程度である。
また、電荷輸送層には、種々の添加剤を含有させること
ができる。かかる添加剤としては、ジフェニル、塩化ジ
フェニル、〇−ターフェニル、p−ターフェニル、ジブ
チルフタレート、ジメチルグリコールフタレート、ジオ
クチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタリ
ン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ジラウリルチ
オプロピオネート、3,5−ジニトロサリチル酸、各種
フルオロカーボン類などを挙げることができる。
ができる。かかる添加剤としては、ジフェニル、塩化ジ
フェニル、〇−ターフェニル、p−ターフェニル、ジブ
チルフタレート、ジメチルグリコールフタレート、ジオ
クチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタリ
ン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ジラウリルチ
オプロピオネート、3,5−ジニトロサリチル酸、各種
フルオロカーボン類などを挙げることができる。
一方、電荷発生層を表面層とする機能分離型感光体では
本発明に係るマレインイミド系樹脂とシリ−コン系クシ
型グラフトポリマーとを電荷発生物質の結着剤として用
いることができる。
本発明に係るマレインイミド系樹脂とシリ−コン系クシ
型グラフトポリマーとを電荷発生物質の結着剤として用
いることができる。
更に、感光層を本発明に係る表面層とする単層型感光体
においてもマレインイミド系樹脂とシリ−コン系クシ型
グラフトポリマーとを結着剤として感光層に用いること
ができ、又感光体表面に非感光性の表面層を例えば保護
層として設ける場合、本発明に係るマレインイミド系樹
脂とシリコーン系クシ型ポリマーを保護膜形成材料とし
て用いることができる。
においてもマレインイミド系樹脂とシリ−コン系クシ型
グラフトポリマーとを結着剤として感光層に用いること
ができ、又感光体表面に非感光性の表面層を例えば保護
層として設ける場合、本発明に係るマレインイミド系樹
脂とシリコーン系クシ型ポリマーを保護膜形成材料とし
て用いることができる。
以下、本発明を実施例に従って説明する。
以下の実施例で用いたシリ−コン系クシ型グラフトポリ
マー(試料Na a w o )はクシ型グラフトポリ
マーの合成方法が開示されている特開昭58−1676
06、特開昭59−126478に準じて前記一般式(
I)および/または前記一般式(II)で示されるシリ
コーンと少なくとも前記一般式(I[[)との縮合反応
生成物である変性シリコーンとラジカル重合性モノマー
をラジカル共重合して合成したものであり、その組成は
表1に示す如くである。
マー(試料Na a w o )はクシ型グラフトポリ
マーの合成方法が開示されている特開昭58−1676
06、特開昭59−126478に準じて前記一般式(
I)および/または前記一般式(II)で示されるシリ
コーンと少なくとも前記一般式(I[[)との縮合反応
生成物である変性シリコーンとラジカル重合性モノマー
をラジカル共重合して合成したものであり、その組成は
表1に示す如くである。
合成したシリコーン型グラフトポリマーの構造を、試料
Naaおよびhについて代表例として以下に示す。
Naaおよびhについて代表例として以下に示す。
試料a
n:平均:30
9貫・ q■ :正の整数
A、/Bl : 30/70 (重量比)試料h
A t B tn:平均:30
ptr qt’正の整数
At /B! : 30/70 (重量比)実施例1
ニューシーラント産うクチックカゼインを10部(重量
部、以下同様)計りとり、水90部に分散させた後、ア
ンモニア水1部を加えて溶解させた。一方、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロース樹脂(商品名:メトローズ6
0SH50、信越化学製)3部を水20部に溶解させ、
次いで両者を混合して下引き層の塗布液を作った。
部、以下同様)計りとり、水90部に分散させた後、ア
ンモニア水1部を加えて溶解させた。一方、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロース樹脂(商品名:メトローズ6
0SH50、信越化学製)3部を水20部に溶解させ、
次いで両者を混合して下引き層の塗布液を作った。
この液を80φX 3 Q O*mのへ1シリンダーに
浸漬法で塗布し、80℃で10分間乾燥させ、2μ厚の
下引き層を形成した。
浸漬法で塗布し、80℃で10分間乾燥させ、2μ厚の
下引き層を形成した。
次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部酢酸酪酸セルロ
ース樹脂(商品名: CA B −381:イーストマ
ン化学製)6部およびシクロヘキサノン60部をlφガ
ラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散した
。この分散液にメチルオチルケトン100部を加えて、
上記下引層上に浸漬塗布し、100℃で10分間の加熱
乾燥をして、0.1g/rdの塗布量の電荷発生層をも
うけた。
ース樹脂(商品名: CA B −381:イーストマ
ン化学製)6部およびシクロヘキサノン60部をlφガ
ラスピーズを用いたサンドミル装置で20時間分散した
。この分散液にメチルオチルケトン100部を加えて、
上記下引層上に浸漬塗布し、100℃で10分間の加熱
乾燥をして、0.1g/rdの塗布量の電荷発生層をも
うけた。
次いで、下記構造式のヒドラゾン化合物を10部、
一般式(V)の具体例光123のフェニルマレインイミ
ドとメタクリル酸メチルとを共重合せしめた樹脂10部
をジクロロメタン100部に溶解した。この液に試料1
1kLaシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分
として0.2部加えた。この溶液を上記電荷発生層上に
塗布し100℃1時間熱風乾燥して16μ厚の電荷輸送
層を形成した。
ドとメタクリル酸メチルとを共重合せしめた樹脂10部
をジクロロメタン100部に溶解した。この液に試料1
1kLaシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分
として0.2部加えた。この溶液を上記電荷発生層上に
塗布し100℃1時間熱風乾燥して16μ厚の電荷輸送
層を形成した。
これを試料1とする。同様に試料Nl b w oのシ
リコーン系クシ型グラフトポリマーを用いて調製した電
子写真感光体を試料2〜15とする。
リコーン系クシ型グラフトポリマーを用いて調製した電
子写真感光体を試料2〜15とする。
比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。
しないものを上記と同様にして作成した。
これらを試料16とする。
これらの試料に対し、−5,5kV、コロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレードによるクリーニングからなる電子写真プ
ロセスにて5000枚の耐久性評価を行なった。その結
果を下記表1に示した。
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレードによるクリーニングからなる電子写真プ
ロセスにて5000枚の耐久性評価を行なった。その結
果を下記表1に示した。
表 1
実施例2
実施例1で用いたヒドラゾン化合物10部及び一般式(
、V)の具体例N1124のメチルマレインイミドスチ
レンとを共重合せしめた樹脂10部をモノクロルベンゼ
ン80部に溶解した。この液に試料mhのシリコーン系
クシ型グラフI・ポリマーを固形分として0.4部加え
た。この溶液を実施例1と同様にして作成した電荷発生
層まで塗工した基体上に塗布し、100℃1時間熱風乾
燥して16μ厚の電荷輸送層を形成した。これを試料1
7とする。
、V)の具体例N1124のメチルマレインイミドスチ
レンとを共重合せしめた樹脂10部をモノクロルベンゼ
ン80部に溶解した。この液に試料mhのシリコーン系
クシ型グラフI・ポリマーを固形分として0.4部加え
た。この溶液を実施例1と同様にして作成した電荷発生
層まで塗工した基体上に塗布し、100℃1時間熱風乾
燥して16μ厚の電荷輸送層を形成した。これを試料1
7とする。
比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。
しないものを上記と同様にして作成した。
これを試料18とする。
これらの試料を実施例1と同一の条件下で耐久性評価を
行なった。その結果を表2に示す。
行なった。その結果を表2に示す。
表 2
実施例3
80φ×300璽lのアルミニウムシリンダを基体とし
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東し製)の5%メタ−ノール溶液を浸漬法で塗布し
、1μ厚の下引き層をもうけた。
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東し製)の5%メタ−ノール溶液を浸漬法で塗布し
、1μ厚の下引き層をもうけた。
次に下記構造式のピラゾリン化合物12部と実施例2で
合成したマレインイミド系樹脂10部をモノクロルベン
ゼン60部に溶解した。
合成したマレインイミド系樹脂10部をモノクロルベン
ゼン60部に溶解した。
この液を上記下引き層上に浸漬塗布し100℃、1時間
の乾燥をして14μの電荷輸送層を形成した。
の乾燥をして14μの電荷輸送層を形成した。
次に下記構造式のビスアゾ顔料10部を実施例1で合成
したマレインイミド系樹脂の10wt%ジオキサン溶液
100部の中へ加え、ガラスピーズを用いたサンドミル
装置で20時間分散した。この分散液に試料ll&lc
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分として
1部加えた。この溶液を電荷輸送層上に突き上げ塗布し
100℃20分間乾燥して2μ厚の電荷発生層を形成し
た。
したマレインイミド系樹脂の10wt%ジオキサン溶液
100部の中へ加え、ガラスピーズを用いたサンドミル
装置で20時間分散した。この分散液に試料ll&lc
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分として
1部加えた。この溶液を電荷輸送層上に突き上げ塗布し
100℃20分間乾燥して2μ厚の電荷発生層を形成し
た。
これを試料19とする。比較のためシリコーン系クシ型
グラフトポリマーを加えない試料を上記と同様にして作
成した。これを試料20とする。
グラフトポリマーを加えない試料を上記と同様にして作
成した。これを試料20とする。
こうして得られた試料を+5.6kVコロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレード、によるクリーニング工程等を有する電
子写真複写機に取りつけて、32.5℃、RH90%の
環境にて3000枚の耐久性評価を行った。その結果を
表3に示す。
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレード、によるクリーニング工程等を有する電
子写真複写機に取りつけて、32.5℃、RH90%の
環境にて3000枚の耐久性評価を行った。その結果を
表3に示す。
表 3
実施例4
実施例1で用いたヒドラゾン化合物10部と実施例2で
合成したマレインイミド系樹脂10部をモノクロルベン
ゼン60部に溶解した。実施例3と同様にして形成した
下引き層上にこの溶液を浸漬塗布し100℃、1時間の
乾燥をして15μの電荷輸送層を形成した。
合成したマレインイミド系樹脂10部をモノクロルベン
ゼン60部に溶解した。実施例3と同様にして形成した
下引き層上にこの溶液を浸漬塗布し100℃、1時間の
乾燥をして15μの電荷輸送層を形成した。
次に実施例3で用いたビスアゾ顔料10部を実施例2で
合成したマレインイミド系樹脂10−t%のモノクロル
ベンゼン溶液100部の中へ加えガラスピーズを用いた
サンドミル装置で20時間分散した。この分散液に試料
Nnjシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分と
して1部加えた。
合成したマレインイミド系樹脂10−t%のモノクロル
ベンゼン溶液100部の中へ加えガラスピーズを用いた
サンドミル装置で20時間分散した。この分散液に試料
Nnjシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分と
して1部加えた。
この溶液を電荷輸送層上に突き上げ塗布し100’C2
0分間乾燥して、2.5μ厚の電荷発生層を形成した。
0分間乾燥して、2.5μ厚の電荷発生層を形成した。
これを試料21とする。比較のためシリコーン系クシ型
グラフトポリマーを加えない試料を上記と同様にして作
成した。これを試料22とする。
グラフトポリマーを加えない試料を上記と同様にして作
成した。これを試料22とする。
これらの試料を実施例3と同一の条件下で耐久性評価を
行なった。その結果を表4に示す。
行なった。その結果を表4に示す。
表 2
実施例5
実施例1で合成したマレインイミド系樹脂2部をジクロ
ルメタン100部に溶解した。この溶液に試料IVhe
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分で0.
15部加えた。この溶液を実施例1の試料6と同様に作
成した電子写真感光体の上にスプレー塗布し、100°
C5分乾燥させて0.5μの保護層を形成した。これを
試料23とする。
ルメタン100部に溶解した。この溶液に試料IVhe
のシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分で0.
15部加えた。この溶液を実施例1の試料6と同様に作
成した電子写真感光体の上にスプレー塗布し、100°
C5分乾燥させて0.5μの保護層を形成した。これを
試料23とする。
同様に実施例2で合成したマレインイミド系樹脂2部を
モノクロルベンゼン100部にm 解し、さらに試料N
utのシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分で
0.5部加えた。この溶液を実施例2の試料18と同様
に作成した電子写真感光体の上にスプレー塗布し、10
0°C5分乾燥させて0.4μの保護層を形成した。こ
れを試料24とする。これらの試料を実施例1と同様の
条件下で3000枚の耐久性評価を行なった。その結果
を表5に示す。
モノクロルベンゼン100部にm 解し、さらに試料N
utのシリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分で
0.5部加えた。この溶液を実施例2の試料18と同様
に作成した電子写真感光体の上にスプレー塗布し、10
0°C5分乾燥させて0.4μの保護層を形成した。こ
れを試料24とする。これらの試料を実施例1と同様の
条件下で3000枚の耐久性評価を行なった。その結果
を表5に示す。
表 5
比較例
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの代わりにシリコ
ーンオイル(商品名KF96信越シリコーン■製)を固
形分として1.0部を用いたほかは実施例1と同様に作
成した試料を試料25とする。
ーンオイル(商品名KF96信越シリコーン■製)を固
形分として1.0部を用いたほかは実施例1と同様に作
成した試料を試料25とする。
同様に上記のシリコーンオイル1.0部を用いるほかは
実施例4と同様に作成した試料を試料26とする。これ
らの試料を実施例1及び3と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、他力ブリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
25.26を作成して1か月後に観察するとシリコーン
オイルが表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方
、シリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料
1〜15,17,19.21,23.24にはこの様な
経時変化は認められず、初期と同様の外観、特性を示し
た。
実施例4と同様に作成した試料を試料26とする。これ
らの試料を実施例1及び3と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、他力ブリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
25.26を作成して1か月後に観察するとシリコーン
オイルが表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方
、シリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料
1〜15,17,19.21,23.24にはこの様な
経時変化は認められず、初期と同様の外観、特性を示し
た。
実施例6
次に試料N11.17.25について−5,5kVコロ
ナ帯電器を有する電子写真複写機に取り付けて常温、常
温下5000枚の空帯電耐久試験を行ない、■。電位並
びに7.5ルツクス、秒置光させたVL電位の変動を測
定した。結果を表6に示す。
ナ帯電器を有する電子写真複写機に取り付けて常温、常
温下5000枚の空帯電耐久試験を行ない、■。電位並
びに7.5ルツクス、秒置光させたVL電位の変動を測
定した。結果を表6に示す。
表 6
上表に示す様にシリコーンオイルを添加した試料の50
00枚耐久後のvL変動は非常に大きい。
00枚耐久後のvL変動は非常に大きい。
それに対し本発明品は耐久時の電位が極めて安定してい
ることがわかる。
ることがわかる。
実施例7
次に試料1111121及び26について、+5.5k
Vコロナ帯電器を存する電子写真機に取り付けて常温、
常温下、3000枚の空帯電耐久試験を行ない、Vo電
位及び7.5ルツクス、秒置光させvL電位の変動を測
定した。結果を表7に示す。
Vコロナ帯電器を存する電子写真機に取り付けて常温、
常温下、3000枚の空帯電耐久試験を行ない、Vo電
位及び7.5ルツクス、秒置光させvL電位の変動を測
定した。結果を表7に示す。
表 7
上表に示す様に、シリコーンオイルを添加した試料の3
000枚耐久後のVL変動は非常に大きい。それに対し
、本発明品においては耐久変動は小さい。
000枚耐久後のVL変動は非常に大きい。それに対し
、本発明品においては耐久変動は小さい。
実施例8
下記構造式のジスアゾ顔料3部、及び
実施例1で用いたマレインイミド系樹脂10部モノクロ
ルベンゼン50部を1φガラスピーズを用いたサンドミ
ル装置で20時間分散した。この液にiJ料11haの
シリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分として0
,2部、実施例1で示した構造式のヒドラゾン化合物1
0部を加え溶解した。この分散溶液を実施例1と同様に
して作成した下引き層を有する基体上に浸漬塗布し、1
00℃1時間乾燥して19μの光導電層を形成した。こ
れを試料27とする。
ルベンゼン50部を1φガラスピーズを用いたサンドミ
ル装置で20時間分散した。この液にiJ料11haの
シリコーン系クシ型グラフトポリマーを固形分として0
,2部、実施例1で示した構造式のヒドラゾン化合物1
0部を加え溶解した。この分散溶液を実施例1と同様に
して作成した下引き層を有する基体上に浸漬塗布し、1
00℃1時間乾燥して19μの光導電層を形成した。こ
れを試料27とする。
比較のためシリコーン系クシ型グラフトポリマーを添加
しないものを上記と同様にして作成した。
しないものを上記と同様にして作成した。
これを試料28とする。
これらの試料を実施例1と同一の条件下で耐久性評価を
行なった。その結果を表8に示す。
行なった。その結果を表8に示す。
表 8
比較例
シリコーン系クシ型グラフトポリマーの代わりにシリコ
ーンオイル(商品名KF96信越シ信越シリコーン金製
形分として1.0部を用いたほかは実施例8と同様に作
成した試料を試料29とする。
ーンオイル(商品名KF96信越シ信越シリコーン金製
形分として1.0部を用いたほかは実施例8と同様に作
成した試料を試料29とする。
この試料を実施例1及び3と同様の条件下で耐久性評価
を行なったが、地力ブリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
29を作成して1か月後に観察するとシリコーンオイル
が表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方、シリ
コーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料におい
てはこの様な経時変化は認められず、初期と同様の観察
、特性を示した。
を行なったが、地力ブリがはなはだしく、更にくり返し
コピーによってカブリの度合が大きくなった。また試料
29を作成して1か月後に観察するとシリコーンオイル
が表面層に移行し、しみ状に浮き出ていた。一方、シリ
コーン系クシ型グラフトポリマーを添加した試料におい
てはこの様な経時変化は認められず、初期と同様の観察
、特性を示した。
実施例9
次に前記試料1〜30についてウレタンゴムブレードと
表面層との間の摩擦力及び試料Na15〜20.25〜
29に関してA4紙の実焼耐久1000枚での表面層の
削れ量を測定した。その結果を表9に示す。
表面層との間の摩擦力及び試料Na15〜20.25〜
29に関してA4紙の実焼耐久1000枚での表面層の
削れ量を測定した。その結果を表9に示す。
表 9
*2 削れ量:初期における表面層膜厚−耐久後表面層
膜厚上表に示す様にシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーを添加した本発明品並びに、シリコーンオイルを添加
した比較試料は無添加試料に比較し、著しく摩擦抵抗が
低い。
膜厚上表に示す様にシリコーン系クシ型グラフトポリマ
ーを添加した本発明品並びに、シリコーンオイルを添加
した比較試料は無添加試料に比較し、著しく摩擦抵抗が
低い。
しかしながら削れ量に関しては、本発明におけるシリコ
ーン系クシ型ポリマーを添加したサンプルが最も小さい
値、即ち削れにくい事を示している。
ーン系クシ型ポリマーを添加したサンプルが最も小さい
値、即ち削れにくい事を示している。
さらにシリコーンオイル添加系においては前記の様に放
置安定性や耐久時の電位安定性に劣る。
置安定性や耐久時の電位安定性に劣る。
以上から明らかな如く本発明の電子写真感光体は特定の
シリコーン系クシ型グラフトポリマーをマレインイミド
系樹脂に配合することにより、表面の潤滑性に優れ、す
べり抵抗が低く結果的に耐摩耗性に優れ、感光体に耐久
性を付与する。また、すべり抵抗が低く、トナー融着等
のクリーニング不良がなく、常に高品位の画像を得るこ
とができる。
シリコーン系クシ型グラフトポリマーをマレインイミド
系樹脂に配合することにより、表面の潤滑性に優れ、す
べり抵抗が低く結果的に耐摩耗性に優れ、感光体に耐久
性を付与する。また、すべり抵抗が低く、トナー融着等
のクリーニング不良がなく、常に高品位の画像を得るこ
とができる。
Claims (7)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2、R_3、R_4、R_5は置
換基を有してもよいアルキル基またはアリール基を示し
、nは平均重合度を示す。) 及び/又は一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_6、R_7は置換基を有してもよいアルキ
ル基またはアリール基を示し、nは平均重合度を示す。 ) で示されるシリコーンと少なくとも一般式(III)▲数
式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_8、R_9、R_1_0は水素原子、ハロ
ゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基またはアリ
ール基を示し、R_1_1は置換基を有してもよいアル
キル基またはアリール基を示し、Xはハロゲン原子、置
換基を有してもよいアルコキシ基を示し、mは1〜3の
整数を示す。) で示される化合物との縮合反応生成物と重合性不飽和結
合含有化合物との共重合体であるシリコーン系クシ型グ
ラフトポリマーとマレインイミド系樹脂を、少なくとも
基体より最も離隔せる層中に含有せることを特徴とする
電子写真感光体。 - (2)感光層と非感光性の表面層とを構成分として有し
、基体より最も離隔する層が前記非感光性の表面層であ
る特許請求の範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 - (3)感光層が、電荷発生層と電荷輸送層との積層構造
を有する特許請求の範囲第(2)項記載の電子写真感光
体。 - (4)基体より最も離隔する層として感光層を有する特
許請求の範囲第(1)項記載の電子写真感光体。 - (5)電荷発生層と電荷輸送層との積層構造を有する感
光層を構成分として有し、基体より最も離隔する層が前
記電荷輸送層である特許請求の範囲第(1)項記載の電
子写真感光体。 - (6)電荷発生層と電荷輸送層との積層構造を有する感
光層を構成分として有し、基体より最も離隔する層が前
記電荷発生層である特許請求の範囲第(1)項記載の電
子写真感光体。 - (7)基体より最も離隔する層におけるシリコーン系ク
シ型グラフトポリマーの含量が0.01〜10重量%の
範囲内である特許請求の範囲第(1)項乃至第(6)項
のうちの1に記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5067886A JPS62208055A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5067886A JPS62208055A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62208055A true JPS62208055A (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=12865591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5067886A Pending JPS62208055A (ja) | 1986-03-10 | 1986-03-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62208055A (ja) |
-
1986
- 1986-03-10 JP JP5067886A patent/JPS62208055A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0512700B2 (ja) | ||
| JPS63249152A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH054667B2 (ja) | ||
| JPH0323902B2 (ja) | ||
| JPH0443582B2 (ja) | ||
| JPH0547104B2 (ja) | ||
| JPH06214409A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0547106B2 (ja) | ||
| JPS62208055A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS62223757A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0549102B2 (ja) | ||
| JPH0443580B2 (ja) | ||
| JPS61219049A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS62208056A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS62205356A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0547107B2 (ja) | ||
| JPH0547105B2 (ja) | ||
| JPS62208053A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0728255A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS62205357A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0547108B2 (ja) | ||
| JPS61238061A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS6255663A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0443581B2 (ja) | ||
| JPS62205359A (ja) | 電子写真感光体 |