JPS62289548A - １−（４−ヒドロキシフエニル）−２−アミノエタノ−ルの製造法 - Google Patents
１−（４−ヒドロキシフエニル）−２−アミノエタノ−ルの製造法Info
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- JPS62289548A JPS62289548A JP62108907A JP10890787A JPS62289548A JP S62289548 A JPS62289548 A JP S62289548A JP 62108907 A JP62108907 A JP 62108907A JP 10890787 A JP10890787 A JP 10890787A JP S62289548 A JPS62289548 A JP S62289548A
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- alkyl
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- alkanoyloxymethyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式
（式中Ｒ３はアルキル基、アルアルキル基又はフェノキ
シアルキル基、Ｒ２は低級アルキル基を示ス）で表わさ
れる１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタ
ノールの新規な製造法に関する。
シアルキル基、Ｒ２は低級アルキル基を示ス）で表わさ
れる１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタ
ノールの新規な製造法に関する。
式Ｉの化合物（例えばエピネフリン）は交感神経作動作
用を有し、循環系疾患の治療及び予防に有用であること
が知られている。例えばＲ２及びＲ３がメチル基である
式Ｉの化合物はスプリフェンと呼ばれ、起立性低血圧、
起立性調節障害、外科手術時の血圧降下等の治療薬とし
て用いられ、また、Ｒ３が１−メチル−フェノキシエチ
ル基又は１−メチル−６−フェニルプロピル基、Ｒ２が
メチル基である式Ｉの化合物は、それぞれ塩酸インクス
プリン及び塩酸ナイリドリンと呼ばれ、血管拡張剤とし
て用いられている。
用を有し、循環系疾患の治療及び予防に有用であること
が知られている。例えばＲ２及びＲ３がメチル基である
式Ｉの化合物はスプリフェンと呼ばれ、起立性低血圧、
起立性調節障害、外科手術時の血圧降下等の治療薬とし
て用いられ、また、Ｒ３が１−メチル−フェノキシエチ
ル基又は１−メチル−６−フェニルプロピル基、Ｒ２が
メチル基である式Ｉの化合物は、それぞれ塩酸インクス
プリン及び塩酸ナイリドリンと呼ばれ、血管拡張剤とし
て用いられている。
Ｒ２がメチル基である式Ｉの化合物の製造法としては、
下記に示される反応経路によって、４−ベンジルオキシ
フェナシルブロマイドと対応するアミン類との縮合生成
物を還元する方法が知られている（米国特許第１８７８
０２１号、第３０５６８３６号及び第２６６１３７３号
明細書参照）。
下記に示される反応経路によって、４−ベンジルオキシ
フェナシルブロマイドと対応するアミン類との縮合生成
物を還元する方法が知られている（米国特許第１８７８
０２１号、第３０５６８３６号及び第２６６１３７３号
明細書参照）。
この方法では４−ペンジルオキシフエナシルプロマ・イ
ドが７エノールから６段階を経て製造されるため、工程
数が多く、高価な原料を使用するうえ、操作も煩雑であ
る。更に全工程を通じての収率及び選択性も良好でない
。
ドが７エノールから６段階を経て製造されるため、工程
数が多く、高価な原料を使用するうえ、操作も煩雑であ
る。更に全工程を通じての収率及び選択性も良好でない
。
本発明は、一般式
（式中Ｒ，Ｒ”及びＲ２は低級アルキル基を意味する）
で表わされる１−（４−アルカノイルオキシフェニル）
−１−アルカノイルオキシメチルアルキルケトンを、−
級アミンの存在下に接触水素化し、生成物を加水分解す
ることを特徴とする、一般式 （式中Ｒ３はアルキル基、アルアルキル基又はフェノキ
シアルキル基、Ｒ２は低級アルキル基を示す）で表わさ
れる１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタ
ノールの製造法である。
で表わされる１−（４−アルカノイルオキシフェニル）
−１−アルカノイルオキシメチルアルキルケトンを、−
級アミンの存在下に接触水素化し、生成物を加水分解す
ることを特徴とする、一般式 （式中Ｒ３はアルキル基、アルアルキル基又はフェノキ
シアルキル基、Ｒ２は低級アルキル基を示す）で表わさ
れる１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノエタ
ノールの製造法である。
式■の化合物の置換基Ｒ３のためのアルキル基としては
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基又はヘキシル基、アルアルキル基としては例え
ば１−メチル−３−フェニルプロピル基、フェノキシア
ルキル基トしては例えば１−メチル−フェノキシエチル
基があげられる。
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基又はヘキシル基、アルアルキル基としては例え
ば１−メチル−３−フェニルプロピル基、フェノキシア
ルキル基トしては例えば１−メチル−フェノキシエチル
基があげられる。
本発明に用いられる１−（４−アルカノイルオキシフェ
ニル）−１−アルカノイルオキシメチルアルキルケトン
（ｎ）は文献未載の新規化合物であって、パラオキシ安
息香酸を低級脂肪酸無水物の存在下に電解還元すること
により得られる（特開昭５９−８８４４４７号明細書参
照）。
ニル）−１−アルカノイルオキシメチルアルキルケトン
（ｎ）は文献未載の新規化合物であって、パラオキシ安
息香酸を低級脂肪酸無水物の存在下に電解還元すること
により得られる（特開昭５９−８８４４４７号明細書参
照）。
本発明に用いられる一級アミンとしては、例えばメチル
アミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン
、２−アミノ−４−フェニルブタン、１−メチル−２−
フェノキジエチルアミンなどがあげられる。
アミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン
、２−アミノ−４−フェニルブタン、１−メチル−２−
フェノキジエチルアミンなどがあげられる。
式■の化合物の還元的アミノ化反応は、通常の接触水素
添加反応と同様の条件で行うことができ、反応後、触媒
を戸去したのち、涙液をそのまま加水分解すれば最終目
的物（１）を好収率で得ることができる。
添加反応と同様の条件で行うことができ、反応後、触媒
を戸去したのち、涙液をそのまま加水分解すれば最終目
的物（１）を好収率で得ることができる。
本発明を実施するに際しては、水素雰囲気中で触媒の存
在下に、式Ｈの化合物をアミンと反応させる。反応系の
水素圧は０．５〜５気圧、好ましくは１〜２気圧である
。触媒としては例えば白金−炭素が用いられる。アミン
の使用量は、式■の化合物に対し１〜５倍モルが好まし
い。
在下に、式Ｈの化合物をアミンと反応させる。反応系の
水素圧は０．５〜５気圧、好ましくは１〜２気圧である
。触媒としては例えば白金−炭素が用いられる。アミン
の使用量は、式■の化合物に対し１〜５倍モルが好まし
い。
触媒の使用量は、式■の化合物に対し約１〜１０重量％
、好ま、シ（は２〜５重量％である。反応は、溶媒例え
ばエタノール等に式■の化合物を０．１〜１モル／！の
濃度に溶解して行うことが好ましい。
、好ま、シ（は２〜５重量％である。反応は、溶媒例え
ばエタノール等に式■の化合物を０．１〜１モル／！の
濃度に溶解して行うことが好ましい。
反応温度は通常５〜５０℃、好ましくは１５〜３５℃で
ある。水素添加反応装置としては、この種の反応に通常
用いられる装置、例えば振動オートクレーブ、攪拌装置
を備えたガラス容器又はエナメル塗装容器が好ましい。
ある。水素添加反応装置としては、この種の反応に通常
用いられる装置、例えば振動オートクレーブ、攪拌装置
を備えたガラス容器又はエナメル塗装容器が好ましい。
次いで反応生成物を必要に応じ単離したのち加水分解す
ると、式Ｉの化合物が得られる。加水分解は常法により
例えばアルカリ性含水アルコール中で行われる。
ると、式Ｉの化合物が得られる。加水分解は常法により
例えばアルカリ性含水アルコール中で行われる。
本発明方法によれば、１−（４−ヒドロキシフェニル）
−２−アミノエタノール（１）を工業的に有利に製造す
ることができる。
−２−アミノエタノール（１）を工業的に有利に製造す
ることができる。
参考例
容量１００ｒｎｌのビーカー型電解セルに、温度計及び
容量５１ ｍｌの素焼き磁性円筒を取り付け、さらに炭
素棒（長さ１５６ｍ、断面積５０ ｍ２）をその中に挿
入して陽極とすると共に、陰極として鉛板（縦５０１ｍ
、横５００、厚さ１ ｗａ ）を取り付けて電解還元装
置とする。
容量５１ ｍｌの素焼き磁性円筒を取り付け、さらに炭
素棒（長さ１５６ｍ、断面積５０ ｍ２）をその中に挿
入して陽極とすると共に、陰極として鉛板（縦５０１ｍ
、横５００、厚さ１ ｗａ ）を取り付けて電解還元装
置とする。
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド８Ｑｒｎｌにパラトルエ
ンスルホン酸テトラエチルアンモニウム２０Ｉを溶解し
た溶液を、前記の陽極両極室に入れ、次いで陰極室にパ
ラオキシ安息香酸２．７６．９ （０，０２モル）及び
無水酢酸２０．４９ （０，２０モル）を加え、陰極液
を磁気攪拌器により攪拌しながら、定電流値０．２ Ｏ
Ａ （電流密度１．５Ａ ／ ｄｍ２）、極間電圧５〜
１０Ｖの条件下に通電を開始する。２フアラデ一１モル
の電気量（理論量の５０％）を５時間２０分を要して通
電したのち、陰極液から減圧下に過剰の無水酢酸及びＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミドの大部分を留去する。残留
物に水２００ＦｌＬｔを加え、酢酸エチル又はエチルエ
ーテルで６回抽出する。抽出液を重炭酸ナトリウム水溶
液で６回洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥する。
ンスルホン酸テトラエチルアンモニウム２０Ｉを溶解し
た溶液を、前記の陽極両極室に入れ、次いで陰極室にパ
ラオキシ安息香酸２．７６．９ （０，０２モル）及び
無水酢酸２０．４９ （０，２０モル）を加え、陰極液
を磁気攪拌器により攪拌しながら、定電流値０．２ Ｏ
Ａ （電流密度１．５Ａ ／ ｄｍ２）、極間電圧５〜
１０Ｖの条件下に通電を開始する。２フアラデ一１モル
の電気量（理論量の５０％）を５時間２０分を要して通
電したのち、陰極液から減圧下に過剰の無水酢酸及びＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミドの大部分を留去する。残留
物に水２００ＦｌＬｔを加え、酢酸エチル又はエチルエ
ーテルで６回抽出する。抽出液を重炭酸ナトリウム水溶
液で６回洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥する。
洗浄液に塩酸を加えて酸性にすると、未反応のパラオキ
シ安息香酸１．４０ ！Ｉが得られる。反応率は４９％
である。
シ安息香酸１．４０ ！Ｉが得られる。反応率は４９％
である。
抽出液から乾燥剤を戸別し、溶媒を留去したのち、カラ
ムクロマトグラフィ（シリカゲル、展開液：ヘキサン−
ベンゼン）で溶出すると、生成物１．６５１が得られる
。これは消費されたパラオキシ安息香酸を基準にして収
率６７％である。
ムクロマトグラフィ（シリカゲル、展開液：ヘキサン−
ベンゼン）で溶出すると、生成物１．６５１が得られる
。これは消費されたパラオキシ安息香酸を基準にして収
率６７％である。
ＮＭＲ−、マス−１ＩＲ−スペクトル、ガスクロマトグ
ラフィ及び元素分析により、この生成物は純度９２〜９
５％の１−（４−アセトキシフェニル）−１−アセトキ
シアセトンであることが確認された。
ラフィ及び元素分析により、この生成物は純度９２〜９
５％の１−（４−アセトキシフェニル）−１−アセトキ
シアセトンであることが確認された。
ＮＭＲスペクトル
７．４５．７．２４ （Ａ２Ｂ２型４重項、４Ｈ）５．
９１（１重項、ＩＨ） ２．１５（１重項、３Ｈ） ２．０８（１重項、３Ｈ） ２．０１（１重項、３Ｈ） ＩＲスペクトル： ｎｅａｔ％ａｎ−”１７３０〜１７
２０．１６８０ マススペクトル： ｍ ／ ｅ、２６０（分子ピーク）
元素分析値 ＣＨ 計算値（（６） ６２．３９ ５．６４実測値（％）
６２．０５ ５．８１実施例１ 容量１００ｍ１の丸底フラスコに参考例で得られた１−
（４−アセトキシフェニル）−１−アセトキシアセトン
２．６０ｇ（０，０１モル）、４０重量％メチルアミン
−メタノール溶液８．０９（０，１０モル）、エタノー
ル４Ｑｍｌ及び５重量％ｐｄ／活性炭触媒０．２１を入
れる。この混合液素添加反応を行う。化学量論量よりや
や過剰の水素が吸収されたのち、反応混合液から触媒を
戸別し、この触媒をエタノールでよく洗浄する。
９１（１重項、ＩＨ） ２．１５（１重項、３Ｈ） ２．０８（１重項、３Ｈ） ２．０１（１重項、３Ｈ） ＩＲスペクトル： ｎｅａｔ％ａｎ−”１７３０〜１７
２０．１６８０ マススペクトル： ｍ ／ ｅ、２６０（分子ピーク）
元素分析値 ＣＨ 計算値（（６） ６２．３９ ５．６４実測値（％）
６２．０５ ５．８１実施例１ 容量１００ｍ１の丸底フラスコに参考例で得られた１−
（４−アセトキシフェニル）−１−アセトキシアセトン
２．６０ｇ（０，０１モル）、４０重量％メチルアミン
−メタノール溶液８．０９（０，１０モル）、エタノー
ル４Ｑｍｌ及び５重量％ｐｄ／活性炭触媒０．２１を入
れる。この混合液素添加反応を行う。化学量論量よりや
や過剰の水素が吸収されたのち、反応混合液から触媒を
戸別し、この触媒をエタノールでよく洗浄する。
テ液と洗液を合わし、減圧下で約３ Ｑ ｍｌになるま
で濃縮する。この濃縮液に１０重量％の水酸化ナトリウ
ム水溶液１０．９を加え、約１時間加熱還流する。次い
で減圧下にエタノールを留去し、残留液を希塩酸で中和
したのち塩化メチレンで６回抽出する。抽出液を硫酸マ
グネシウムで乾燥したのち乾燥剤を戸別し、炉液に塩化
水素ガスを導入する。析出する沈殿を戸取して乾燥する
と、融点２０８〜２１１℃のスズリフエンの塩酸塩が１
．８６ ｇ（収率８６％）得られる。
で濃縮する。この濃縮液に１０重量％の水酸化ナトリウ
ム水溶液１０．９を加え、約１時間加熱還流する。次い
で減圧下にエタノールを留去し、残留液を希塩酸で中和
したのち塩化メチレンで６回抽出する。抽出液を硫酸マ
グネシウムで乾燥したのち乾燥剤を戸別し、炉液に塩化
水素ガスを導入する。析出する沈殿を戸取して乾燥する
と、融点２０８〜２１１℃のスズリフエンの塩酸塩が１
．８６ ｇ（収率８６％）得られる。
実施例２
メチルアミン−メタノール溶液の代りに２−アミノ−４
−フェニルブタン７、４５．９ （０，０５モル）を用
い、その他は実施例１と同様に処理すると、ナイリドリ
ンが２．１０．ｐ （収率７３％）得られる。融点１０
８〜１１２℃。
−フェニルブタン７、４５．９ （０，０５モル）を用
い、その他は実施例１と同様に処理すると、ナイリドリ
ンが２．１０．ｐ （収率７３％）得られる。融点１０
８〜１１２℃。
実施例６
メチルアミン−メタノール溶液の代りに１−−メチル−
２−フェノキジエチルアミン１５．１．９（０，１０モ
ル）を用い、その他は実施例１と同様に処理すると、塩
酸インクスゲリンが１．９１９（収率６９％）得られる
０融点２０２〜２０４℃。
２−フェノキジエチルアミン１５．１．９（０，１０モ
ル）を用い、その他は実施例１と同様に処理すると、塩
酸インクスゲリンが１．９１９（収率６９％）得られる
０融点２０２〜２０４℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒ、Ｒ＾１及びＲ＾２は低級アルキル基を意味す
る）で表わされる１−（４−アルカノイルオキシフェニ
ル）−１−アルカノイルオキシメチルアルキルケトンを
、一級アミンの存在下に接触水素化し、生成物を加水分
解することを特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｒ＾３はアルキル基、アルアルキル基又はフェノ
キシアルキル基、Ｒ＾２は低級アルキル基を示す）で表
わされる１−（４−ヒドロキシフェニル）−２−アミノ
エタノールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62108907A JPS62289548A (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | １−（４−ヒドロキシフエニル）−２−アミノエタノ−ルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62108907A JPS62289548A (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | １−（４−ヒドロキシフエニル）−２−アミノエタノ−ルの製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57198875A Division JPS5988444A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 新規アシロイン化合物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62289548A true JPS62289548A (ja) | 1987-12-16 |
| JPS6315261B2 JPS6315261B2 (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=14496660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62108907A Granted JPS62289548A (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | １−（４−ヒドロキシフエニル）−２−アミノエタノ−ルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62289548A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104860831A (zh) * | 2015-03-23 | 2015-08-26 | 李玉山 | 一种4-羟基盐酸麻黄碱的合成方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210103610A (ko) | 2020-02-13 | 2021-08-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
-
1987
- 1987-05-06 JP JP62108907A patent/JPS62289548A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104860831A (zh) * | 2015-03-23 | 2015-08-26 | 李玉山 | 一种4-羟基盐酸麻黄碱的合成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6315261B2 (ja) | 1988-04-04 |
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