JPS6280278A - 無電解めつき浴 - Google Patents
無電解めつき浴Info
- Publication number
- JPS6280278A JPS6280278A JP21822785A JP21822785A JPS6280278A JP S6280278 A JPS6280278 A JP S6280278A JP 21822785 A JP21822785 A JP 21822785A JP 21822785 A JP21822785 A JP 21822785A JP S6280278 A JPS6280278 A JP S6280278A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- plating bath
- mol
- electroless plating
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 title claims description 6
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 2
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 claims description 2
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229940049920 malate Drugs 0.000 claims 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N malic acid Chemical compound OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 claims 1
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 claims 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 14
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N lead(2+) Chemical compound [Pb+2] RVPVRDXYQKGNMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- PQMFVUNERGGBPG-UHFFFAOYSA-N (6-bromopyridin-2-yl)hydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC(Br)=N1 PQMFVUNERGGBPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 5-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-2h-tetrazole Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C2=NNN=N2)=C1 KWSLGOVYXMQPPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100462378 Danio rerio otpb gene Proteins 0.000 description 1
- 235000010469 Glycine max Nutrition 0.000 description 1
- 244000068988 Glycine max Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- XIKYYQJBTPYKSG-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni].[Ni] XIKYYQJBTPYKSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O HELHAJAZNSDZJO-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 229910001379 sodium hypophosphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002167 sodium tartrate Drugs 0.000 description 1
- 239000001433 sodium tartrate Substances 0.000 description 1
- 235000011004 sodium tartrates Nutrition 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
- C23C18/32—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
- C23C18/34—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
- C23C18/36—Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録装置Ｋの磁気記録媒体１性膜）に関す
るものである。
るものである。
本発明は磁気記録媒体（磁性膜〕を作製するための無電
解めっき浴において亜鉛イオンを添加することにより、
磁気記録媒体のノイズ低減化、高保力化、及びビットエ
ラーを低減化したものである。
解めっき浴において亜鉛イオンを添加することにより、
磁気記録媒体のノイズ低減化、高保力化、及びビットエ
ラーを低減化したものである。
めっき法を用いた磁気記録媒体は一般に塗布型（γ−Ｆ
！ｅ２０ｇ分散法による）磁気記録媒体に比べ高記録Ｗ
！度を高くすることが可能なことから最近注目を集め、
小型固足式磁気記録装置に登載されるようになってきた
。特に均一磁性膜をめっきする手段及び置型システムを
考慮し、無ｉＩｔ解めつきを用いる場合が多い。
！ｅ２０ｇ分散法による）磁気記録媒体に比べ高記録Ｗ
！度を高くすることが可能なことから最近注目を集め、
小型固足式磁気記録装置に登載されるようになってきた
。特に均一磁性膜をめっきする手段及び置型システムを
考慮し、無ｉＩｔ解めつきを用いる場合が多い。
〔発明が解決しようとする問題点及び目的〕しかし従来
技術では１００ＯＴＰ１以上の高記録密度を達成しよう
とした４ｈ会ノイズが大きく、保持力が小さく、又、ビ
ットエラーが増力口するという問題点を有する。磁気記
録においてノイズはピークシフト、分解能、オーバーラ
イド、再生出力に大きく影４し、ノイズを小さくするこ
とが今後の高記録密度を追求していく上で非常に重要と
ナル。又、５Ｖ４インチ以下の固定式磁気記録装置を作
成する場合、ヘッド性能、モーター精度、回路系等のハ
ード、ソフト精度及び性能が高く要求され、記録密度か
ら見たそれぞれのマージンが分り与えられる。磁気記録
媒体においても同様にマージンが割シ与えられ、媒体自
身のマージンが大きければ、装置作成に非常に有利とな
る。一般にソ（７）マージンはフェーズマージンとして
表わされ、主にノイズとピークシフトにより同上するこ
とが可能である。すなわちフェーズマージンを有利にも
っていくために低ノイズ化することが重要となる。
技術では１００ＯＴＰ１以上の高記録密度を達成しよう
とした４ｈ会ノイズが大きく、保持力が小さく、又、ビ
ットエラーが増力口するという問題点を有する。磁気記
録においてノイズはピークシフト、分解能、オーバーラ
イド、再生出力に大きく影４し、ノイズを小さくするこ
とが今後の高記録密度を追求していく上で非常に重要と
ナル。又、５Ｖ４インチ以下の固定式磁気記録装置を作
成する場合、ヘッド性能、モーター精度、回路系等のハ
ード、ソフト精度及び性能が高く要求され、記録密度か
ら見たそれぞれのマージンが分り与えられる。磁気記録
媒体においても同様にマージンが割シ与えられ、媒体自
身のマージンが大きければ、装置作成に非常に有利とな
る。一般にソ（７）マージンはフェーズマージンとして
表わされ、主にノイズとピークシフトにより同上するこ
とが可能である。すなわちフェーズマージンを有利にも
っていくために低ノイズ化することが重要となる。
又高配ａ密度を意識した場合、保持力はある程゛
度大きいことが望ましい。
度大きいことが望ましい。
（記録密度）α（Ｈｃ／Ｂｒ−６）凭
（出力〕α（Ｂｒ−σ・１（ｃ）”’１記録ｍ［及び出
力は同一ヘッドを用いる場合、記録媒体の保持力（Ｈａ
）、残留磁束密Ｆ（Ｂｒｌと膜厚（δ）により決まる。
力は同一ヘッドを用いる場合、記録媒体の保持力（Ｈａ
）、残留磁束密Ｆ（Ｂｒｌと膜厚（δ）により決まる。
反磁性を考慮した場合、＋ｏｏｏＸ以下が望ましく Ｂ
ｒが一定の場合、Ｈａで記録密度は決まる。Ｈｃが大き
い程記録密変、出力は有利であるが、ヘッドの磁気的飽
和を考オた場合現時点ではＳ Ｏ，Ｏ，〜Ｉ００．ＯＯ
ｅが望ましい。
ｒが一定の場合、Ｈａで記録密度は決まる。Ｈｃが大き
い程記録密変、出力は有利であるが、ヘッドの磁気的飽
和を考オた場合現時点ではＳ Ｏ，Ｏ，〜Ｉ００．ＯＯ
ｅが望ましい。
（１００ＯＴＰ工以上の場合〕しかし、現状では６００
Ｔｐ工ぐらいに適した７ ００’Ｏｅ以下の磁気記録媒
体が中心であった。
Ｔｐ工ぐらいに適した７ ００’Ｏｅ以下の磁気記録媒
体が中心であった。
さらに高ＴＰ工となる場会ビット当りの記録面積も小さ
くなるため、 ｊＲにビットエラーが増加する。（小さ
い欠陥であってもビットエラーになる確立が増える。） そこで本発明はこのような問題点を解決するものでその
目的とするところは高記録密度に適した磁気記録媒体の
磁性膜を提供することにある。
くなるため、 ｊＲにビットエラーが増加する。（小さ
い欠陥であってもビットエラーになる確立が増える。） そこで本発明はこのような問題点を解決するものでその
目的とするところは高記録密度に適した磁気記録媒体の
磁性膜を提供することにある。
〔間１点を解決するための手段〕
不発明の磁性膜を析出させる無１！屏めつき浴はコバル
ト塩Ｑ、０５〜（Ｌ１５ｍｏＪ／／およびニッケルニッ
ケル塩１０１〜ＣＬ Ｏ７ｍｏｌ／ ｌ 、次亜リン酸
塩ｃＬ０５〜Ｇ、 ５０ｍ０ｊ／ｌ 、す７ゴ酸４１１
２〜’、５ｍ０ｊ／ｇ、ｄ石酸塩α＋〜［１８ｍｏｊ／
Ｊ、ホウｆｓＩＩＬｏ ５〜ＣＬ ６ ｍａｊ／Ｊ 、
硫酸アンモニウム（１０１，０，６０ｍ０ｊ／ｌを含
む無電解めっき浴に亜鉛塩をＱ、０００５〜Ｑ、０２ｍ
ｏ／／ｇ刀口えたことを特徴とする。
ト塩Ｑ、０５〜（Ｌ１５ｍｏＪ／／およびニッケルニッ
ケル塩１０１〜ＣＬ Ｏ７ｍｏｌ／ ｌ 、次亜リン酸
塩ｃＬ０５〜Ｇ、 ５０ｍ０ｊ／ｌ 、す７ゴ酸４１１
２〜’、５ｍ０ｊ／ｇ、ｄ石酸塩α＋〜［１８ｍｏｊ／
Ｊ、ホウｆｓＩＩＬｏ ５〜ＣＬ ６ ｍａｊ／Ｊ 、
硫酸アンモニウム（１０１，０，６０ｍ０ｊ／ｌを含
む無電解めっき浴に亜鉛塩をＱ、０００５〜Ｑ、０２ｍ
ｏ／／ｇ刀口えたことを特徴とする。
望ましい唾鉛イオンｒｓ度は浴の安定性及び磁気特性面
から（ＬＯＯ＋〜ｃｏ ｌｍ０ｊ／ ｌである。唾鉛イ
オンが０．００１以下の場合保持力の低下を招き、高密
度記録に適さず、Ｏ，ＯＩｍｏｊ／Ｊ以上の場合めっき
浴の異常析出がおこシやすい。
から（ＬＯＯ＋〜ｃｏ ｌｍ０ｊ／ ｌである。唾鉛イ
オンが０．００１以下の場合保持力の低下を招き、高密
度記録に適さず、Ｏ，ＯＩｍｏｊ／Ｊ以上の場合めっき
浴の異常析出がおこシやすい。
本発明による無電解めつきへの亜鉛添加の効果は磁気特
性に関して膜厚依存性を少なくしたこと、 Ｋある
。これはＣＯ，Ｎｉの結晶粒子のサイズが膜厚に関係な
く一定で能鉛により粒子サイズが微細に存在していると
みられる。その結果、ノイズが非常圧小さく、さらに高
保持力の磁性膜作成が可能となった。又、膜自身が緻密
となったため、欠陥率も非常に小さくなった。
性に関して膜厚依存性を少なくしたこと、 Ｋある
。これはＣＯ，Ｎｉの結晶粒子のサイズが膜厚に関係な
く一定で能鉛により粒子サイズが微細に存在していると
みられる。その結果、ノイズが非常圧小さく、さらに高
保持力の磁性膜作成が可能となった。又、膜自身が緻密
となったため、欠陥率も非常に小さくなった。
〔実施例１〕
非磁性基板上に下記のめつき浴組成およびめっき条件に
てＣｏ−Ｎ１−Ｐ磁性膜を作成した。
てＣｏ−Ｎ１−Ｐ磁性膜を作成した。
めっき浴組成
硫酸コバルト ＩＩＬ０８ｍＯ１／ｅ硫
酸ニッケル ０．０２ ｓ次亜リン酸
ナトリウム α１２ 〃リンゴ噸ナトリウム
［１６０＃酒石酸ナトリウム Ｑ、１５
〃ホウ酸 Ｑ、 ２０
ｔｔ硫酸アンモニウム α０５ ｇ硫酸
亜鉛 （ＬＯ０５１／めっき条件 Ｐ Ｅ ９．５ （水酸「ヒナトリウムにより調整〕浴
温 ７０℃ 本めっき浴及び条件で５０〜５０００λまでめっき厚を
変化させた結果を：Ｊ４１図に示す。図は潰軸にめつき
膜厚（Ｘ）をとゆ縦軸にめっきされた磁性膜のＨａをと
ったものである。
酸ニッケル ０．０２ ｓ次亜リン酸
ナトリウム α１２ 〃リンゴ噸ナトリウム
［１６０＃酒石酸ナトリウム Ｑ、１５
〃ホウ酸 Ｑ、 ２０
ｔｔ硫酸アンモニウム α０５ ｇ硫酸
亜鉛 （ＬＯ０５１／めっき条件 Ｐ Ｅ ９．５ （水酸「ヒナトリウムにより調整〕浴
温 ７０℃ 本めっき浴及び条件で５０〜５０００λまでめっき厚を
変化させた結果を：Ｊ４１図に示す。図は潰軸にめつき
膜厚（Ｘ）をとゆ縦軸にめっきされた磁性膜のＨａをと
ったものである。
破線は亜鉛イオンがＯＭ／ｌの時でＩｏｎλ〜２００Ｘ
附近で＋５０００ｅとかなり大きく、膜厚の増加により
Ｈａが低下していくことがわかる。
附近で＋５０００ｅとかなり大きく、膜厚の増加により
Ｈａが低下していくことがわかる。
亜鉛添加の肩・無それぞれ７００Ｘのめつきをした場合
、後者は被膜中に現状のヘッドでは磁気的胞和に達して
しまう高Ｈｃ磁性粒子が含まれていることがわかり、さ
らにＥｃの異なる磁性層により構成されていることがわ
かる。前者は高記録密度にふされしい８５００ｓを示し
膜厚依存性は見られない。父、先の条件により磁気記録
媒体を作成した。（磁性メツ−Ｆ１１−７００ Ａ 、
Ｅｃ８５００ｅ）又、上の条件で亜鉛添加無しの磁気
記録媒体も作成（７００＾、 Ｒｃ ７０００θ）し、
両者の性能を比較したところ、Ｓ／Ｎ 、 ’ｔｔｉＥ
？変挨特件、フェーズマージンは次のようになりｚｎ４
Ａ加が特性向上に大きな役割を果たしていることは明ら
かである。
、後者は被膜中に現状のヘッドでは磁気的胞和に達して
しまう高Ｈｃ磁性粒子が含まれていることがわかり、さ
らにＥｃの異なる磁性層により構成されていることがわ
かる。前者は高記録密度にふされしい８５００ｓを示し
膜厚依存性は見られない。父、先の条件により磁気記録
媒体を作成した。（磁性メツ−Ｆ１１−７００ Ａ 、
Ｅｃ８５００ｅ）又、上の条件で亜鉛添加無しの磁気
記録媒体も作成（７００＾、 Ｒｃ ７０００θ）し、
両者の性能を比較したところ、Ｓ／Ｎ 、 ’ｔｔｉＥ
？変挨特件、フェーズマージンは次のようになりｚｎ４
Ａ加が特性向上に大きな役割を果たしていることは明ら
かである。
さらに亜鉛添加、有・無の磁気記録媒体を各２００枚（
５礪“）作成（同一下地基板、同一前処理）レビットエ
ラー検査を行なった。
５礪“）作成（同一下地基板、同一前処理）レビットエ
ラー検査を行なった。
亜鉛添加は明らかにビット、エラー低減につながってお
りノイズ、’ｔｆｉＢ変換特性とともに高記録密度にお
いて効果があることが判明した。
りノイズ、’ｔｆｉＢ変換特性とともに高記録密度にお
いて効果があることが判明した。
〔実捲例２〕
次のめつき浴組成、条件でそれぞれ磁気記録媒体を作成
した。
した。
めっき浴組成
）ｌｃが上の方法によりｆｆヒしても亜鉛イオン添加に
より低ノイズ化したこと、ビットエラーが良好であるこ
とが確認された。
より低ノイズ化したこと、ビットエラーが良好であるこ
とが確認された。
以上述べたよって本発明によれば磁気記録媒体の低ノイ
ズ化、電磁ｉｓ−特性の向上及びビットエラーの低減ｆ
ヒという効果を有する。
ズ化、電磁ｉｓ−特性の向上及びビットエラーの低減ｆ
ヒという効果を有する。
第１図は、Ｚｎイオン添加有と無の場合の磁性めつき膜
厚とＨｅの関係図を示す。
厚とＨｅの関係図を示す。
Claims (1)
- コバルト塩０．０５〜０．１５ｍｏｌ／ｌ、ニッケル塩
０．０１〜０．０７ｍｏｌ／ｌ、次亜リン酸塩０．０３
〜０．３０ｍｏｌ／ｌ、リンゴ酸塩０．２〜１．５ｍｏ
ｌ／ｌ、酒石酸塩０．１〜０．８ｍｏｌ／ｌ、ホウ酸０
．０５〜０．６ｍｏｌ／ｌ、硫酸アンモニウム０．０１
〜０．６０ｍｏｌ／ｌから構成された無電解めつき浴に
亜鉛塩を０．０００５〜０．０２ｍｏｌ／ｌ添加したこ
とを特徴とする無電解めつき浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21822785A JPS6280278A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 無電解めつき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21822785A JPS6280278A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 無電解めつき浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6280278A true JPS6280278A (ja) | 1987-04-13 |
Family
ID=16716599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21822785A Pending JPS6280278A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 無電解めつき浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6280278A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0322895A3 (en) * | 1987-12-28 | 1992-04-15 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
-
1985
- 1985-10-01 JP JP21822785A patent/JPS6280278A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0322895A3 (en) * | 1987-12-28 | 1992-04-15 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6280278A (ja) | 無電解めつき浴 | |
| JP3211815B2 (ja) | 軟質磁性薄膜及びその製造方法 | |
| US4517257A (en) | Recording media comprising vertical magnetization layers essentially consisting of quaternary Co--Ni--Zn--P alloys | |
| US3549417A (en) | Method of making isocoercive magnetic alloy coatings | |
| JPH0141718B2 (ja) | ||
| JPH0963016A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法、薄膜磁気ヘッド及び磁気記憶装置 | |
| JPH0121227B2 (ja) | ||
| KR900005925B1 (ko) | 수직자기 기록용 무전해 도금 Co-W-P 자성막 | |
| JPS6235477B2 (ja) | ||
| JPH0135076B2 (ja) | ||
| JPS6338431B2 (ja) | ||
| JPH0121228B2 (ja) | ||
| JPS63302508A (ja) | 磁性めっき液 | |
| JPH0628088B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS58157106A (ja) | 記録媒体 | |
| JP2007220777A (ja) | 軟磁性薄膜およびその製造方法並びに磁気ヘッド | |
| JPS6115985A (ja) | 無電解めつき浴 | |
| JPS62130281A (ja) | 無電解メツキ浴 | |
| JPH01247579A (ja) | 磁性めっき液 | |
| JPS6256577A (ja) | 無電解メツキ浴 | |
| JPH03287777A (ja) | 無電解めっき浴 | |
| JPS6177126A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0123924B2 (ja) | ||
| JPS614202A (ja) | 針状強磁性酸化鉄磁性粉の製法 | |
| JPH03294483A (ja) | 無電解めっき液 |