JPS6237957A - 厚膜抵抗体の製造方法 - Google Patents
厚膜抵抗体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6237957A JPS6237957A JP60177916A JP17791685A JPS6237957A JP S6237957 A JPS6237957 A JP S6237957A JP 60177916 A JP60177916 A JP 60177916A JP 17791685 A JP17791685 A JP 17791685A JP S6237957 A JPS6237957 A JP S6237957A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thick film
- resistor
- film resistor
- resistance value
- electrode
- Prior art date
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- Pending
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、描画あるいは印刷によりセラミック基板上に
作製される厚膜抵抗体の製造方法に関するものである。
作製される厚膜抵抗体の製造方法に関するものである。
従来の技術
近年、電子機器の小型化にともない、その回路基板も小
型化となり、そのため高密度実装化の傾向にある。その
高密度実装の方法の１つにハイブリッドＩＣ（以下ＨＩ
Ｃと呼ぶ。）がある。ＨＩＯ２ページ に用いられる抵抗体の製造方法は、セラミック基板上に
抵抗体ならびに配線パターン形成後、抵抗体を描画また
は印刷により形成する方法がとられている。
型化となり、そのため高密度実装化の傾向にある。その
高密度実装の方法の１つにハイブリッドＩＣ（以下ＨＩ
Ｃと呼ぶ。）がある。ＨＩＯ２ページ に用いられる抵抗体の製造方法は、セラミック基板上に
抵抗体ならびに配線パターン形成後、抵抗体を描画また
は印刷により形成する方法がとられている。
従来の厚膜抵抗は第３図に示すように基板上の平面矩形
の抵抗体１を電極２，２に金山に接して構成している。
の抵抗体１を電極２，２に金山に接して構成している。
３は抵抗体１と電極２との接触部である。
一方、厚膜抵抗ペーストは抵抗体となる粒子の大きさ・
粘度・固形分の含有率等々により比抵抗が変化し、求め
ようとする比抵抗になかなか定まらず、抵抗値が目標抵
抗値からはなれてしまう傾向がある。そこで従来は、そ
の調整のため、一旦セソトしたペーストを印刷法ではス
クリーンから描画法では描画インクタンクより取りさり
、シンナー等の稀釈剤で粘度をコントロールしたり、他
の抵抗ペーストとブレンドしたりして調整していた。
粘度・固形分の含有率等々により比抵抗が変化し、求め
ようとする比抵抗になかなか定まらず、抵抗値が目標抵
抗値からはなれてしまう傾向がある。そこで従来は、そ
の調整のため、一旦セソトしたペーストを印刷法ではス
クリーンから描画法では描画インクタンクより取りさり
、シンナー等の稀釈剤で粘度をコントロールしたり、他
の抵抗ペーストとブレンドしたりして調整していた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記のような方法では、一旦セ３ ぺ−
７ ツトしたペーストを比抵抗調整のためスクリーンあるい
は描画インクタンクより取りさる・Ｖ・要があるため、
非常に生産性の悪いものであった。
７ ツトしたペーストを比抵抗調整のためスクリーンあるい
は描画インクタンクより取りさる・Ｖ・要があるため、
非常に生産性の悪いものであった。
本発明は上記問題点に鑑み、抵抗値の調整を簡単におこ
なえる厚膜抵抗体の製造方法を提供することを目的とす
る。
なえる厚膜抵抗体の製造方法を提供することを目的とす
る。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するだめ、厚膜抵抗体の福方向に厚膜
抵抗体作製位置を変化させ、厚膜抵抗体と厚膜抵抗体の
両端に形成される電極との接触面積を変化させることに
より所望の抵抗値を得る厚膜抵抗体の製造方法である。
抵抗体作製位置を変化させ、厚膜抵抗体と厚膜抵抗体の
両端に形成される電極との接触面積を変化させることに
より所望の抵抗値を得る厚膜抵抗体の製造方法である。
作用
本発明は」−記したように厚膜抵抗体の作製位置を抵抗
体長幅方向に変化させ、その両端に形成される電極との
接触面積を変化させることにより所望の抵抗値を得るも
のであるから、抵抗値の調整を簡単におこなえ所望抵抗
値を得ることになる。
体長幅方向に変化させ、その両端に形成される電極との
接触面積を変化させることにより所望の抵抗値を得るも
のであるから、抵抗値の調整を簡単におこなえ所望抵抗
値を得ることになる。
実施例
以下、本発明の一実施例の厚膜抵抗体の製造方法につい
て図面を参照しながら説明する。第１図。
て図面を参照しながら説明する。第１図。
第２図は本発明の厚膜抵抗体の製造方法により抵抗体を
形成した時の平面図である。第１図、第２図において抵
抗体と電極との接触面積を変化させている。第１図では
厚膜抵抗体と電極との接触部分はわずかであるが、第２
図ではほぼ全中にわたり接触している。
形成した時の平面図である。第１図、第２図において抵
抗体と電極との接触面積を変化させている。第１図では
厚膜抵抗体と電極との接触部分はわずかであるが、第２
図ではほぼ全中にわたり接触している。
第１図のごとく抵抗体を作製した際、抵抗値が所望抵抗
値より高い場合、第２図に示すように抵抗体を下方向に
ずらせて形成し、電極２は元の位、置のまま形成する。
値より高い場合、第２図に示すように抵抗体を下方向に
ずらせて形成し、電極２は元の位、置のまま形成する。
すると抵抗体と電極面積は増大し、それにしたがい抵抗
値は低くカリ所望抵抗値に近づく。つまり抵抗体作製後
の抵抗値を測定し、所望抵抗値に近づけるように抵抗体
の形成位置を変化させることにより所望抵抗値を得るこ
とができる。この接触面積と抵抗値の関係は第４図の抵
抗体において電極長さＸを変化させると第６図のように
なる。
値は低くカリ所望抵抗値に近づく。つまり抵抗体作製後
の抵抗値を測定し、所望抵抗値に近づけるように抵抗体
の形成位置を変化させることにより所望抵抗値を得るこ
とができる。この接触面積と抵抗値の関係は第４図の抵
抗体において電極長さＸを変化させると第６図のように
なる。
上記のように抵抗体の形成位置をずらせるには印刷によ
り厚膜抵抗体を形成する場合は、印刷機５ ページ に取付けるスクリーンの位置をずらせるか、印刷面のホ
ルダーの位置を微少に動かすことにより容易におこなう
ことができる。また描画方法によシ厚膜抵抗体を形成す
る場合は抵抗体描画位置座標を変化させればよい。
り厚膜抵抗体を形成する場合は、印刷機５ ページ に取付けるスクリーンの位置をずらせるか、印刷面のホ
ルダーの位置を微少に動かすことにより容易におこなう
ことができる。また描画方法によシ厚膜抵抗体を形成す
る場合は抵抗体描画位置座標を変化させればよい。
なお上記実施例では、電極の形成位置を一定とし、抵抗
体作製位置をずらせるとしたが、逆に抵抗体作製位置を
一定とし、電極作製位置をずらせてもよい。
体作製位置をずらせるとしたが、逆に抵抗体作製位置を
一定とし、電極作製位置をずらせてもよい。
発明の効果
本発明の厚膜抵抗体の製造方法によれば、抵抗体と電極
位置を相対的（でずらせただけで抵抗値調整をおこなう
ことができ、生産性が格段に向上する。
位置を相対的（でずらせただけで抵抗値調整をおこなう
ことができ、生産性が格段に向上する。
第１図、第２図は本発明の一実施例における平面図、第
３図は従来の厚膜抵抗体の製造方法により抵抗体を形成
したときの平面図、第４図は厚膜抵抗体の外観図、第６
図は第４図において電極の長さを変化させたときの抵抗
体の特性図である。 ６ ヘ−７ １・・・・・・厚膜抵抗体、２・・・・・・電極、３・
・・・・・厚膜抵抗体と電極接触部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／
−ｍ−簿膜抵抗体 ？−−−電 極 第１図 ３−１Ｈ腋＆！体と 霊屋の重ｆＪ、ｌ ４￥ ！ 第２図 第３図
３図は従来の厚膜抵抗体の製造方法により抵抗体を形成
したときの平面図、第４図は厚膜抵抗体の外観図、第６
図は第４図において電極の長さを変化させたときの抵抗
体の特性図である。 ６ ヘ−７ １・・・・・・厚膜抵抗体、２・・・・・・電極、３・
・・・・・厚膜抵抗体と電極接触部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／
−ｍ−簿膜抵抗体 ？−−−電 極 第１図 ３−１Ｈ腋＆！体と 霊屋の重ｆＪ、ｌ ４￥ ！ 第２図 第３図
Claims (1)
- 描画または印刷により作製される厚膜抵抗体の製造方
法であって、厚膜抵抗体の幅方向に厚膜抵抗体の作製位
置を変化させ、厚膜抵抗体と厚膜抵抗体の両端に形成さ
れる電極との接触面積を変化させることにより所望の抵
抗値を得る厚膜抵抗体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60177916A JPS6237957A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 厚膜抵抗体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60177916A JPS6237957A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 厚膜抵抗体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6237957A true JPS6237957A (ja) | 1987-02-18 |
Family
ID=16039303
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60177916A Pending JPS6237957A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | 厚膜抵抗体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6237957A (ja) |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP60177916A patent/JPS6237957A/ja active Pending
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