JPS6310357A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラズマ活性処理面をもった樹脂基板を有す
る光磁気記録媒体に関する。

〔発明の背景〕

光磁気記録は、記録密度が高い、非接触で記録・読み出
しが可能、高速ランダムアクセスができる、信号の並列
処理が可能、さらに書換えもできるなどの特徴を有して
いるため、近年、特に注目されている。

光磁気記録媒体の基本的構成は、透明樹脂またはガラス
を基板とし、これに希土類−遷移金属アモルファス合金
、たとえばＧｄＦｅやＧｄＴｂＦｅ等の磁性薄膜を設け
たものである。

周知のように、光磁気記録は、記録に際して、熱磁気記
録によって磁性薄膜にレーザー光を照射して反転磁区を
形成するとともに、読み出しに際しては、磁性薄膜にレ
ーザーの直線偏光を入射し、記録した磁化状Ｂ（大きさ
、方向）に対応して反射光または透過光の偏光面が回転
する現象を利用するものである。反射光の偏光面が回転
する現象がカー効果、その回転角がカー回転角と呼ばれ
ている。

このカー効果を利用する読み出しでのＳＮ比は、性能指
数＝θｗ　ｘ　、顔−（Ｒ：反射率）に比例し、この性
能指数は光磁気記録媒体の特性に主として依存する。そ
こで、従来がら、カー回転角θ３を増大し、ＳＮ比を高
めるために、種々の提案がなされてきた。

たとえば、特開昭５６−１５６９４３号公報では、磁性
薄膜と透明基板との間に透明誘電体膜を介在させ、見掛
は上のカー回転角の増大を図っている。

しかしながら、カー回転角の増大を目的として、透明誘
電体膜を透明基板上に設ける場合、接着性が低く、光磁
気記録媒体をユーザーが取扱うとき、膜ｆｆ１ｌｌれが
生じ易いものであった。

特に、基板としてポリカーボネート等のプラスチックを
使用する場合、それが有機物であるため、誘電体を形成
する無機物とは密着（接着）性が悪い問題があり、この
点が信顛性を損なうことになっていた。

そこで、本発明の主たる目的は、透明樹脂基板に対する
誘電体膜の密着（接着）性に優れた光磁気記録媒体を提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、透明樹脂基板上に、誘電体膜および磁性薄
膜を順に形成した光磁気記録媒体において； 前記樹脂基板の誘電体膜がわ表面が予めプラズマ処理に
より活性化されていることで達成される。

〔発明の具体的構成〕

以下本発明をさらに詳説する。

本発明では、透明樹脂基板上に、誘電体膜および磁性薄
膜を順に形成した光磁気記録媒体において、前記樹脂基
板の誘電体膜がゎ表面が予めプラズマ処理により活性化
される。

−ｉに、基板として、ガラスを用いることもできるけれ
ども、ガラスは、熱伝導率が大きく、記録時に与えたエ
ネルギーが流出する割合が高い、ガイドトランクの形成
が難しい、割れ易い、高価であるなどの難点があるため
、ＰＭＭ＾またはポリカーボネート等の透明樹脂基板が
好ましい。

また、前述のように、見掛は上のカー回転角を増大させ
るために、透明基板と磁性薄膜との間に透明誘電体膜を
介在させることが望まれる。

一方で、前述のように、磁性薄膜の形成材料として、記
録・再生特性の点から、希土類遷移金属アモルファス合
金を用いるのが好ましいけれどもこの希土類は特に酸化
され易いので、耐食性の向上のためにも、磁性薄膜と透
明基板との間に、誘電体膜を形成するのが望まれる。

ところが、このような背景の下で、透明誘電体膜を透明
基板に対して設ける場合、本発明においては、前述の理
由によって、基板として、透明樹脂板を採用することと
しているので、ＡＩＩＮ等の無機物からなるな誘電体膜
は、樹脂基板に対して密着（接着）性がきわめて悪い。

そこで、本発明では、樹脂基板の誘電体膜がわの表面は
予めプラズマ処理により活性化しておく。

これによって、誘電体膜が樹脂基板に対して良好に接着
する。このプラズマ処理としては、常用の方法をそのま
ま適用できる。

本発明において、光磁気媒体の構造として、誘電体膜が
わが予めプラズマ処理された活性面を有する透明樹脂基
板上に、誘電体膜、磁性薄膜が順に形成されたものであ
れば、その構造について限定されるものではない。

たとえば、第１図のように、誘電体膜２Ａがわの表面が
プラズマ処理により活性化された活性面ｌａを有する透
明樹脂基板１上に、第１誘電体膜２Ａ、磁性薄膜３、第
２誘電体膜２Ｂを順に有する構造のほか、第２図のよう
に第２誘電体膜２Ｂに代って有機保護膜４を形成したり
、第３図のように、第１図例構造の第２誘電体膜２Ｂ上
に反射膜５を形成したりするものであってもよい。

本発明において、透明樹脂基板としては、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネートのほが、ポリ塩化ビニ
ル、ポリイミド、ポリアミド、エポキシ、三酢酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート等を用いることもで
きる。

本発明において好適に用いることができる透明誘電体ト
シテは、Ａ　ｉ！　Ｎ、Ｓｉ３Ｎ４．Ａ　ｊ！　ＳｉＮ
等の窒化物のほか、ＣｅＦ３．ＭｇＦ３．ＭｇＰｚ＋Ｌ
ａＦｚ＋ＬａＦｉ　＋ＮａＦ、ＺｎＳ、Ｓ＋０゜Ｓ　ｉ
Ｏ２１ＣｅＦ　３１八ｊ！　Ｆ３＋ＴａｚＯ３＋ＣａＦ
等を挙げることができる。

誘電体膜の膜厚としては、２００人〜２０００人が好ま
しい。

誘電体膜の形成手段としては、スパッタ法、プラズマＣ
ＶＤ法、真空蒸着法、イオンブレーティング法などを採
用できる。

磁性薄膜の材質としては、希土類−遷移金属アモルファ
ス合金が一般には好ましいが、結晶体の形式であっても
よい。これらの例としては、ＧｄＦｅ。

ＴｂＦｅ、　ＧｄＣｏ、　ｒｌｙＦｅ、　ＧｄＴｈＦｅ
、　ＴｂｒｌｙＦｅ、　ＴｈＦｅＣｏ、　ＧｄＴｈＣｏ
。

ＧｄＴｈＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＢ１．ＧｄＴｈＦｅＧｅ　
；あるいはこれらにＲｉ。

Ｓｒ、Ｇｅ等の添加元素が添加されたもの；　ＭｎＲ１
、ＰｔＣｏ。

ＭｎＣｕＢ１．ＭｎＡ　Ｉ　Ｇｅ等がある。

磁性薄膜の厚さは２００人〜１５００人が好ましい。

この膜形成手段としてし誘電体膜の場合と同様でよい。

保護（オーバーコート）層としては、たとえばアクリル
系の紫外線硬化樹脂を、スピンコード法などによって形
成することによって得る。この層厚は、１〜２０μｍが
望ましい。

反射膜は、Ａｇ、Ａ　１１　＋５ｉＯｚ＋Ｃｕ＋Ａｒ＋
銅合金、　Ｆｅ合金。

Ｎｉ合金等を用い、誘電体膜の形成法と同じ方法をもっ
て、望ましくは５００人〜１０００人に成膜する。

なお、本発明は、上記構造において基板が相互に外側と
なるよう貼り合せたものも含む。

〔実施例〕

次に実施例におよび比較例を示し、本発明の効果を明ら
かにする。

（実施例１） 第５図に示す無電極誘導放電方式のプラズマ処理装置に
より、予めポリカーボネート基板の表面を活性化した後
、その表面上に誘電体膜およびその他の膜を成膜した。

同装置は、一方のディスクストッカー１０と、他方のデ
ィスクストッカー１１およびスパッタリング室１２との
間を石英管１３で連通し、ガスを入口１４から出口１５
に向って流すとともに、高周波電源１６に接続された放
電コイル１７を石英管１３に巻き付けたものである。

かかる装置を用い、まず＾ｒと０２とを１：１で混合し
たガスを流量２０ｓｅｃｍ、ガス圧をＱ、　ｌ　Ｔｏｒ
ｒとし、１３．５６　Ｍｌｌｚの高周波電力を１００Ｗ
印加した。

この中を、３０ｃｍ／ｍｉｎの速度でポリカーボネート
基板を流し、その表面をプラズマ処理により活性化させ
た。次いで、スパッタリングにより、ＳｉＯ，ＧｄＴｂ
Ｆｅ、ＳｉＯの順に各１０００人ずつ成膜し、第１図に
示す光磁気ディスクを得た。

このディスクを、６０℃×９０％ＲＨの雰囲気に２時間
、次いで２０℃×５０％ＲＨに１時間それぞれ放置する
試験を１０回繰り返したが、いずれの膜においても剥離
は一切無かった。

（実施例１） 実施例１において、プラズマ処理を施さない以外は同様
のディスクを作成し、上記の強制劣化試験を行ったとこ
ろ、２回目で樹脂基板面からの脱刷れが生じた。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明によれば、透明樹脂基板と誘電体膜
との密着・接着性を向上できる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は本発明に係る光磁気記録媒体の構造例
の断面図、第４図は実施例で用いたプラズマ重合装置の
概要図である。 １・・・透明樹脂基板、１ａ・・・活性面、２，２Ａ。 ２Ｂ・・・誘電体膜、３・・・磁性薄膜、４・・・有機
保護層、５・・・反射膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明樹脂基板上に、誘電体膜および磁性薄膜を順
   に形成した光磁気記録媒体において；前記樹脂基板の誘
   電体膜がわ表面が予めプラズマ処理により活性化されて
   いることを特徴とする光磁気記録媒体。