JPS63170363A - 2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル - Google Patents
2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテルInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテ
ル、その幾つかの製造方法、その製造用の新規な中間体
、ならびにその除草剤および植物成長調節剤としての使
用に関するものである。
ル、その幾つかの製造方法、その製造用の新規な中間体
、ならびにその除草剤および植物成長調節剤としての使
用に関するものである。
ある種の2−フェノキシピリミジンが除草性を有するこ
とは既に開示されている(EP 1,187およびDE
−OS(西ドイツ公開明細書)2,820.032を参
照)。これらの化合物の作用は良好ではあるが、ある種
の雑草は、少量の適用では、必ずしも常に十分にカバー
されるとはいえず、選択性も必ずしも常に妥当であると
はいえない。
とは既に開示されている(EP 1,187およびDE
−OS(西ドイツ公開明細書)2,820.032を参
照)。これらの化合物の作用は良好ではあるが、ある種
の雑草は、少量の適用では、必ずしも常に十分にカバー
されるとはいえず、選択性も必ずしも常に妥当であると
はいえない。
さらに、多くの2−ピリミジルエーテルおよびチオエー
テルが除草剤として適当であることも開示されている(
たとえば J P 9,474/1967 (出願番号
第12,771/65)米国特許明細書3,126.2
71および米国特許明細書3,250.775を参照)
。しかし、これらの従来より公知の化合物の雑草に対す
る除草活性は、重要な栽培植物による許容性のために、
全ての応用領域において常に満足すべきものとはいえな
い。
テルが除草剤として適当であることも開示されている(
たとえば J P 9,474/1967 (出願番号
第12,771/65)米国特許明細書3,126.2
71および米国特許明細書3,250.775を参照)
。しかし、これらの従来より公知の化合物の雑草に対す
る除草活性は、重要な栽培植物による許容性のために、
全ての応用領域において常に満足すべきものとはいえな
い。
式(I)
式中、
R1、R2およびR3は相互に独立に、゛いずれも水素
またはアルキルを表し、 Aは−CH基または窒素原子を表し、 B はハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、アルキル、
アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲノアルコキ
シを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 n は数0.1.2.3または4を表し、Xは酸素、硫
黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R5R7 R4R6 (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、アルキ
ノ呟アルコキシアルキルまたはハロゲノアルキルを表し
、 R6およびR7はいずれもアルキルを表す)を表し、 Ra R1!R11Zは基 −
D−R’ または −C=CI R” R”藁 または −C−R14 (ここで、 D は炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR′′は相互に独立に水素、ハロゲ
ン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表し、 R9は水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルコ
キシアルキル、アルキルチオまたはハロゲノアルキルを
表し、 RIGは水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、ア
ルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキ
ルチオアルキル、ニトリロアルキル、アルキルカルボニ
ル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミ
ノ呟アルケニル、アルキニル、ハロゲノアルキル、ハロ
ゲノアルケニル、ハロゲノアルキニル、アミノ、アルキ
ルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノ−もしくはアルキ
ルアミノ−置換アルキル、アルキルおよび/またはハロ
ゲンにより置換されていることもあるシクロアルキル;
開鎖のもしくは環状のアセタールまたは開鎖のもしくは
環状のチオアセクールを表すか、 または、 R9と Rlaとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/まI;は硫
黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基
を含有していてもよく、ハロゲン、アルキル、アルコキ
シおよび/またはアルコキシアルキルにより置換されて
いてもよく、1個または2個以上の二重結合を含有して
いてもよい3−8員の環を形成しているか、 または、 RB、R9およびRIGがその結合している炭素原子と
ともに の構造の飽和の、または不飽和の基を表し、Eは酸素ま
たは硫黄を表し、 R11およびR12は相互に独立に水素、ハロゲン、ア
ルキルまたはハロゲノアルキルを表す) を表すが R1およびR3がメチルを表し、R2が水素を表し、A
が窒素を表し、Xが酸素を表し、n が0を表すならば
、 Y と Z とで基 −C,H5、n −C、H、、イソ−〇、H7、n −
CaH!、イソ−〇、H,、n −C5H11、イソ−
Ca H1r、−CH−CH,CH,CH,、― CH。
またはアルキルを表し、 Aは−CH基または窒素原子を表し、 B はハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、アルキル、
アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲノアルコキ
シを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 n は数0.1.2.3または4を表し、Xは酸素、硫
黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R5R7 R4R6 (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、アルキ
ノ呟アルコキシアルキルまたはハロゲノアルキルを表し
、 R6およびR7はいずれもアルキルを表す)を表し、 Ra R1!R11Zは基 −
D−R’ または −C=CI R” R”藁 または −C−R14 (ここで、 D は炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR′′は相互に独立に水素、ハロゲ
ン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表し、 R9は水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルコ
キシアルキル、アルキルチオまたはハロゲノアルキルを
表し、 RIGは水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、ア
ルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキ
ルチオアルキル、ニトリロアルキル、アルキルカルボニ
ル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミ
ノ呟アルケニル、アルキニル、ハロゲノアルキル、ハロ
ゲノアルケニル、ハロゲノアルキニル、アミノ、アルキ
ルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノ−もしくはアルキ
ルアミノ−置換アルキル、アルキルおよび/またはハロ
ゲンにより置換されていることもあるシクロアルキル;
開鎖のもしくは環状のアセタールまたは開鎖のもしくは
環状のチオアセクールを表すか、 または、 R9と Rlaとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/まI;は硫
黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基
を含有していてもよく、ハロゲン、アルキル、アルコキ
シおよび/またはアルコキシアルキルにより置換されて
いてもよく、1個または2個以上の二重結合を含有して
いてもよい3−8員の環を形成しているか、 または、 RB、R9およびRIGがその結合している炭素原子と
ともに の構造の飽和の、または不飽和の基を表し、Eは酸素ま
たは硫黄を表し、 R11およびR12は相互に独立に水素、ハロゲン、ア
ルキルまたはハロゲノアルキルを表す) を表すが R1およびR3がメチルを表し、R2が水素を表し、A
が窒素を表し、Xが酸素を表し、n が0を表すならば
、 Y と Z とで基 −C,H5、n −C、H、、イソ−〇、H7、n −
CaH!、イソ−〇、H,、n −C5H11、イソ−
Ca H1r、−CH−CH,CH,CH,、― CH。
−CH2−CH−CH2CHs
CH。
CH,CH。
−CH、n −CsHrs、
CH,CH。
−CR2−CH−CH2CH2CHs、CH。
CH。
−CHS n −C8HI7、
CH2CH2CH2CHz
−CR2CH2CH21I、−CH2CH2CH21゜
−CH、−CH−CH2、−CH、−CH= CH2、
CH3 CH。
−CH、−CH−CH2、−CH、−CH= CH2、
CH3 CH。
−CH、−CH= C、および
CH。
−(CH*)t−CH−CH,を表すことはないの新規
な2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテルが、ここに
見いだされた。
な2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテルが、ここに
見いだされた。
不整炭素原子を含有する式(I)の化合物は、種々の対
掌体の形状で存在することもあり得る。
掌体の形状で存在することもあり得る。
本発明は可能な個々の異性体およびこれらの異性体の混
合物の双方に関するものである。
合物の双方に関するものである。
不整中心はYが −木C−基を表し、R’おR′
よびR5が異なる意味を有する場合に存在し、このとき
、本の記号を付した不整C原子はRlS およびR/S
(ラセミ体)構造をとり得る。
、本の記号を付した不整C原子はRlS およびR/S
(ラセミ体)構造をとり得る。
a
第2の不整中心はZが一木D−R’ を表し、ID
Dが炭素原子を表し、R11%R9およびRIOが異な
る意味を有する場合に存在し、このとき、第2の不整C
原子はR,S およびR/S (ラセミ体)構造をとり
得る。
る意味を有する場合に存在し、このとき、第2の不整C
原子はR,S およびR/S (ラセミ体)構造をとり
得る。
R8、R9およびRIGが、その結合している炭素原子
とともに、 の構造の飽和の、または不飽和の基を表す場合には、式
(I)の化合物は異なる幾何異性形状(シス/トランス
異性体)で存在し得る。本発明は可能な個々の異性体お
よびこれらの異性体の混合物の双方に関するものである
。
とともに、 の構造の飽和の、または不飽和の基を表す場合には、式
(I)の化合物は異なる幾何異性形状(シス/トランス
異性体)で存在し得る。本発明は可能な個々の異性体お
よびこれらの異性体の混合物の双方に関するものである
。
さらに、式(I)の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエ
ーテルが、 A)式(ID) 式中、 R1、R’5B1X1Z およびn は上記の意味を有
する のチオフェノール誘導体を式(II+)に1 式中、 R1、R2、R3およびAは上記の意味を有し R”はハロゲン、C,−C,−アルキルスルホニル、フ
ェニルスルホニルまたハ置換フエニルスルホニルを表す のピリ(ミ)ジル誘導体と、希釈剤の存在下に、かつ、
適宜に酸結合剤の存在下に反応させるか、または、 B)式(IV) R1、 式中、 A、B、R’SR”、R3およびn は上記の意味を有
し、 xIは酸素または硫黄を表す のピリ(ミ)ジルチオ−(チオ)フェノールを式(V)
G−Y−Z (V) 式中、 Yおよび2は上記の意味を有し、 Gはハロゲン、C,−C,−アルキルスルホニルオキシ
、ハロゲノ−C、−C、−アルキルスルホニルオキシ、
フェニルスルホニルオキシまたは置換フェニルスルホニ
ルオキシを表すの化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、
適宜に酸結合剤の存在下に反応させるか、または、C)
式(Vl) I 式中、 R1,R2、R3およびAは上記の意味を有する の化合物を式(Vll) n 式中、 B、YSZ およびn は上記の意味を有し、Halは
ハロゲンを表す の化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、適宜に酸結合剤
の存在下に反応させて得られることも見いだされた。
ーテルが、 A)式(ID) 式中、 R1、R’5B1X1Z およびn は上記の意味を有
する のチオフェノール誘導体を式(II+)に1 式中、 R1、R2、R3およびAは上記の意味を有し R”はハロゲン、C,−C,−アルキルスルホニル、フ
ェニルスルホニルまたハ置換フエニルスルホニルを表す のピリ(ミ)ジル誘導体と、希釈剤の存在下に、かつ、
適宜に酸結合剤の存在下に反応させるか、または、 B)式(IV) R1、 式中、 A、B、R’SR”、R3およびn は上記の意味を有
し、 xIは酸素または硫黄を表す のピリ(ミ)ジルチオ−(チオ)フェノールを式(V)
G−Y−Z (V) 式中、 Yおよび2は上記の意味を有し、 Gはハロゲン、C,−C,−アルキルスルホニルオキシ
、ハロゲノ−C、−C、−アルキルスルホニルオキシ、
フェニルスルホニルオキシまたは置換フェニルスルホニ
ルオキシを表すの化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、
適宜に酸結合剤の存在下に反応させるか、または、C)
式(Vl) I 式中、 R1,R2、R3およびAは上記の意味を有する の化合物を式(Vll) n 式中、 B、YSZ およびn は上記の意味を有し、Halは
ハロゲンを表す の化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、適宜に酸結合剤
の存在下に反応させて得られることも見いだされた。
最後に、式(I)の新規な2−ピリ(ミ)ジルチオアリ
ールエーテルが極めて良好な除草活性を特色とすること
が見いだされた。加えて、本発明記載の式(I)の化合
物は良好な成長調節作用をも有する。
ールエーテルが極めて良好な除草活性を特色とすること
が見いだされた。加えて、本発明記載の式(I)の化合
物は良好な成長調節作用をも有する。
驚くべきことには、本発明記載の式(I)の2−ピリ(
ミ)ジルチオアリールエーテルは、構造的に近似の、従
来より公知の物質よりも有意に良好な除草特性を有する
のである。
ミ)ジルチオアリールエーテルは、構造的に近似の、従
来より公知の物質よりも有意に良好な除草特性を有する
のである。
いずれの定義においても、炭素原子は直鎖であっても枝
分かれがあってもよい。ハロゲンはいずれの場合にもフ
ッ素、塩素、臭素およびヨウ素を表す。
分かれがあってもよい。ハロゲンはいずれの場合にもフ
ッ素、塩素、臭素およびヨウ素を表す。
式(I)は、本発明記載の2−ピリ(ミ)ジルチオアリ
ールエーテルの一般的定義を与える。式(I)の好まし
い化合物は、 式中の、 R1、R2およびR3が相互に独立に、いずれも水素ま
たはC、−C、−アルキルを表し、Aが一〇H基または
窒素原子を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、C、−C、
−アルキル、C、−C、−アルコキシ、ハロゲノ−C、
−C4−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−アルコ
キシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよく、 n が数0、L 2.3または4を表し、Xが酸素、硫
黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R4R6 (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、C、−
C、−アルキル、C、−C、−アルコキシ−C、−C、
−アルキルまたはハロゲノ−cl−C1−アルキルを表
し、 R6およびR7は相互に独立に、いずれもメチルまたは
エチルを表す) を表し、 Ra Rl 3 RI +2が基 −D
−R’、 −C−C RIG R12 または −C−R14 (ここで、 D は炭素またはケイ素を表し、 R8、RI3およびR”は相互に独立に水素、ハロゲン
、C,−C,−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−
アルキルを表し、 R9は水素、ハロゲン、C,−C,−アルキル、C、−
C、−アルコキシ、C、−C、−アルコキシ−C、−C
、−アルキル、C、−C、−アルキルチオまf−ハハロ
ゲノーC、−C、−アルキルを表し、Rloは水素、ハ
ロゲン、ヒドロキシル、C1−01アルキル、C、−C
、−アルコキシ、C1−C5−アルコキシ−C、−C、
−アルキル、Cr−Cs−アルキルチオ、C、−C6−
アルキルチオ−01−C1−アルキル、ニトリロ−C、
−C、−アルキル、C、−C、−アルキルカルボニル、
C、−C、−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル
、ホルミル、C、−C、−アルケニル、C2−C、−ア
ルキニル、ハロゲノ−C、−C、−アルキル、ハロゲノ
−C2−C、−アルケニル、ハロゲノ−C2−C6−ア
ルキニル、アミノ、C,−C4−アルキルアミノ、ジー
C、−C、−アルキルアミノ、アミノ−もしくはCl−
C4−アルキルアミノ−置換CI−〇、−アルキル、メ
チル、エチルおよび/またはハロゲンにより置換されて
いることもある3ないし6個の炭素原子を有するシクロ
アルキル、開鎖のアセタール、5もしくは6個の環形成
員を有する環状アセタール、開鎖のチオアセタールまた
は、5もしくは6個の環形成員を有する環状チオアセタ
ールを表すか、 または、 R1と RIOとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫黄
および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基を
含有していてもよく、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C
l−04−アルキル、C,−C,−アルコキシおよび/
まj:はC、−C4−アルコキシ−〇 、−C、−アル
キルにより置換されていてもよく、1個または2個以上
の、特にlまたは2個の二重結合を含有していてもよい
5員または6員の環を形成しているか、 または、 R8、R9およびRIOがその結合している炭素原子と
ともに の構造の飽和の、または−不飽和の基を表し、Eは酸素
または硫黄を表し、 R1+およびR′2は相互に独立に水素、ハロゲン、C
,−C,−アルキルまたはハロゲノC、−C6−アルキ
ルを表す) を表すが、 R1およびR3がメチルを表し R2が水素を表し、A
が窒素を表し、Xが酸素を表し、nがOを表すならば、 Y と 2 とで基 −C2H,,n−C3H7、イソ−C,H,、n−C,
H,、イソ−C4H,、n −CsHr +、イソ−C
sHIIs −c H−CHzc H2CHs、CH。
ールエーテルの一般的定義を与える。式(I)の好まし
い化合物は、 式中の、 R1、R2およびR3が相互に独立に、いずれも水素ま
たはC、−C、−アルキルを表し、Aが一〇H基または
窒素原子を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、C、−C、
−アルキル、C、−C、−アルコキシ、ハロゲノ−C、
−C4−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−アルコ
キシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよく、 n が数0、L 2.3または4を表し、Xが酸素、硫
黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R4R6 (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、C、−
C、−アルキル、C、−C、−アルコキシ−C、−C、
−アルキルまたはハロゲノ−cl−C1−アルキルを表
し、 R6およびR7は相互に独立に、いずれもメチルまたは
エチルを表す) を表し、 Ra Rl 3 RI +2が基 −D
−R’、 −C−C RIG R12 または −C−R14 (ここで、 D は炭素またはケイ素を表し、 R8、RI3およびR”は相互に独立に水素、ハロゲン
、C,−C,−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−
アルキルを表し、 R9は水素、ハロゲン、C,−C,−アルキル、C、−
C、−アルコキシ、C、−C、−アルコキシ−C、−C
、−アルキル、C、−C、−アルキルチオまf−ハハロ
ゲノーC、−C、−アルキルを表し、Rloは水素、ハ
ロゲン、ヒドロキシル、C1−01アルキル、C、−C
、−アルコキシ、C1−C5−アルコキシ−C、−C、
−アルキル、Cr−Cs−アルキルチオ、C、−C6−
アルキルチオ−01−C1−アルキル、ニトリロ−C、
−C、−アルキル、C、−C、−アルキルカルボニル、
C、−C、−アルコキシカルボニル、アミノカルボニル
、ホルミル、C、−C、−アルケニル、C2−C、−ア
ルキニル、ハロゲノ−C、−C、−アルキル、ハロゲノ
−C2−C、−アルケニル、ハロゲノ−C2−C6−ア
ルキニル、アミノ、C,−C4−アルキルアミノ、ジー
C、−C、−アルキルアミノ、アミノ−もしくはCl−
C4−アルキルアミノ−置換CI−〇、−アルキル、メ
チル、エチルおよび/またはハロゲンにより置換されて
いることもある3ないし6個の炭素原子を有するシクロ
アルキル、開鎖のアセタール、5もしくは6個の環形成
員を有する環状アセタール、開鎖のチオアセタールまた
は、5もしくは6個の環形成員を有する環状チオアセタ
ールを表すか、 または、 R1と RIOとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫黄
および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基を
含有していてもよく、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C
l−04−アルキル、C,−C,−アルコキシおよび/
まj:はC、−C4−アルコキシ−〇 、−C、−アル
キルにより置換されていてもよく、1個または2個以上
の、特にlまたは2個の二重結合を含有していてもよい
5員または6員の環を形成しているか、 または、 R8、R9およびRIOがその結合している炭素原子と
ともに の構造の飽和の、または−不飽和の基を表し、Eは酸素
または硫黄を表し、 R1+およびR′2は相互に独立に水素、ハロゲン、C
,−C,−アルキルまたはハロゲノC、−C6−アルキ
ルを表す) を表すが、 R1およびR3がメチルを表し R2が水素を表し、A
が窒素を表し、Xが酸素を表し、nがOを表すならば、 Y と 2 とで基 −C2H,,n−C3H7、イソ−C,H,、n−C,
H,、イソ−C4H,、n −CsHr +、イソ−C
sHIIs −c H−CHzc H2CHs、CH。
−CHz −CH−CHx CHs
CH。
CH2CHs
−CH、n −CaHrs、
CH2CHs
−CHx−CH−CH2CH2CHs、CH。
CH8
−C)(%n −CaH1t、
CH2CH2CH2CH3
−CH2CH! CHx Cl、−CH2CH2CH2
I。
I。
−CHz −CH= CHz、−CH2−CH= CH
2、CH。
2、CH。
CH。
−CH2−CH−C、および
CH。
−(CH2) a −CH= CHzを表すことはない
ようなものである。
ようなものである。
式(r)の光学活性化合物が好ましい。
式(I)の化合物の特に好ましいグループは、式中の、
R’、R’およびR3が相互に独立に、いずれも水素、
メチルまたはエチルを表すが、R2が水素を表し、Aが
窒素を表し、Xが酸素を表し、nがOを表すならばR1
とR3とが同時にメチルを表すことはなく、Aが一〇H
基または窒素原子を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、メチル、エ
チル、メトキシ、エトキシ、ハロゲノ−C、−C,−ア
ルキルまたはハロゲノ−C1−C2−アルコキシを表し
、 このB は同一であっても異なっていてもよnが数OS
1または2を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R’ R’ (ここで、R4およびRSは相互に独立に、いずれも水
素、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル
、エトキシメチL、エトキシエチルまたはハロゲノ−C
r−Cx−アルキルを表し、 R″およびR7はいずれもメチルを表す)を表し、 RIG R12 または −〇 −RI 4 (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR14は相互に独立に水素、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素、C、−C、−アルキルまたはハ
ロゲノ−C1−C4−アルキルを表し、 R9は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C、−C、
−アルキル、CI−C4−アルコキシ、C、−C、−ア
ルコキシ−CI−C4−アルキル、C。
メチルまたはエチルを表すが、R2が水素を表し、Aが
窒素を表し、Xが酸素を表し、nがOを表すならばR1
とR3とが同時にメチルを表すことはなく、Aが一〇H
基または窒素原子を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、メチル、エ
チル、メトキシ、エトキシ、ハロゲノ−C、−C,−ア
ルキルまたはハロゲノ−C1−C2−アルコキシを表し
、 このB は同一であっても異なっていてもよnが数OS
1または2を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 R’ R’ (ここで、R4およびRSは相互に独立に、いずれも水
素、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル
、エトキシメチL、エトキシエチルまたはハロゲノ−C
r−Cx−アルキルを表し、 R″およびR7はいずれもメチルを表す)を表し、 RIG R12 または −〇 −RI 4 (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR14は相互に独立に水素、フッ素
、塩素、臭素、ヨウ素、C、−C、−アルキルまたはハ
ロゲノ−C1−C4−アルキルを表し、 R9は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C、−C、
−アルキル、CI−C4−アルコキシ、C、−C、−ア
ルコキシ−CI−C4−アルキル、C。
−C6−アルキルチオまたはハロゲノ−C、−C4−ア
ルキルを表し、 R”は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシ
ル、C、−C、−アルキル、CニーC,−アルコキシ、
C、−Cじアルコキシ−CI−C4−アルキル、C、−
C、−アルキルチオ、C、−C、−アルキルチオ−C、
−C、−アルキル、ニトリロ−C、−C、−アルキル、
C、−C、−アルキルカルボニル、C,−C,−アルコ
キシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、C2−
C,−アルケニル、C,−C,−アルキニル、ハロゲノ
−C1−C4−アルキル、ハロゲノ−C2−C、−アル
ケニル、ハロゲノ−Cm−C4−アルキニル、アミノ、
C1−C,−アルキルアミノ、ジーC、−C、−アルキ
ルアミノ;メチル、フッ素および/または塩素により置
換されていることもあるシクロプロピル、シクロペンチ
ルもしくはシクロヘキシル;開鎖のアセタール、5もし
くは6個の環形成員を有する環状アセタール、開鎖のチ
オアセタールまたは、5もしくは6個の環形成員を有す
る環状チオアセタールを表すか、または、 R9と R1+1とが、その結合している炭素原子とと
もに、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫
黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基
を含有していてもよく、7ツ素、塩素、臭素、ヨウ素、
メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシメチル
、メトキンエチル、エトキシメチルまたはエトキシエチ
ルにより置換されていてもよく、1個または2個の二重
結合を含有していてもよい5員または6員の環を形成し
ているか、 または、 Rm、R9およびRIGがその結合している炭素原子と
ともに の構造の基を表し、 E は酸素または硫黄を表し、 R1+およびR”は相互に独立に、水素、ハロゲン、C
,−C2−アルキルまたはハロゲノ−C、−C2−アル
キルを表す) を表す グループおよびその光学活性異性体である。
ルキルを表し、 R”は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒドロキシ
ル、C、−C、−アルキル、CニーC,−アルコキシ、
C、−Cじアルコキシ−CI−C4−アルキル、C、−
C、−アルキルチオ、C、−C、−アルキルチオ−C、
−C、−アルキル、ニトリロ−C、−C、−アルキル、
C、−C、−アルキルカルボニル、C,−C,−アルコ
キシカルボニル、アミノカルボニル、ホルミル、C2−
C,−アルケニル、C,−C,−アルキニル、ハロゲノ
−C1−C4−アルキル、ハロゲノ−C2−C、−アル
ケニル、ハロゲノ−Cm−C4−アルキニル、アミノ、
C1−C,−アルキルアミノ、ジーC、−C、−アルキ
ルアミノ;メチル、フッ素および/または塩素により置
換されていることもあるシクロプロピル、シクロペンチ
ルもしくはシクロヘキシル;開鎖のアセタール、5もし
くは6個の環形成員を有する環状アセタール、開鎖のチ
オアセタールまたは、5もしくは6個の環形成員を有す
る環状チオアセタールを表すか、または、 R9と R1+1とが、その結合している炭素原子とと
もに、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫
黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ基
を含有していてもよく、7ツ素、塩素、臭素、ヨウ素、
メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキシメチル
、メトキンエチル、エトキシメチルまたはエトキシエチ
ルにより置換されていてもよく、1個または2個の二重
結合を含有していてもよい5員または6員の環を形成し
ているか、 または、 Rm、R9およびRIGがその結合している炭素原子と
ともに の構造の基を表し、 E は酸素または硫黄を表し、 R1+およびR”は相互に独立に、水素、ハロゲン、C
,−C2−アルキルまたはハロゲノ−C、−C2−アル
キルを表す) を表す グループおよびその光学活性異性体である。
式(I)の特に好ましい化合物のその他のグループは、
式中の、
RaおよびR3がメチルを表し、
R2が水素を表し、
Aが窒素を表し、
n がOを表し、
Xが酸素を表し、
Yが基 −CH−
(ここで、
R4は水素、メチル、エチル、n−もしくはイソプロピ
ル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチル、メトキシメ
チル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエトキシ
エチルを表す)を表し、 (ここで、 RaおよびRaは相互に独立にメチル、エチル、n−も
しくはイソプロピルまたは n−、イソ、第2もしくは
第3ブチルを表し、RIGはメチル、エチル、n−もし
くはイソプロピル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチ
ル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはインプロポキシ
、n−、イソ、第2−もしくは第3ブトキシ、ハロゲノ
−C、−C4−アルキル、C、−C4−アルコキシ−C
、−C、−アルキルまたはC、−C4−アルキルチオ−
C、−C、−アルキルを表し、かつ、 (A)Rls、RlsおよびR1?が相互に独立にメチ
ル、エチル、n−もしくはイソプロピル、n−、イソ、
第2もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシまたは
n−もしくはイソプロポキシを表すか、または、 (B)R”およびRlsが相互に独立に水素、メチル、
エチル、n−もしくはイソプロピル%n−、イソ、第2
もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシ、n−もしく
はインプロポキシ、n−、イソ、第2−もしくは第3ブ
トキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソプ
ロピルチオまたはn−、イソ、第2もしくは第3ブチル
チオを表し、 Ra7がメトキシ、エトキシ、n−もしくはインプロポ
キシ、n−、イソ、第2−もしくは第3ブトキシ、メチ
ルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソプロピルチオま
たは n−、イソ、第2もしくは第3ブチルチオを表す
か、または、 (C)R”が水素、メチル、エチル、n−もしくはイソ
プロピル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチル、メト
キシ、エトキシ、n−もしくはインプロポキシ、メチル
チオ、エチルチオまたはn−もしくはイソプロピルチオ
を表し、 R18およびR17がその結合している炭素原子ととも
に、いずれもメチル、フッ素および/または塩素により
置換されているシクロプロピル、シクロペンチルまたは
シクロヘキシルを表す) を表す ようなものである。
ル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチル、メトキシメ
チル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエトキシ
エチルを表す)を表し、 (ここで、 RaおよびRaは相互に独立にメチル、エチル、n−も
しくはイソプロピルまたは n−、イソ、第2もしくは
第3ブチルを表し、RIGはメチル、エチル、n−もし
くはイソプロピル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチ
ル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはインプロポキシ
、n−、イソ、第2−もしくは第3ブトキシ、ハロゲノ
−C、−C4−アルキル、C、−C4−アルコキシ−C
、−C、−アルキルまたはC、−C4−アルキルチオ−
C、−C、−アルキルを表し、かつ、 (A)Rls、RlsおよびR1?が相互に独立にメチ
ル、エチル、n−もしくはイソプロピル、n−、イソ、
第2もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシまたは
n−もしくはイソプロポキシを表すか、または、 (B)R”およびRlsが相互に独立に水素、メチル、
エチル、n−もしくはイソプロピル%n−、イソ、第2
もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシ、n−もしく
はインプロポキシ、n−、イソ、第2−もしくは第3ブ
トキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソプ
ロピルチオまたはn−、イソ、第2もしくは第3ブチル
チオを表し、 Ra7がメトキシ、エトキシ、n−もしくはインプロポ
キシ、n−、イソ、第2−もしくは第3ブトキシ、メチ
ルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソプロピルチオま
たは n−、イソ、第2もしくは第3ブチルチオを表す
か、または、 (C)R”が水素、メチル、エチル、n−もしくはイソ
プロピル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチル、メト
キシ、エトキシ、n−もしくはインプロポキシ、メチル
チオ、エチルチオまたはn−もしくはイソプロピルチオ
を表し、 R18およびR17がその結合している炭素原子ととも
に、いずれもメチル、フッ素および/または塩素により
置換されているシクロプロピル、シクロペンチルまたは
シクロヘキシルを表す) を表す ようなものである。
式(I)の化合物の特に極めて好ましいグループは、
式中の、
R1,R2およびR3が相互に独立に、いずれも水素、
メチルまたはエチルを表すが、R2が水素を表し、Aが
窒素を表し、Xが酸素を表し、nが0を表すならばR1
とR3とが同時にメチルを表すことはなく、Aが一〇H
基または窒素原子を表し、 Bがフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、
エトキシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメト
キシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよく、 nが数0.1または2を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 Yが基 −C− (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、メチル
、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシ
メチル、エトキシエチルまたはハロゲノ−C、−C2−
アルキルを表し、 R6およびR7はいずれもメチルを表す)を表し、 または −c、−R14 (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR14は相互に独立に水素、フッ素
、塩素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−、イソ、第2もしくは第3ブチルまたはハロゲノ
−C、−C、−アルキルを表し、 R9は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−、イソ、第2
もしくは第3ブチル、メトキシ、ニドキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−、イソ、第2もしくは第3
ブトキシ、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシ
−〇−プロピル、メトキシイソプロピル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシ−〇−プロピル、エトキ
シイソプロビル、n−プロポキシメチル、n−プロポキ
シエチル、n−プロポキシ−n−プロピル、n−プロポ
キシイソプロピル、メチルチオ、エチルチオ、n−プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、またはハロゲノ−C、−
C、−アルキルを表し、RIGは水素、フッ素、塩素、
C、−C4−アルキル、C、−C4−アルコキシ、C、
−C、−アルコキシ−C、−C、−アルキル、C、−C
4−アルキルチオ、C、−C、−アルキルチオ−C、−
C、−アルキル、ニトリロ−C、−C、−アルキル、C
、−C。
メチルまたはエチルを表すが、R2が水素を表し、Aが
窒素を表し、Xが酸素を表し、nが0を表すならばR1
とR3とが同時にメチルを表すことはなく、Aが一〇H
基または窒素原子を表し、 Bがフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、
エトキシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメト
キシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよく、 nが数0.1または2を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホニルを表し、 Yが基 −C− (ここで、 R4およびR5は相互に独立に、いずれも水素、メチル
、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシ
メチル、エトキシエチルまたはハロゲノ−C、−C2−
アルキルを表し、 R6およびR7はいずれもメチルを表す)を表し、 または −c、−R14 (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R8、R13およびR14は相互に独立に水素、フッ素
、塩素、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−、イソ、第2もしくは第3ブチルまたはハロゲノ
−C、−C、−アルキルを表し、 R9は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−、イソ、第2
もしくは第3ブチル、メトキシ、ニドキシ、n−プロポ
キシ、イソプロポキシ、n−、イソ、第2もしくは第3
ブトキシ、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシ
−〇−プロピル、メトキシイソプロピル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシ−〇−プロピル、エトキ
シイソプロビル、n−プロポキシメチル、n−プロポキ
シエチル、n−プロポキシ−n−プロピル、n−プロポ
キシイソプロピル、メチルチオ、エチルチオ、n−プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、またはハロゲノ−C、−
C、−アルキルを表し、RIGは水素、フッ素、塩素、
C、−C4−アルキル、C、−C4−アルコキシ、C、
−C、−アルコキシ−C、−C、−アルキル、C、−C
4−アルキルチオ、C、−C、−アルキルチオ−C、−
C、−アルキル、ニトリロ−C、−C、−アルキル、C
、−C。
−アルキルカルボニル、CニーC6−アルコキンカルボ
ニル、アミノカルボニル、ホルミル、C!−C4−アル
ケニル、C、−C、−アルキニル、ハロゲノ−C、−C
、−アルキル、ハロゲノ−C,−C4−アルケニル、ハ
ロゲノ−C、−C、−アルキニル、アミノ、C,−C2
−アルキルアミノ、ジーC、−C、−アルキルアミノ、
開鎖のアセタール、5もしくは6個の環形成員を有する
環状アセタール、開鎖のチオアセタールまたは、5もし
くは6個の環形成員を有する環状チオアセタールを表す
か、または、 R′と RIOとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫黄
および/または窒素を含有していてもよく、フッ素、塩
素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、エトキン、メト
キシメチル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエ
トキシエチルにより置換さ、れていてもよく、1個また
は2個の二重結合を含有していてもよい5員または6員
の環を形成しているか、 または、 R8、R′およびR”がその結合している炭素原子とと
もに の構造の基を表し、 E は酸素または硫黄を表し、 R”およびR12は相互に独立に、水素、ハロゲン、C
I−〇2−アルキルまたはハロゲノ−C、−C2−アル
キルを表す) を表す グループである。
ニル、アミノカルボニル、ホルミル、C!−C4−アル
ケニル、C、−C、−アルキニル、ハロゲノ−C、−C
、−アルキル、ハロゲノ−C,−C4−アルケニル、ハ
ロゲノ−C、−C、−アルキニル、アミノ、C,−C2
−アルキルアミノ、ジーC、−C、−アルキルアミノ、
開鎖のアセタール、5もしくは6個の環形成員を有する
環状アセタール、開鎖のチオアセタールまたは、5もし
くは6個の環形成員を有する環状チオアセタールを表す
か、または、 R′と RIOとが、その結合している炭素原子ととも
に、環形成員として炭素以外に酸素および/または硫黄
および/または窒素を含有していてもよく、フッ素、塩
素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、エトキン、メト
キシメチル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエ
トキシエチルにより置換さ、れていてもよく、1個また
は2個の二重結合を含有していてもよい5員または6員
の環を形成しているか、 または、 R8、R′およびR”がその結合している炭素原子とと
もに の構造の基を表し、 E は酸素または硫黄を表し、 R”およびR12は相互に独立に、水素、ハロゲン、C
I−〇2−アルキルまたはハロゲノ−C、−C2−アル
キルを表す) を表す グループである。
式(I)の化合物の特に極めて好ましいその他のグルー
プは、 式中の、 R1およびR3がメチルを表し、 R2が水素を表し、 Aが窒素を表し、 n が0を表し、 Xが酸素を表し、 Yが基 −CH− (ここで、 R4は水素、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキ
シエチル、エトキシメチルまたはエトキシエチルを表す
)゛を表し、 (ここで、 RaおよびR9はメチルを表し、 R”はメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
、3−メチル−1−ブトキシ、メトキシメチル、エトキ
シメチル、インプロポキシメチル、メチルチオメチル、
エチルチオエチルまたはハロゲノメチルもしくはハロゲ
ノエチルであって、そのハロゲノが特にフッ素および/
または塩素を表すものを表し、かつ、 (A)R”、RI8およびR17が相互に独立にメチノ
呟エチ)呟n−もしくはイソプロピルメトキシ、エトキ
シまたは n−もしくはインプロポキシを表すか、また
は、 (B)RlsおよびR16が相互に独立に水素、メチル
、メトキシ、エトキシ、またはメトキシチオを表し、 RI7がメトキシ、エトキシまたはメチルチオを表すか
、または、 (C)R”が水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
シまたはメチルチオを表し、R16およびR”がその結
合している炭素原子とともに、いずれの場合にもフッ素
および/または塩素により置換されていることもあるシ
クロプロピル、シクロペンチルまたはンクロヘキシルを
表す) を表す グループである。
プは、 式中の、 R1およびR3がメチルを表し、 R2が水素を表し、 Aが窒素を表し、 n が0を表し、 Xが酸素を表し、 Yが基 −CH− (ここで、 R4は水素、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキ
シエチル、エトキシメチルまたはエトキシエチルを表す
)゛を表し、 (ここで、 RaおよびR9はメチルを表し、 R”はメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、
メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ
、3−メチル−1−ブトキシ、メトキシメチル、エトキ
シメチル、インプロポキシメチル、メチルチオメチル、
エチルチオエチルまたはハロゲノメチルもしくはハロゲ
ノエチルであって、そのハロゲノが特にフッ素および/
または塩素を表すものを表し、かつ、 (A)R”、RI8およびR17が相互に独立にメチノ
呟エチ)呟n−もしくはイソプロピルメトキシ、エトキ
シまたは n−もしくはインプロポキシを表すか、また
は、 (B)RlsおよびR16が相互に独立に水素、メチル
、メトキシ、エトキシ、またはメトキシチオを表し、 RI7がメトキシ、エトキシまたはメチルチオを表すか
、または、 (C)R”が水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキ
シまたはメチルチオを表し、R16およびR”がその結
合している炭素原子とともに、いずれの場合にもフッ素
および/または塩素により置換されていることもあるシ
クロプロピル、シクロペンチルまたはンクロヘキシルを
表す) を表す グループである。
たとえば4.6−シメチルー2−クロロピリミジンと4
−(ネオペンチルチオ)−チオフェノールとを出発物質
として用いるならば、本発明記載の方法(A)の反応の
過程は次式により表し得る。
−(ネオペンチルチオ)−チオフェノールとを出発物質
として用いるならば、本発明記載の方法(A)の反応の
過程は次式により表し得る。
たとえば4−(4,6−シメチルー2−ピリミジルチオ
)−フェノールと塩化ジメチル第3ブチルシリルとを出
発物質として用いるならば、本発明記載の方法(B)の
反応の過程は次式により表し得る。
)−フェノールと塩化ジメチル第3ブチルシリルとを出
発物質として用いるならば、本発明記載の方法(B)の
反応の過程は次式により表し得る。
たとえば4.6−シメチルー2−メルカプトピリミジン
塩酸塩と4−(ネオペンチルスルホニル)−クロロベン
ゼンとを出発物質として用いるならば、本発明記載の方
法(C)の反応の過程は次式により表し得る。
塩酸塩と4−(ネオペンチルスルホニル)−クロロベン
ゼンとを出発物質として用いるならば、本発明記載の方
法(C)の反応の過程は次式により表し得る。
式(II)は、本発明記載の方法(A)を実施する際に
出発物質として必要なチオフェノール誘導体の一般的定
義を与える。この式(It)においてB、X、Z およ
びn は、好ましくは、本発明記載の式(I)の化合物
の記述において、これらの基に好ましいものとして既に
挙げたような意味を有する。
出発物質として必要なチオフェノール誘導体の一般的定
義を与える。この式(It)においてB、X、Z およ
びn は、好ましくは、本発明記載の式(I)の化合物
の記述において、これらの基に好ましいものとして既に
挙げたような意味を有する。
式(II)のチオフェノール誘導体のあるものは公知物
質である(たとえばCo11. Czech、 Che
+n。
質である(たとえばCo11. Czech、 Che
+n。
Commu、、 29.2161 (I964)を参照
)。
)。
式(IIa)
n
式中、
R4およびR8は相互に独立に水素、アルキノ呟アルコ
キシアルキルまたはハロゲノアルキルを表し、 X2は酸素まI;は硫黄を表し、 2 は基 −D a*−1 R1°″″1 (ここで、 R8−1はアルキルを表し、 R″−1はアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル
、アルキルチオまたはハロゲノアルキルを表し、 R11+″″Iはアルキルを表す) を表し、 B ハハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、アルキル
、アルコキン、ハロゲノアルキルまたはハロゲノアルコ
キシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 n は数0.1.2.3または4を表すのチオフェノー
ル誘導体およびその光学異性体は新規物質であり、同様
に本発明の主題物質を形成する。
キシアルキルまたはハロゲノアルキルを表し、 X2は酸素まI;は硫黄を表し、 2 は基 −D a*−1 R1°″″1 (ここで、 R8−1はアルキルを表し、 R″−1はアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル
、アルキルチオまたはハロゲノアルキルを表し、 R11+″″Iはアルキルを表す) を表し、 B ハハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、アルキル
、アルコキン、ハロゲノアルキルまたはハロゲノアルコ
キシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 n は数0.1.2.3または4を表すのチオフェノー
ル誘導体およびその光学異性体は新規物質であり、同様
に本発明の主題物質を形成する。
式(Jla)の好ましい化合物は
式中の、
R4およびR5が相互に独立に、いずれの場合にも水素
、C、−C、−アルキル、C、−C、−アルコキシ−C
、−C4−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−アル
キルを表し、 X2が酸素または硫黄を表し、 a−1 Zが基−DR1−1 Rlo−′ (ここで、 RA−1がC、−C、−アルキルを表し、R9−1がC
、−C、−アルキル、C,−C,−アルコキシ、C、−
C、−アルコキシ−C、−C、−アルキル、C,−C4
−アルキルチオまたはハロゲノ−C、−C4−アルキル
を表し、 R”″1はC、−Cじアルキルを表す)を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、C、−C、
−アルキル、C,−C,−アルコキシ、ハロゲノ−C+
−Ca−アルキルまたはハロゲノ−Cr −C4−アル
コキシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 nが整数0、■、2.3または4を表すようなものなら
びにそのR−およびS−異性体である。
、C、−C、−アルキル、C、−C、−アルコキシ−C
、−C4−アルキルまたはハロゲノ−C、−C、−アル
キルを表し、 X2が酸素または硫黄を表し、 a−1 Zが基−DR1−1 Rlo−′ (ここで、 RA−1がC、−C、−アルキルを表し、R9−1がC
、−C、−アルキル、C,−C,−アルコキシ、C、−
C、−アルコキシ−C、−C、−アルキル、C,−C4
−アルキルチオまたはハロゲノ−C、−C4−アルキル
を表し、 R”″1はC、−Cじアルキルを表す)を表し、 B がハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、C、−C、
−アルキル、C,−C,−アルコキシ、ハロゲノ−C+
−Ca−アルキルまたはハロゲノ−Cr −C4−アル
コキシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよく、 nが整数0、■、2.3または4を表すようなものなら
びにそのR−およびS−異性体である。
式Cl1a)の特に好ましい化合物は
式中の、
R4およびR5が相互に独立に、いずれの場合にも水素
、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、
エトキシメチル、エトキシエチルまたはハロゲノ−C、
−C、−アルキルを表し、 X2が酸素または硫黄を表し、 R6″″l ■ 2が基 −D−R9−1 IG−1 (ここで、 Rg−1がメチルまたはエチルを表し、R1−1がメチ
ル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−1i−
1第2もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシ、メト
キシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、メチルチオ、エチルチオまI;はハロゲノ−
CI−Cm−アルキルを表し、 Rlo−IはC、−C、−アルキルを表す)を表し、 Bがフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、
エトキシ、ハロゲノ−C、−C,−アルキルまたはハロ
ゲノ−C、−C2−アルコキシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよn は整数
0、lまたは2を表す ものである。
、メチル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、
エトキシメチル、エトキシエチルまたはハロゲノ−C、
−C、−アルキルを表し、 X2が酸素または硫黄を表し、 R6″″l ■ 2が基 −D−R9−1 IG−1 (ここで、 Rg−1がメチルまたはエチルを表し、R1−1がメチ
ル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−1i−
1第2もしくは第3ブチル、メトキシ、エトキシ、メト
キシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキ
シエチル、メチルチオ、エチルチオまI;はハロゲノ−
CI−Cm−アルキルを表し、 Rlo−IはC、−C、−アルキルを表す)を表し、 Bがフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、メトキシ、
エトキシ、ハロゲノ−C、−C,−アルキルまたはハロ
ゲノ−C、−C2−アルコキシを表し、 このB は同一であっても異なっていてもよn は整数
0、lまたは2を表す ものである。
下記の式(IIa)の化合物を例として挙げ得る。
4−ネオペンチルオキシチオフェノール2−メチル−4
−ネオペンチルオキシチオフェノール3−メチル−4−
ネオペンチルオキシチオフェノール2−クロロ−4−ネ
オペンチルオキシチオフェノール3−クロロ−4−ネオ
ペンチルオキシチオフェノール2−メトキシ−4−ネオ
ペンチルオキシチオフェノール 3−メトキシ−4−ネオペンチルオキシチオフェノール 4−ピナコリルオキシチオフェノール。
−ネオペンチルオキシチオフェノール3−メチル−4−
ネオペンチルオキシチオフェノール2−クロロ−4−ネ
オペンチルオキシチオフェノール3−クロロ−4−ネオ
ペンチルオキシチオフェノール2−メトキシ−4−ネオ
ペンチルオキシチオフェノール 3−メトキシ−4−ネオペンチルオキシチオフェノール 4−ピナコリルオキシチオフェノール。
式(IIa)のチオフェノール誘導体はD)式(Vll
l) 式中、 R4、R51x2およびZlは上記の意味を有する のアミノ(チオ)フェノール誘導体を、第1段階におい
て、適宜に希釈剤の存在下に、かつ、適宜に反応助剤の
存在下に、ニトロシル化剤を用いてジアゾ化し、第2段
階においてジアゾ化生成物をアルカリ金属キサントゲン
酸塩、特にキサントゲン酸カリウムと、希釈剤の存在下
に、かつ、塩基の存在下に反応させ、引き続き第3段階
において反応生成物をアルカリ金属水酸化物とともに、
希釈剤の存在下に加熱するか、 または、 E)式(IX) 式中、 R4、R6、X2およびZlは上記の意味を有する の塩化ベンゼンスルホニルを、適宜に希釈剤の存在下に
、かつ、適宜に反応助剤の存在下に、還元剤を用いて還
元することにより得られる。
l) 式中、 R4、R51x2およびZlは上記の意味を有する のアミノ(チオ)フェノール誘導体を、第1段階におい
て、適宜に希釈剤の存在下に、かつ、適宜に反応助剤の
存在下に、ニトロシル化剤を用いてジアゾ化し、第2段
階においてジアゾ化生成物をアルカリ金属キサントゲン
酸塩、特にキサントゲン酸カリウムと、希釈剤の存在下
に、かつ、塩基の存在下に反応させ、引き続き第3段階
において反応生成物をアルカリ金属水酸化物とともに、
希釈剤の存在下に加熱するか、 または、 E)式(IX) 式中、 R4、R6、X2およびZlは上記の意味を有する の塩化ベンゼンスルホニルを、適宜に希釈剤の存在下に
、かつ、適宜に反応助剤の存在下に、還元剤を用いて還
元することにより得られる。
式(VIII)は、本発明記載の方法(D)を実施する
際に出発物質として必要なアミノ(チオ)フェノール誘
導体の定義を与える。この式において、R4、R’、X
2おJ:びZ’ は、好マシくハ、本発明記載の式(l
la)の物質の記述において、これらの置換基に好まし
いものとして挙げたような基を表す。
際に出発物質として必要なアミノ(チオ)フェノール誘
導体の定義を与える。この式において、R4、R’、X
2おJ:びZ’ は、好マシくハ、本発明記載の式(l
la)の物質の記述において、これらの置換基に好まし
いものとして挙げたような基を表す。
式(VIII)のアミノ(チオ)フェノール誘導体はた
とえば、式(X) 式中、 R1、R5、X2およびzlは上記の意味を有する のニトロ(チオ)フェノール誘導体を希釈剤、たとえば
メタノールの存在下に、60−90バールの圧力、20
ないし100°C温度で、ラネーニッケルを用いて水素
化することにより得られる。
とえば、式(X) 式中、 R1、R5、X2およびzlは上記の意味を有する のニトロ(チオ)フェノール誘導体を希釈剤、たとえば
メタノールの存在下に、60−90バールの圧力、20
ないし100°C温度で、ラネーニッケルを用いて水素
化することにより得られる。
式(X)のニトロ(チオ)フェノールは公知物質である
か、または公知の方法、たとえば式(XI)式中、 Hal’はハロゲン、特にフッ素、塩素または臭素を表
す ノ4−ハロゲノニトロベンゼンヲ式(XTI)H−X”
−C−Z’ 式中、 R4、R5、X2およびzlは上記の意味を有する の(チオ)アルコールと希釈剤、たとえばジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドンまたはスルホランの存
在下に、かつ酸結合剤、たとえば水素化ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラー
トまたはカリウムメチラートの存在下に、+20°Cな
いし+200℃の温度で反応させることにより製造し得
る。
か、または公知の方法、たとえば式(XI)式中、 Hal’はハロゲン、特にフッ素、塩素または臭素を表
す ノ4−ハロゲノニトロベンゼンヲ式(XTI)H−X”
−C−Z’ 式中、 R4、R5、X2およびzlは上記の意味を有する の(チオ)アルコールと希釈剤、たとえばジメチルスル
ホキシド、N−メチルピロリドンまたはスルホランの存
在下に、かつ酸結合剤、たとえば水素化ナトリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメチラー
トまたはカリウムメチラートの存在下に、+20°Cな
いし+200℃の温度で反応させることにより製造し得
る。
式(Xi) ノ4−ハロゲノニトロベンゼンおよび弐C
XH)の(チオ)アルコールは公知の化合物であるか、
または公知の方法により製造することができる。
XH)の(チオ)アルコールは公知の化合物であるか、
または公知の方法により製造することができる。
本発明記載の方法(D)を実施する際にも必要なこれら
の反応剤は公知の化合物である。
の反応剤は公知の化合物である。
使用し得るニトロシル化剤は、この種のジアゾ化用に公
知の全ての化合物である。硝酸ナトリウムまたは硝酸カ
リウムが、強鉱酸の存在下に、好適に用いられる。
知の全ての化合物である。硝酸ナトリウムまたは硝酸カ
リウムが、強鉱酸の存在下に、好適に用いられる。
本発明記載の方法(D)の第1および第2段階において
、用いる希釈剤は好ましくは水である。
、用いる希釈剤は好ましくは水である。
第3段階においてはアルコール類、たとえばメタノール
もしくはエタノール、またはこれらと水との混合物;ま
たは、環状エーテル類、たとえばジオキサンもしくはテ
トラヒドロフラン、またはこれらと水との混合物が好適
に用いられる。
もしくはエタノール、またはこれらと水との混合物;ま
たは、環状エーテル類、たとえばジオキサンもしくはテ
トラヒドロフラン、またはこれらと水との混合物が好適
に用いられる。
本発明記載の方法(D)を実施する際tこ、反応温度は
比較的広い範囲で変えることができる。一般に、第1段
階は一30℃ないし+50°C1好ましくは一20°C
ないし+20℃の温度で、第2段階は+20℃ないし1
30℃、好ましくは+50°Cないし100℃の温度で
、第3段階は+20°Cないし200℃、好ましくは+
50℃ないし150°Cの温度で実施する。
比較的広い範囲で変えることができる。一般に、第1段
階は一30℃ないし+50°C1好ましくは一20°C
ないし+20℃の温度で、第2段階は+20℃ないし1
30℃、好ましくは+50°Cないし100℃の温度で
、第3段階は+20°Cないし200℃、好ましくは+
50℃ないし150°Cの温度で実施する。
本発明記載の方法(D)を実施する際に、第1および第
2段階においては出発物質は一般にほぼ等モル量で反応
させるが、どちらか一方の反応成分を過剰に用いること
も可能である。第3反応段階の塩基は一般に等モル量の
2倍で反応させる。
2段階においては出発物質は一般にほぼ等モル量で反応
させるが、どちらか一方の反応成分を過剰に用いること
も可能である。第3反応段階の塩基は一般に等モル量の
2倍で反応させる。
式(IX)は、本発明記載の方法(E)2を実施する際
に出発物質として必要な塩化ベンゼンスルホニルの定義
を与える。この式において、R’、R’、X2およびZ
lは、好ましくは、本発明記載の式(IIa)の物質の
記述において、これらの置換基に好ましいものとして挙
げたような基を表す。
に出発物質として必要な塩化ベンゼンスルホニルの定義
を与える。この式において、R’、R’、X2およびZ
lは、好ましくは、本発明記載の式(IIa)の物質の
記述において、これらの置換基に好ましいものとして挙
げたような基を表す。
式(IX)の塩化ベンゼンスルホニルは公知の化金物で
あるか、または公知の方法により、筒単に製造すること
ができる(製造実施例を参照)。
あるか、または公知の方法により、筒単に製造すること
ができる(製造実施例を参照)。
方法(E)においては、この種の還元に通常用いられる
全ての物質を還元剤として使用することができる。亜鉛
が好適に用いられる。
全ての物質を還元剤として使用することができる。亜鉛
が好適に用いられる。
用いる反応助剤は通常は強鉱酸または脂肪族カルボン酸
である。濃塩酸または希硫酸の使用が好ましい。
である。濃塩酸または希硫酸の使用が好ましい。
適当な希釈剤は不活性有機溶媒である。アルコール類、
たとえばメタノールもしくはエタノール、エーテル類、
たとえばジオキサンもしくはテトラヒドロフラン、また
は低級ケトン類、たとえばアセトンが好適に用いられる
。
たとえばメタノールもしくはエタノール、エーテル類、
たとえばジオキサンもしくはテトラヒドロフラン、また
は低級ケトン類、たとえばアセトンが好適に用いられる
。
本発明記載の方法(E)を実施する際に、反応温度は比
較的広い範囲で変えることができる。一般に、この方法
は一40°Cないし+140°C1好ましくは一20℃
ないし+100°Cの温度で実施する。
較的広い範囲で変えることができる。一般に、この方法
は一40°Cないし+140°C1好ましくは一20℃
ないし+100°Cの温度で実施する。
本発明記載の方法(E)を実施する際には、一般に、式
(■x)の塩化ベンゼンスルホニルlモルあたり 2−
1Oモルの、好ましくは2−5モルの還元剤と2ないし
10モルの、好ましくは2ないし5モルの反応助剤とを
使用する。
(■x)の塩化ベンゼンスルホニルlモルあたり 2−
1Oモルの、好ましくは2−5モルの還元剤と2ないし
10モルの、好ましくは2ないし5モルの反応助剤とを
使用する。
ある方法態様においては、塩化ベンゼンスルホニルの製
造および還元は一槽反応で実施することもできる。
造および還元は一槽反応で実施することもできる。
式(III)は、これも本発明記載の方法(A)を実施
する際に出発物質として必要なピリ(ミ)ジル誘導体の
一般的定義を与える。この式(III)において、R1
,R2、R3およびAは好ましくは、本発明記載の式(
I)の物質の記述においてこれらの置換基に好ましいも
のとして既に挙げたような基を表す。R”は好ましくは
フッ素、塩素、臭素、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、ベンゼンスルホン酸基またはトシル基を表す。
する際に出発物質として必要なピリ(ミ)ジル誘導体の
一般的定義を与える。この式(III)において、R1
,R2、R3およびAは好ましくは、本発明記載の式(
I)の物質の記述においてこれらの置換基に好ましいも
のとして既に挙げたような基を表す。R”は好ましくは
フッ素、塩素、臭素、メチルスルホニル、エチルスルホ
ニル、ベンゼンスルホン酸基またはトシル基を表す。
下記の式(III)のピリ(ミ)ジン誘導体を例として
挙げ得る。
挙げ得る。
2−クロロ−6−メチルピリジン
2−クロロ−4,6−シメチルピリジン2−メチルスル
ホニル−4−メチルピリミジン2−メチルスルホニル−
4,5−ジメチルピリミジン2−メチルスルホニル−4
,6−シメチルピリミジン2−メチルスルホニル−4−
エチル−5−メチルピリミジン 2−メチルスルホニル−4−メチル−5−エチルピリミ
ジン 2−メチルスルホニル−4,5,6−ドリメチルビリミ
ジン 2−クロロ−4−メチルピリミジン 2−クロロ−4,5−ジメチルとリミジン2−クロロー
4,6−シメチルピリミジン2−クロロ−4−エチル−
5−メチルピリミジン2−クロロ−4−メチル−5−エ
チルピリミジン2−クロロ−4,5,6−ドリメチルピ
リミジン。
ホニル−4−メチルピリミジン2−メチルスルホニル−
4,5−ジメチルピリミジン2−メチルスルホニル−4
,6−シメチルピリミジン2−メチルスルホニル−4−
エチル−5−メチルピリミジン 2−メチルスルホニル−4−メチル−5−エチルピリミ
ジン 2−メチルスルホニル−4,5,6−ドリメチルビリミ
ジン 2−クロロ−4−メチルピリミジン 2−クロロ−4,5−ジメチルとリミジン2−クロロー
4,6−シメチルピリミジン2−クロロ−4−エチル−
5−メチルピリミジン2−クロロ−4−メチル−5−エ
チルピリミジン2−クロロ−4,5,6−ドリメチルピ
リミジン。
式(III)のピリ(ミ)ジル誘導体は公知物質である
か、または、原理的には公知の方法により簡単に製造し
得る。式中のRI5がハロゲンを表す式(III)のピ
リミジン誘導体は、たとえば2−ヒドロキシピリミジン
誘導体(ジヒドロ−2−ピリミドン誘導体)を無機酸ハ
ロゲン化物、たとえば酸塩化リンもしくは五塩化リンと
反応させることにより、まt;は適当な2−アミノピリ
ミジン誘導体をハロゲン化水素酸の存在下に亜硝酸と反
応させることにより得られる。
か、または、原理的には公知の方法により簡単に製造し
得る。式中のRI5がハロゲンを表す式(III)のピ
リミジン誘導体は、たとえば2−ヒドロキシピリミジン
誘導体(ジヒドロ−2−ピリミドン誘導体)を無機酸ハ
ロゲン化物、たとえば酸塩化リンもしくは五塩化リンと
反応させることにより、まt;は適当な2−アミノピリ
ミジン誘導体をハロゲン化水素酸の存在下に亜硝酸と反
応させることにより得られる。
式(IV)は、本発明記載の方法(B)を実施する際に
出発物質として必要なピリ(ミ)ジルチオ(チオ)フェ
ノールの定義を与える。式(IV)においてR1,R2
、R3、A、B およびnは好ましくは、または特に好
ましくは本発明記載の式(I)の化合物の記述において
、それぞれ、これらの置換基に好ましいもの、または特
に好ましいものとして既に挙げたような基を表す。Xl
は酸素または硫黄を表す。
出発物質として必要なピリ(ミ)ジルチオ(チオ)フェ
ノールの定義を与える。式(IV)においてR1,R2
、R3、A、B およびnは好ましくは、または特に好
ましくは本発明記載の式(I)の化合物の記述において
、それぞれ、これらの置換基に好ましいもの、または特
に好ましいものとして既に挙げたような基を表す。Xl
は酸素または硫黄を表す。
式(lVa)
R1、
式中、
R1、R2、R3、A、BSX’およびnは上記の意味
を有するが、Aが一〇H基を表す場合にはR1、R2お
よびR3が同時に水素を表すことはな(、また、化合物
4−(4゜6−シメチルー2−ピリミジルチオ)−フェ
ノールは除外する の化合物は新規物質であり、同様に本発明の主題物質を
形成する。
を有するが、Aが一〇H基を表す場合にはR1、R2お
よびR3が同時に水素を表すことはな(、また、化合物
4−(4゜6−シメチルー2−ピリミジルチオ)−フェ
ノールは除外する の化合物は新規物質であり、同様に本発明の主題物質を
形成する。
この式(lVa)において R1,R2、R3、AlB
、X’および n は好ましくは、また、特に好ましく
は、それぞれ、これらの置換基それぞれに好ましいもの
、および特に好ましいものとしてそれぞれ既に挙げたよ
うな基を表すが、Aが−CH−基を表すならばR1、R
2およびR3が同時に水素を表すことはなく、また、化
合物4−(4,6−シメチルー2−ピリミジルチオ)−
フェノールは除外する。xlは酸素または硫黄を表す。
、X’および n は好ましくは、また、特に好ましく
は、それぞれ、これらの置換基それぞれに好ましいもの
、および特に好ましいものとしてそれぞれ既に挙げたよ
うな基を表すが、Aが−CH−基を表すならばR1、R
2およびR3が同時に水素を表すことはなく、また、化
合物4−(4,6−シメチルー2−ピリミジルチオ)−
フェノールは除外する。xlは酸素または硫黄を表す。
下記のものは式(IVa)のピリ(ミ)ジルチオ(チオ
)フェノールの例として挙げ得る。
)フェノールの例として挙げ得る。
4−(6−メチル−2−ピリジルチオ)−フェノール4
−(4,6−シメチルー2−ピリジルチオ)−フェノー
ル4−(4−メチル−2−ピリジルチオ)−7ェノール
4−(4,5−ジメチル−2−ピリミジルチオ)−フェ
ノール4−(4−エチル−4−メチル−2−ピリミジル
チオ)−フェノール 4−(5−エチル−4−メチル−2−ピリミジルチオ)
−7エノール 4−(4,5,6−トリメチル−2−ピリジルチオ)−
7二ノール 4−(4,6−シメチルー2−ピリジルチオ)−チオフ
ェノール。
−(4,6−シメチルー2−ピリジルチオ)−フェノー
ル4−(4−メチル−2−ピリジルチオ)−7ェノール
4−(4,5−ジメチル−2−ピリミジルチオ)−フェ
ノール4−(4−エチル−4−メチル−2−ピリミジル
チオ)−フェノール 4−(5−エチル−4−メチル−2−ピリミジルチオ)
−7エノール 4−(4,5,6−トリメチル−2−ピリジルチオ)−
7二ノール 4−(4,6−シメチルー2−ピリジルチオ)−チオフ
ェノール。
式(IVa)のビリ(ミ)ジル(チオ)−(チオ)フェ
ノールは F)式(XJI+) R3、 式中、 R1、R2、R3およびAは上記の意味を有し、 HgI2はハロゲン、特にフッ素、塩素または臭素を表
す の2−ハロゲノピリ(ミ)ジン誘導体ヲ式(XIV)n 式中、 X’、B およびn は上記の意味を有するの化合物と
、溶媒の存在下に、かつ、酸結合剤の存在下に反応させ
ることにより得られる。
ノールは F)式(XJI+) R3、 式中、 R1、R2、R3およびAは上記の意味を有し、 HgI2はハロゲン、特にフッ素、塩素または臭素を表
す の2−ハロゲノピリ(ミ)ジン誘導体ヲ式(XIV)n 式中、 X’、B およびn は上記の意味を有するの化合物と
、溶媒の存在下に、かつ、酸結合剤の存在下に反応させ
ることにより得られる。
式(mの公知のピリミジルチオ(チオ)フェノールは方
法(F)と同様にして製造することができる。
法(F)と同様にして製造することができる。
式(Xl11)は、上記の方法(F)に出発物質として
必要な2−ハロゲノピリ(ミ)ジン誘導体の定義を与え
る。この式において、R’% R2、R1およびAは好
ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述との関連
で、これらの基に好ましいものとして既に挙げたような
意味を有する。Hal’は好ましくはフッ素、塩素また
は臭素を表す。
必要な2−ハロゲノピリ(ミ)ジン誘導体の定義を与え
る。この式において、R’% R2、R1およびAは好
ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述との関連
で、これらの基に好ましいものとして既に挙げたような
意味を有する。Hal’は好ましくはフッ素、塩素また
は臭素を表す。
式(Xil+)の2−ハロゲノピリ(ミ)ジン誘導体は
、公知物質であるか、または原理的には公知の方法によ
り、簡単に製造することができる(DE−OS(西ドイ
ツ公開明細書) 2,101,359を参照)。
、公知物質であるか、または原理的には公知の方法によ
り、簡単に製造することができる(DE−OS(西ドイ
ツ公開明細書) 2,101,359を参照)。
式(XIV)は、これもまた方法CF)に出発物質とし
て必要な化合物の定義を与える。この式において、X’
、B およびn は好ましくは、本発明記載の式(I)
の物質の記述との関連で、これらの基またはこの指数に
好ましいものとして既に挙げたような意味を有する。
て必要な化合物の定義を与える。この式において、X’
、B およびn は好ましくは、本発明記載の式(I)
の物質の記述との関連で、これらの基またはこの指数に
好ましいものとして既に挙げたような意味を有する。
式(XIV)の化合物は、公知物質であるか、または原
理的には公知の方法により、簡単に製造することができ
る。
理的には公知の方法により、簡単に製造することができ
る。
方法(F)を実施する際に用いる酸結合剤は、この種の
反応に通常用いられる全ての酸結合剤が可能である。ア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属の酸化物、水酸化物
および炭酸塩、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、酸化カルシウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリ
ウム、ならびにアルカリ金属のアルコラード、アミドお
よび水素化物、たとえばナトリウムメチラート、ナトリ
ウムエチラート、カリウム第3ブチラード、ナトリウム
アミドおよび水素化ナトリウムが好適に使用し得る。
反応に通常用いられる全ての酸結合剤が可能である。ア
ルカリ金属およびアルカリ土類金属の酸化物、水酸化物
および炭酸塩、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、酸化カルシウム、炭酸ナトリウムおよび炭酸カリ
ウム、ならびにアルカリ金属のアルコラード、アミドお
よび水素化物、たとえばナトリウムメチラート、ナトリ
ウムエチラート、カリウム第3ブチラード、ナトリウム
アミドおよび水素化ナトリウムが好適に使用し得る。
方法CF)を実施する際に用いられる希釈剤は全ての通
常の不活性有機溶媒である。好適なものは炭化水素、た
とえばベンジン、トルエンおよびキシレン;ならびにエ
ーテル類、たとえばジオキサン、グリコールジメチルエ
ーテルおよびジグリコールジメチルエーテル:加えてニ
トリル類、たとえばアセトニトリル;ならびに極性の強
い溶媒、たとえばジメチルスルホキシド、スルホラン、
ジメチルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンであ
る。
常の不活性有機溶媒である。好適なものは炭化水素、た
とえばベンジン、トルエンおよびキシレン;ならびにエ
ーテル類、たとえばジオキサン、グリコールジメチルエ
ーテルおよびジグリコールジメチルエーテル:加えてニ
トリル類、たとえばアセトニトリル;ならびに極性の強
い溶媒、たとえばジメチルスルホキシド、スルホラン、
ジメチルホルムアミドおよびN−メチルピロリドンであ
る。
方法(F)を実施する際に、反応温度は比較的広い範囲
で変えることができる。一般に、この方法はO′Cない
し2QO’C! 、好ましくは50°Cないし150°
Cの温度で実施する。
で変えることができる。一般に、この方法はO′Cない
し2QO’C! 、好ましくは50°Cないし150°
Cの温度で実施する。
方法(F)記載の反応は一般に大気圧下で実施する。
方法(F)を実施する際に、式(Xllりおよび(Xm
の出発物質は一般にほぼ等モル量で反応させるが、どち
らか一方の成分を過剰に用いることも可能である。後処
理は通常の方法により行う。
の出発物質は一般にほぼ等モル量で反応させるが、どち
らか一方の成分を過剰に用いることも可能である。後処
理は通常の方法により行う。
式(V)は、これもまた方法(B)に出発物質として必
要な化合物の定義を与える。この式において、Yおよび
2は、好ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述
において、これらの置換基に好ましいものとして既に挙
げたような意味を有する。Gは好ましくはフッ素、塩素
、臭素、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニ
ルスルホン酸基、トシル基またはメシル基を表す。
要な化合物の定義を与える。この式において、Yおよび
2は、好ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述
において、これらの置換基に好ましいものとして既に挙
げたような意味を有する。Gは好ましくはフッ素、塩素
、臭素、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニ
ルスルホン酸基、トシル基またはメシル基を表す。
以下の式(V)の化合物を例として挙げ得る。
トシル酸イソブチル
トシル酸ネオペンチル
トシル酸2.2−ジメチルー1−ブチルトシル酸2.2
−ジメチル−1−ペンチルトシル酸2,2−ジメチル−
3−メトキシ−1−プロピルトシル酸2.2−ジメチル
−3−エトキシ−1−プロピルトシル酸2−メチルー2
−メトキシ−1−プロピルトシル酸2.2−ジメチル−
3−フルオロ−1−プロピルトシル酸2,2−ジメチル
−3−クロロ−1−プロピルトシル酸2.2−ジー(ク
ロロメチル)−1−プロピルトシル酸2.2−ジー(ク
ロロメチル)−3−クロロ−1−プロピル トシル酸2.2−ジメチルー4−二トリロ−1−ブチル
トシル酸3.3−ジメチル−2−ヒドロキシ−1−ブチ
ルトシル酸ツルケタール トシル酸2−エトキシカルボニル−2−メチル−1−プ
ロピル トシル酸ヒドロキシピバルアルデヒド l−クロロビナコリン 臭化プレニル 塩化メタリル 塩化2−フルオロメチルアリル フェニルスルホン酸トリフルオロエチル3−メチル−3
−トシルオキシメチルオキセタン3−エチル−3−メシ
ルオキシエチルオキセタン3−イソプロピル−3−トシ
ルオキシメチルオキセタン 2−メチル−2−トシルオキシメチルピラン塩化ジメチ
ル第3ブチルシリル 塩化ジメチル−2−(3−メチルブチル)−シリルクロ
ロメチルトリメチルシラン メシル酸3,3.−ヅメシル−1−ブチル。
−ジメチル−1−ペンチルトシル酸2,2−ジメチル−
3−メトキシ−1−プロピルトシル酸2.2−ジメチル
−3−エトキシ−1−プロピルトシル酸2−メチルー2
−メトキシ−1−プロピルトシル酸2.2−ジメチル−
3−フルオロ−1−プロピルトシル酸2,2−ジメチル
−3−クロロ−1−プロピルトシル酸2.2−ジー(ク
ロロメチル)−1−プロピルトシル酸2.2−ジー(ク
ロロメチル)−3−クロロ−1−プロピル トシル酸2.2−ジメチルー4−二トリロ−1−ブチル
トシル酸3.3−ジメチル−2−ヒドロキシ−1−ブチ
ルトシル酸ツルケタール トシル酸2−エトキシカルボニル−2−メチル−1−プ
ロピル トシル酸ヒドロキシピバルアルデヒド l−クロロビナコリン 臭化プレニル 塩化メタリル 塩化2−フルオロメチルアリル フェニルスルホン酸トリフルオロエチル3−メチル−3
−トシルオキシメチルオキセタン3−エチル−3−メシ
ルオキシエチルオキセタン3−イソプロピル−3−トシ
ルオキシメチルオキセタン 2−メチル−2−トシルオキシメチルピラン塩化ジメチ
ル第3ブチルシリル 塩化ジメチル−2−(3−メチルブチル)−シリルクロ
ロメチルトリメチルシラン メシル酸3,3.−ヅメシル−1−ブチル。
式(V)の化合物のあるものは公知物質であり、原理的
には公知の工程により筒単に製造することができる(た
とえばヘルベチカ・シミ力・アクタ(Helv、 Ch
im、 Acta) 63.1412 (I980)を
参照)。
には公知の工程により筒単に製造することができる(た
とえばヘルベチカ・シミ力・アクタ(Helv、 Ch
im、 Acta) 63.1412 (I980)を
参照)。
式(Vl)は、本発明記載の方法(C)に出発物質とし
て必要な化合物の定義を与える。この式%式% 好ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述におい
て、これらの置換基に好ましいものとして既に挙げたよ
うな意味を有する。
て必要な化合物の定義を与える。この式%式% 好ましくは、本発明記載の式(I)の物質の記述におい
て、これらの置換基に好ましいものとして既に挙げたよ
うな意味を有する。
式(Vll)は、これもまた本発明記載の方法(C)に
出発物質として必要な化合物の定義を与える。
出発物質として必要な化合物の定義を与える。
この式においてB1¥、Z およびn は、好ましくは
、式(I)の物質の記述において、これらの置換基に好
ましいものとして挙げたような意味を有する。Halは
好ましくはフッ素、塩素または臭素を表す。
、式(I)の物質の記述において、これらの置換基に好
ましいものとして挙げたような意味を有する。Halは
好ましくはフッ素、塩素または臭素を表す。
式(Vl)および(Vll)の化合物は公知物質である
か、または原理的には公知の工程により間単に製造する
ことができる(製造実施例を参照)。
か、または原理的には公知の工程により間単に製造する
ことができる(製造実施例を参照)。
本発明記載の方法(A)に使用し得る希釈剤は全ての不
活性有機溶媒である。アルコール類およびエーテル類、
たとえばメタノール、エタノール、インプロパツール、
シクロヘキサノール、エチレンクリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールお
よびジエチレングリコールモノメチルエーテル;さらに
はハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンおよび0−ジクロ
ロベンゼン;ならびに炭化水素、たとえばトルエン、キ
シレンおよびテトラリン:加えてケトン類、たとえばア
セトンおよびメチルイソプロピルケトン;さらに環状エ
ーテル類、たとえばテトラヒドロフランおよびジオキサ
ン;加えてカルボン酸エステル類、たとえば酢酸エチル
およびグリコールモノメチルエーテル酢酸エステル;な
らびに極性の強い溶媒、たとえばジメチルスルホキシド
、スルホラン、 N−メチルピロリドン、ジメチルアセ
タミドおよびジメチルホルムアミドが好適に用いられる
。
活性有機溶媒である。アルコール類およびエーテル類、
たとえばメタノール、エタノール、インプロパツール、
シクロヘキサノール、エチレンクリコール、エチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールお
よびジエチレングリコールモノメチルエーテル;さらに
はハロゲン化炭化水素、たとえば塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、クロロベンゼンおよび0−ジクロ
ロベンゼン;ならびに炭化水素、たとえばトルエン、キ
シレンおよびテトラリン:加えてケトン類、たとえばア
セトンおよびメチルイソプロピルケトン;さらに環状エ
ーテル類、たとえばテトラヒドロフランおよびジオキサ
ン;加えてカルボン酸エステル類、たとえば酢酸エチル
およびグリコールモノメチルエーテル酢酸エステル;な
らびに極性の強い溶媒、たとえばジメチルスルホキシド
、スルホラン、 N−メチルピロリドン、ジメチルアセ
タミドおよびジメチルホルムアミドが好適に用いられる
。
本発明記載の方法(A)の反応、に可能な酸結合剤は全
ての通常の酸結合剤である。第3級アミン類、たとえば
トリエチルアミン、ピリジンおよびN、N−ジメチルア
ニリン;ならびにアルカリ土類金属の酸化物、たとえば
酸化マグネシウムおよび酸化カルシウム;加えてアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、たとえば炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸カルシウム;加え
てアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物、た
とえば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムおよび水酸化カルシウムを使用し得る。
ての通常の酸結合剤である。第3級アミン類、たとえば
トリエチルアミン、ピリジンおよびN、N−ジメチルア
ニリン;ならびにアルカリ土類金属の酸化物、たとえば
酸化マグネシウムおよび酸化カルシウム;加えてアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、たとえば炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムおよび炭酸カルシウム;加え
てアルカリ金属およびアルカリ土類金属の水酸化物、た
とえば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムおよび水酸化カルシウムを使用し得る。
本発明記載の方法(A)を実施する際に、反応温度は比
較的広い範囲で変えることができる。一般に、この方法
は一20°Cないし+100°C1好ましくは50℃な
いし160°Cの温度で実施する。
較的広い範囲で変えることができる。一般に、この方法
は一20°Cないし+100°C1好ましくは50℃な
いし160°Cの温度で実施する。
本発明記載の方法(A)を実施する際には、式(Iりお
よび(II+)の出発物質ならびに適宜に塩基は一般に
ほぼ等モル量で使用するが、どちらか一方の成分を過剰
に用いることも可能である。
よび(II+)の出発物質ならびに適宜に塩基は一般に
ほぼ等モル量で使用するが、どちらか一方の成分を過剰
に用いることも可能である。
後処理は通常の方法で行う。
本発明記載の方法(B)に使用し得る希釈剤および酸結
合剤は、好ましくは方法(A)においても可能な希釈剤
および酸結合剤である。
合剤は、好ましくは方法(A)においても可能な希釈剤
および酸結合剤である。
本発明記載の方法(B)の反応温度も比較的広い範囲で
変えることができる。一般に、この方法は一20℃ない
し+200℃、好ましくは0°Cないし160°Cの温
度で実施する。
変えることができる。一般に、この方法は一20℃ない
し+200℃、好ましくは0°Cないし160°Cの温
度で実施する。
本発明記載の方法(B)を実施する際には、式(IV)
および(V)の出発物質ならびに適宜に塩基は一般にほ
ぼ等モル量で用いるが、どちらか一方の反応成分を過剰
に使用することも可能である。
および(V)の出発物質ならびに適宜に塩基は一般にほ
ぼ等モル量で用いるが、どちらか一方の反応成分を過剰
に使用することも可能である。
本発明記載の方法(C)を実施する際に用いる希釈剤お
よび酸結合剤は、好ましくは方法(A)の場合に挙げた
ような希釈剤および塩基である。
よび酸結合剤は、好ましくは方法(A)の場合に挙げた
ような希釈剤および塩基である。
本発明記載の方法(C)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、この方法はOな
いし200°C1好ましくは50ないし150°Cの温
度で実施する。
い範囲で変えることができる。一般に、この方法はOな
いし200°C1好ましくは50ないし150°Cの温
度で実施する。
本発明記載の方法(C)を実施する際には、式(Vl)
および(Vll)の出発物質ならびに適宜に塩基はほぼ
等モル量で反応させるが、どちらか一方の反応成分を過
剰に使用することも可能である。
および(Vll)の出発物質ならびに適宜に塩基はほぼ
等モル量で反応させるが、どちらか一方の反応成分を過
剰に使用することも可能である。
本発明記載の方法(A)、(B)および(C)は一般に
大気圧下で実施するが、これらの方法を加圧下または減
圧下で実施することも可能である。
大気圧下で実施するが、これらの方法を加圧下または減
圧下で実施することも可能である。
方法(A)、(B)および(C)においては、反応を実
施したのち、通常の方法により後処理を行う(製造実施
例を参照)。
施したのち、通常の方法により後処理を行う(製造実施
例を参照)。
本発明記載の活性化合物は落葉剤(defoliant
)、脱水剤(des 1cant)、広葉植物枯死剤(
agent Eardestroying broad
−1eaved plants)および、特に雑草防除
剤(weed−killer)として用いることができ
る。雑草とは、最も広義に、望ましくない場所に生育す
る全ての植物であると理解すべきである。本発明記載の
物質が全除草剤として作用するか、選択的除草剤として
作用するかは、基本的には使用量に応じて決まる。
)、脱水剤(des 1cant)、広葉植物枯死剤(
agent Eardestroying broad
−1eaved plants)および、特に雑草防除
剤(weed−killer)として用いることができ
る。雑草とは、最も広義に、望ましくない場所に生育す
る全ての植物であると理解すべきである。本発明記載の
物質が全除草剤として作用するか、選択的除草剤として
作用するかは、基本的には使用量に応じて決まる。
本発明記載の活性化合物は、たとえば以下の植物との関
連で使用し得る。
連で使用し得る。
以下の属の双子葉雑草: カラシ(Sinapis)、
マメグイバイナズナ(Lepidium) 、ヤエムグ
ラ(Galium) 、ハコベ(Stellaria)
、マトリカリア(Matricaria) 、アンチ
ミス(Anthemis) 、ガリンソガ(Galin
soga) 、アカザ(Chenopod ium)、
イラクサ(Urtica)、ハンゴンソウ(5enec
io)、ヒ−2−(Amaranthus) 、スベ
リヒュ(Fortulaca)、オナモミ(Xan L
h ium)、ヒルガオ(Convolvulus)、
アサガオ(Ipomoea)、ミチヤナギ(Po ly
gonum)、セスバニア(Sesbania) 、ブ
タフサ(Ambros ia)、ノアザミ(Cirsi
um) 、カルドウウス(C2rduus)、ノゲシ(
Sonchus) 、ナス(Solanum) 、イヌ
ガラシ(Rorippa) 、ロタラ(Rotala)
、リンデルニア(Lindernia) 、オドリコ
ソウ(Lamium) 、クワガタソウ(Veroni
ca) 、イチビ(Abut i Ion)、エメクス
(Emex)、チョウセンアサガオ(Datura)、
スミレ(Viola) 、チシマオドリコ(Galeo
psis)、ケシ(Papaver)およびヤグルマギ
ク(Centaurea)。
マメグイバイナズナ(Lepidium) 、ヤエムグ
ラ(Galium) 、ハコベ(Stellaria)
、マトリカリア(Matricaria) 、アンチ
ミス(Anthemis) 、ガリンソガ(Galin
soga) 、アカザ(Chenopod ium)、
イラクサ(Urtica)、ハンゴンソウ(5enec
io)、ヒ−2−(Amaranthus) 、スベ
リヒュ(Fortulaca)、オナモミ(Xan L
h ium)、ヒルガオ(Convolvulus)、
アサガオ(Ipomoea)、ミチヤナギ(Po ly
gonum)、セスバニア(Sesbania) 、ブ
タフサ(Ambros ia)、ノアザミ(Cirsi
um) 、カルドウウス(C2rduus)、ノゲシ(
Sonchus) 、ナス(Solanum) 、イヌ
ガラシ(Rorippa) 、ロタラ(Rotala)
、リンデルニア(Lindernia) 、オドリコ
ソウ(Lamium) 、クワガタソウ(Veroni
ca) 、イチビ(Abut i Ion)、エメクス
(Emex)、チョウセンアサガオ(Datura)、
スミレ(Viola) 、チシマオドリコ(Galeo
psis)、ケシ(Papaver)およびヤグルマギ
ク(Centaurea)。
以下の属の双子葉栽培植物: ワタ(Gossyl)i
um)、ダイズ(Glycine) 、サトウダイコン
(Beta)、ニンジン(Daucus)、インゲンマ
メ(Phaseolus)、エントウ(Pisum)
、ジャガイモ(Solanum) 、アマ(Linum
) 、サツマイモ(Ipomoea) 、ソラマメ(V
icia) 、タバコ(N 1cot 1ana)、ト
マト(Lyc。
um)、ダイズ(Glycine) 、サトウダイコン
(Beta)、ニンジン(Daucus)、インゲンマ
メ(Phaseolus)、エントウ(Pisum)
、ジャガイモ(Solanum) 、アマ(Linum
) 、サツマイモ(Ipomoea) 、ソラマメ(V
icia) 、タバコ(N 1cot 1ana)、ト
マト(Lyc。
persicon) 、テンキンマメ(Arachis
) 、キャベツ(Brassica) 、アキノノゲシ
(Lactuca) 、キラリ(Cucumis)およ
びカポチJF (Cucurbita)。
) 、キャベツ(Brassica) 、アキノノゲシ
(Lactuca) 、キラリ(Cucumis)およ
びカポチJF (Cucurbita)。
以下の属の単子葉雑草: ヒエ(Ech 1noch
1oa)、エンコロ(Setaria) 、キビ(Pa
nicum) 、メヒシバ(Digitaria) 、
アワガエリ(Phleum) 、イチゴツナギ(Poa
) 、ウシノケグサ(Festuca) 、オヒシバ(
Eleusine) 、ブラキアリア(Brachia
ria)、ドクムギ(Lolium) 、キッネガヤ(
Bromus) 、カラスムギ(Avena) 、カヤ
ツリグサ(Cyperus)、モロコシ(Sorghu
m) 、カモジグサ(Agropyron)、キノトン
(Cynodon) 、コナギ(Monochoria
) 、テンツキ(Fimbristylis) 、オモ
ダカ(Sagittaria)、ハリイ(Eleoch
aris) 、ホタルイ(Scirpus) 、スズメ
ツヒエ(Paspalum)、カモノハシ(Ischa
emum)、スフェノクレア(Sphenoclea)
、ダクチロクテニウム(Dactylocteniu
m) 、ヌカポ(Agrostis)、スズメノテッポ
ウ(A Iopecurus)およびアベラ(Aper
a)。
1oa)、エンコロ(Setaria) 、キビ(Pa
nicum) 、メヒシバ(Digitaria) 、
アワガエリ(Phleum) 、イチゴツナギ(Poa
) 、ウシノケグサ(Festuca) 、オヒシバ(
Eleusine) 、ブラキアリア(Brachia
ria)、ドクムギ(Lolium) 、キッネガヤ(
Bromus) 、カラスムギ(Avena) 、カヤ
ツリグサ(Cyperus)、モロコシ(Sorghu
m) 、カモジグサ(Agropyron)、キノトン
(Cynodon) 、コナギ(Monochoria
) 、テンツキ(Fimbristylis) 、オモ
ダカ(Sagittaria)、ハリイ(Eleoch
aris) 、ホタルイ(Scirpus) 、スズメ
ツヒエ(Paspalum)、カモノハシ(Ischa
emum)、スフェノクレア(Sphenoclea)
、ダクチロクテニウム(Dactylocteniu
m) 、ヌカポ(Agrostis)、スズメノテッポ
ウ(A Iopecurus)およびアベラ(Aper
a)。
以下の属の単子葉栽培植物: イネ(Oryza) 、
トウモロコシ(Zea) 、コムギ(Triticum
) 、オオムギ(Hordeum) 、カラスムギ(A
vena) 、ライムギ(Secale)、モロコシ(
Sorghum) 、キビ(Panicum)、サトウ
キビ(Saccharum) 、パイナツプル(Ana
nas)、アスパラガス(Asparagus)および
ネギ(Allium)。
トウモロコシ(Zea) 、コムギ(Triticum
) 、オオムギ(Hordeum) 、カラスムギ(A
vena) 、ライムギ(Secale)、モロコシ(
Sorghum) 、キビ(Panicum)、サトウ
キビ(Saccharum) 、パイナツプル(Ana
nas)、アスパラガス(Asparagus)および
ネギ(Allium)。
しかし、本発明記載の活性化合物の使用は決してこれら
の属に限定されるものではなく、他の植物にも同様に拡
張できるものである、 本件化合物は、その濃度に応じて、たとえば工業地域の
、および鉄道軌道敷内の、ならびに、植樹の有無に拘わ
らず、遊歩道および広場の、雑草の全防除に適している
。同様に、本件化合物は多年生栽培植物中の、たとえば
植林地、観賞樹林、果樹園、ブドウ園、柑橘樹園、硬果
果樹園、バナナ園、コーヒー園、茶畑、ゴム園、アブラ
ヤシ園、ココア園、軟果果樹園およびホップ畑内の雑草
の防除に、また、−手生栽培植物中の雑草の選択的防除
に使用することができる。
の属に限定されるものではなく、他の植物にも同様に拡
張できるものである、 本件化合物は、その濃度に応じて、たとえば工業地域の
、および鉄道軌道敷内の、ならびに、植樹の有無に拘わ
らず、遊歩道および広場の、雑草の全防除に適している
。同様に、本件化合物は多年生栽培植物中の、たとえば
植林地、観賞樹林、果樹園、ブドウ園、柑橘樹園、硬果
果樹園、バナナ園、コーヒー園、茶畑、ゴム園、アブラ
ヤシ園、ココア園、軟果果樹園およびホップ畑内の雑草
の防除に、また、−手生栽培植物中の雑草の選択的防除
に使用することができる。
本発明記載の式(I)の活性化合物は、特に単子葉栽培
植物および双子葉栽培植物たとえばコムギおよびサトウ
ダイコン中の単子葉雑草および双子葉雑草の、発芽後法
を用いる選択的防除に、特に良好な成果を挙げ得る。
植物および双子葉栽培植物たとえばコムギおよびサトウ
ダイコン中の単子葉雑草および双子葉雑草の、発芽後法
を用いる選択的防除に、特に良好な成果を挙げ得る。
さらに、式中のR1およびR3がメチルを表し、R2が
水素を表し、Aが窒素を表し、nがOを表し、Xが酸素
を表し、Yが基−CH−を■ R′ 表し、Zが基−CH2−C−R16を表す式(I)の化
合物のグループは、特に発芽後法による、サトウダイコ
ン中の単子葉雑草および双子葉雑草の選択的防除に用い
て特に良好な成果を挙げ得る。
水素を表し、Aが窒素を表し、nがOを表し、Xが酸素
を表し、Yが基−CH−を■ R′ 表し、Zが基−CH2−C−R16を表す式(I)の化
合物のグループは、特に発芽後法による、サトウダイコ
ン中の単子葉雑草および双子葉雑草の選択的防除に用い
て特に良好な成果を挙げ得る。
本発明記載の活性化合物は、発芽後法により用いる場合
には、単独で、または乳化性の油、界面活性物質および
他の添加物との組み合わせで適用することができる。
には、単独で、または乳化性の油、界面活性物質および
他の添加物との組み合わせで適用することができる。
加えて、本発明記載の活性化合物は植物の物質交替に関
与し、したがって、成長調節剤として使用し得る。
与し、したがって、成長調節剤として使用し得る。
植物成長調節剤の作用様式のこれまでの経験は、1種の
活性化合物が数種の異なる作用を植物に及ぼし得ること
を示している。この種の物質の作用は基本的には、植物
の成長の段階との関連での使用時期、植物およびその環
境への適用量、ならびに化合物の適用方法に依存する。
活性化合物が数種の異なる作用を植物に及ぼし得ること
を示している。この種の物質の作用は基本的には、植物
の成長の段階との関連での使用時期、植物およびその環
境への適用量、ならびに化合物の適用方法に依存する。
いずれの場合にも、成長調節剤は、所望の特定の手法で
栽培植物に影響を与えるように計画される。
栽培植物に影響を与えるように計画される。
植物の葉の量は成長調節剤の影響下で、所望の時点で植
物の落葉が達成されるように調節することができる。こ
の種の落葉はワタの機械的収穫におおきな重要性を有す
るが、他の栽培植物、たとえばブドウ栽培における収穫
を容易にするためにも有利である。植物の落葉はまた、
移植前の植物の蒸散を低下させるために実施することも
できる。
物の落葉が達成されるように調節することができる。こ
の種の落葉はワタの機械的収穫におおきな重要性を有す
るが、他の栽培植物、たとえばブドウ栽培における収穫
を容易にするためにも有利である。植物の落葉はまた、
移植前の植物の蒸散を低下させるために実施することも
できる。
本件活性化合物は慣用の配合剤、t;とえば、溶液、乳
濁液、水和性粉末、けん濁液、粉末、ふりかけ剤、ペー
スト、可溶性粉末、顆粒、けん濁−乳濁濃縮液、活性化
合物を含浸させた天然および合成材料、重合体物質中の
微少カプセルに転化することができる。
濁液、水和性粉末、けん濁液、粉末、ふりかけ剤、ペー
スト、可溶性粉末、顆粒、けん濁−乳濁濃縮液、活性化
合物を含浸させた天然および合成材料、重合体物質中の
微少カプセルに転化することができる。
これらの配合剤は公知の手法で、たとえば活性化合物を
増量剤、すなわち液体溶剤および/または固体担体と、
任意に界面活性剤、すなわち乳化剤および/または分散
剤および/または起泡剤を用いて混合することにより製
造する。
増量剤、すなわち液体溶剤および/または固体担体と、
任意に界面活性剤、すなわち乳化剤および/または分散
剤および/または起泡剤を用いて混合することにより製
造する。
増量剤として水を用いる場合には、たとえば有機溶媒を
補助溶剤として用いることもできる。液体溶剤として適
当な主要なものには:芳香族炭化水素、たとえばキシレ
ン、トルエンまたはアルキルナフタレン;塩素置換芳香
族炭化水素および塩素置換脂肪族炭化水素、たとえばク
ロロベンゼン類、クロロエチレン類または塩化メチレン
:シクロヘキサンまたはパラフィン類たとえば鉱油溜升
のような脂肪族炭化水素;鉱油および植物油;アルコー
ル類、たとえばブタノールまたはグリコールならびにそ
のエーテル類およびエステル類;ケトン類、たとえばア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
またはシクロヘキサノン;極性の強い溶媒、たとえばジ
メチルホルムアミドおよびジメチルスルホキシドならび
に水がある。
補助溶剤として用いることもできる。液体溶剤として適
当な主要なものには:芳香族炭化水素、たとえばキシレ
ン、トルエンまたはアルキルナフタレン;塩素置換芳香
族炭化水素および塩素置換脂肪族炭化水素、たとえばク
ロロベンゼン類、クロロエチレン類または塩化メチレン
:シクロヘキサンまたはパラフィン類たとえば鉱油溜升
のような脂肪族炭化水素;鉱油および植物油;アルコー
ル類、たとえばブタノールまたはグリコールならびにそ
のエーテル類およびエステル類;ケトン類、たとえばア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
またはシクロヘキサノン;極性の強い溶媒、たとえばジ
メチルホルムアミドおよびジメチルスルホキシドならび
に水がある。
固体担体として適当なものには:たとえばアンモニウム
塩;および、カオリン、粘土、タルク、白亜、石英、ア
タパルジャイト、モンモリロナイトまたはケイ藻土のよ
うな天然鉱物の磨砕物、ならびに高分散ケイ酸、アルミ
ナおよびケイ酸塩のような合成鉱物の磨砕物がある。顆
粒用の固体担体として適当なものには:たとえば方解石
、大理石、軽石、セピオライトおよびドロマイトのよう
な天然岩石を粉砕、分別したもの;ならびに無機および
有機粗粉の合成顆粒;有機材料たとえばおが屑、ヤシ殻
、トウモロコシの穂軸およびタバコの茎の顆粒がある。
塩;および、カオリン、粘土、タルク、白亜、石英、ア
タパルジャイト、モンモリロナイトまたはケイ藻土のよ
うな天然鉱物の磨砕物、ならびに高分散ケイ酸、アルミ
ナおよびケイ酸塩のような合成鉱物の磨砕物がある。顆
粒用の固体担体として適当なものには:たとえば方解石
、大理石、軽石、セピオライトおよびドロマイトのよう
な天然岩石を粉砕、分別したもの;ならびに無機および
有機粗粉の合成顆粒;有機材料たとえばおが屑、ヤシ殻
、トウモロコシの穂軸およびタバコの茎の顆粒がある。
乳化剤および/または起泡剤として適当なものには:た
とえばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン−脂肪族アルコールエーテルたとえばアルキ
ルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホン
酸塩、アルキル硫酸塩、アリールスルホン酸塩のような
非イオン性およびアニオン性の乳化剤、ならびにアルブ
ミン加水分解生成物がある。分散剤として適当なものに
は:たとえば、リグニン−亜硫酸塩廃液およびメチルセ
ルローズがある。
とえばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン−脂肪族アルコールエーテルたとえばアルキ
ルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホン
酸塩、アルキル硫酸塩、アリールスルホン酸塩のような
非イオン性およびアニオン性の乳化剤、ならびにアルブ
ミン加水分解生成物がある。分散剤として適当なものに
は:たとえば、リグニン−亜硫酸塩廃液およびメチルセ
ルローズがある。
接着剤、たとえばカルボキシメチルセルローズならびに
粉末、顆粒またはラテックスの形状の天然および合成重
合体たとえばアラビアゴム、ポリヒニルアルコールおよ
びポリ酢酸ビニル、ならびに天然リン脂質たとえばケフ
ァリンおよびレシチン、および合成リン脂質も配合剤中
に使用し得る。
粉末、顆粒またはラテックスの形状の天然および合成重
合体たとえばアラビアゴム、ポリヒニルアルコールおよ
びポリ酢酸ビニル、ならびに天然リン脂質たとえばケフ
ァリンおよびレシチン、および合成リン脂質も配合剤中
に使用し得る。
他の可能な添加物は鉱物油および植物油である。
無機顔料たとえば酸化鉄、酸化チタニウムおよびプルシ
アンブルー、ならびに有機染料たとえばアリザリン染料
、アゾ染料および金属フタロシアニン染料のような着色
剤も、また、痕跡量の栄養剤、たとえば鉄、マンガン、
ホウ素、銅、コバルト、モリブデンおよび亜鉛の塩も使
用することが可能である。
アンブルー、ならびに有機染料たとえばアリザリン染料
、アゾ染料および金属フタロシアニン染料のような着色
剤も、また、痕跡量の栄養剤、たとえば鉄、マンガン、
ホウ素、銅、コバルト、モリブデンおよび亜鉛の塩も使
用することが可能である。
本件配合剤は一般に0.1ないし95重量%の、好まし
くは0.5ないし90重量%の活性化合物を含有する。
くは0.5ないし90重量%の活性化合物を含有する。
除草剤として用いる場合には、本発明記載の活性化合物
は単独でも、その配合剤の形状においても、他の公知の
除草剤との混合物としても、雑草防除用に用いることが
でき、調合ずみ配合剤も、タンク混合剤も可能である。
は単独でも、その配合剤の形状においても、他の公知の
除草剤との混合物としても、雑草防除用に用いることが
でき、調合ずみ配合剤も、タンク混合剤も可能である。
土泥混合物に適当な除草剤は公知の除草剤、たとえば、
穀類中の雑草防除用の1−アミノ−6−エチルチオー3
−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3,5−トリア
ジン−2,4(I H,3H)−ジオンまたはN−(2
−ベンゾチアゾリル)−N、N’−ジメチル尿素;サト
ウダイコン中の雑草防除用の4−アミノ−3−メチル−
6−フェニル−1,2,4−トリアジン−5−(4H)
−オン;およびダイズ中の雑草防除用の4−アミノ−6
−(I,1−ジメチルエチル)−3−メチルチオ−1,
2,4−トリアジン−5−(4H)−オンである。適当
な混合相手にはまた:尿素類Cf−とえばメタベンチア
ズロン、クロルトルロン、インプロトウロン)、スルホ
ニル原素類(たとえばクロルスルフロン)、トリアジン
類(たとえばアトラジン、チルブトリン、シアナジン)
、ドリアジノン類(たとえばエチオジンおよびメトリブ
ジン)、トリアジンジオン類(たとえばアメティディ・
ネス)、ジフェニルエーテル類(たとえばビフェノック
ス)、ベンゾニトリル類(たとえばイオキシニルおよび
ブロモキシミル)、フェノキシアルカンカルボン酸類(
たとえば2.4D 。
穀類中の雑草防除用の1−アミノ−6−エチルチオー3
−(2,2−ジメチルプロピル)−1,3,5−トリア
ジン−2,4(I H,3H)−ジオンまたはN−(2
−ベンゾチアゾリル)−N、N’−ジメチル尿素;サト
ウダイコン中の雑草防除用の4−アミノ−3−メチル−
6−フェニル−1,2,4−トリアジン−5−(4H)
−オン;およびダイズ中の雑草防除用の4−アミノ−6
−(I,1−ジメチルエチル)−3−メチルチオ−1,
2,4−トリアジン−5−(4H)−オンである。適当
な混合相手にはまた:尿素類Cf−とえばメタベンチア
ズロン、クロルトルロン、インプロトウロン)、スルホ
ニル原素類(たとえばクロルスルフロン)、トリアジン
類(たとえばアトラジン、チルブトリン、シアナジン)
、ドリアジノン類(たとえばエチオジンおよびメトリブ
ジン)、トリアジンジオン類(たとえばアメティディ・
ネス)、ジフェニルエーテル類(たとえばビフェノック
ス)、ベンゾニトリル類(たとえばイオキシニルおよび
ブロモキシミル)、フェノキシアルカンカルボン酸類(
たとえば2.4D 。
2.4DF、MCPA、MCPP 等)アリールオキシ
−またはヘテロアリールオキシフェノキシプロピオン酸
類(たとえばハロキシフォップ、ディクロ7オツプ、フ
ェノキサプロップおよヒ(R)−2−[4−(3,5−
ジクロロビリジルー2−オキシ)−7エノキシ1プロピ
オン酸(トリメチルシリル)−メチル)、イミダゾリノ
ン類(たとえばイマザメタベンズ)、ペンタシン類、ピ
リデート類(pyridates) 、フェンメディフ
ァムおよびエトフメセートもある。驚くべきことには、
ある種の混合物は共働効果をも示すのである。
−またはヘテロアリールオキシフェノキシプロピオン酸
類(たとえばハロキシフォップ、ディクロ7オツプ、フ
ェノキサプロップおよヒ(R)−2−[4−(3,5−
ジクロロビリジルー2−オキシ)−7エノキシ1プロピ
オン酸(トリメチルシリル)−メチル)、イミダゾリノ
ン類(たとえばイマザメタベンズ)、ペンタシン類、ピ
リデート類(pyridates) 、フェンメディフ
ァムおよびエトフメセートもある。驚くべきことには、
ある種の混合物は共働効果をも示すのである。
他の公知の活性化合物、たとえば殺菌・殺カビ剤(ru
ngicide) 、殺虫剤(insecticide
) 、殺ダニ剤(acaricide) 、殺線虫剤(
nemat ic 1de)、鳥類駆逐剤、植物栄養剤
および土壌構造改良剤との混合物も可能である。
ngicide) 、殺虫剤(insecticide
) 、殺ダニ剤(acaricide) 、殺線虫剤(
nemat ic 1de)、鳥類駆逐剤、植物栄養剤
および土壌構造改良剤との混合物も可能である。
本件活性化合物は単独でも、その配合剤の形状において
も、または、配合剤をさらに希釈して製造した使用形態
、たとえば配合ずみ溶液、けん濁液、乳濁液、粉末、ペ
ーストおよび顆粒の形状においても使用し得る。これら
は慣用の手法で、たとえば液剤散布、スプレー、噴霧ま
たは粒剤散布により使用する。
も、または、配合剤をさらに希釈して製造した使用形態
、たとえば配合ずみ溶液、けん濁液、乳濁液、粉末、ペ
ーストおよび顆粒の形状においても使用し得る。これら
は慣用の手法で、たとえば液剤散布、スプレー、噴霧ま
たは粒剤散布により使用する。
本発明記載の活性化合物は植物の発芽前にも発芽後にも
適用することができる。
適用することができる。
また、播種前の土壌に混入することもできる。
活性化合物の使用量はかなりの範囲で変えることができ
る。使用量は基本的には所望の効果の性質に応じて決ま
る。一般には土壌表面lヘクタールあたり活性化合物0
.OIないしlokg、好ましくは1ヘクタールあたり
0.05ないし5 kgの量を用いる。
る。使用量は基本的には所望の効果の性質に応じて決ま
る。一般には土壌表面lヘクタールあたり活性化合物0
.OIないしlokg、好ましくは1ヘクタールあたり
0.05ないし5 kgの量を用いる。
本発明記載の活性化合物は、成長調節剤として用いる場
合にも同様に、配合剤中において他の公知の活性化合物
、たとえば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤、および
除草剤との混合物として、また、肥料および他の成長調
節剤との混合物としても存在し得る。
合にも同様に、配合剤中において他の公知の活性化合物
、たとえば殺菌・殺カビ剤、殺虫剤、殺ダニ剤、および
除草剤との混合物として、また、肥料および他の成長調
節剤との混合物としても存在し得る。
本件活性化合物は単独でも、その配合剤の形状において
も、または、配合剤から製造した使用形態、たとえば配
合ずみ溶液、乳化性濃縮液、乳濁液、泡剤、けん濁液、
水和性粉末、ペースト、可溶性粉末、ふりかけ剤および
顆粒としても使用し得る。これらは慣用の手法で、たと
えば液剤散布、スプレー、噴霧、粒剤散布、ふりかけ、
泡立て、はけ塗り等により使用する。さらに、本件活性
化合物を超低容量法により適用することも、または、本
件活性化合物配合剤を、もしくは活性化合物自体を土壌
中に注入することも可能である。植物の種子を処理する
こともできる。
も、または、配合剤から製造した使用形態、たとえば配
合ずみ溶液、乳化性濃縮液、乳濁液、泡剤、けん濁液、
水和性粉末、ペースト、可溶性粉末、ふりかけ剤および
顆粒としても使用し得る。これらは慣用の手法で、たと
えば液剤散布、スプレー、噴霧、粒剤散布、ふりかけ、
泡立て、はけ塗り等により使用する。さらに、本件活性
化合物を超低容量法により適用することも、または、本
件活性化合物配合剤を、もしくは活性化合物自体を土壌
中に注入することも可能である。植物の種子を処理する
こともできる。
成長調節剤として用いる場合にも、使用量はかなりの範
囲で変えることができる。一般には土壌表面1ヘクター
ルあたり0.01ないし50 kg。
囲で変えることができる。一般には土壌表面1ヘクター
ルあたり0.01ないし50 kg。
好ましくは0.05ないし10 kgの活性化合物を使
用する。
用する。
適用時期に関しては、原則は好ましい時期内に成長調節
剤を適用することであり、その正確な定義は気候および
成育環境に応じて異なる。
剤を適用することであり、その正確な定義は気候および
成育環境に応じて異なる。
本発明記載の活性化合物の製造および使用は以下の実施
例より明らかになる。
例より明らかになる。
製造実施例
実施例 1
方法(A)
4−ネオペンチルオキシチオフェノール3.43 g(
I7,5ミリモル)を20 mQのN−メチルピロリド
ンに入れたものに、粉末水酸化カリウム1.12g(2
0ミリモル)を窒素下で添加し、この混合物を15分間
撹拌し、4,5−ジメチル−2−クロロピリミジン2.
5 g (I7,5ミリモル)を添加しt;のち、薄層
クロマトグラフィー(TLC)により監視しながら11
0℃に加温する。冷却後、この溶液を100 mQの水
に撹拌混入する。沈澱を吸引濾別し、シクロヘキサン/
酢酸エチル3:1を用いるシリカゲルのクロマトグラフ
ィーにかける。n−ヘキサンより結晶化させると、融点
69℃の4−(4,5−ジメチル−2−ピリミジルチオ
)−フェニルネオペンチルエーテル2.85 g (理
論量の53.9%)が得られる。
I7,5ミリモル)を20 mQのN−メチルピロリド
ンに入れたものに、粉末水酸化カリウム1.12g(2
0ミリモル)を窒素下で添加し、この混合物を15分間
撹拌し、4,5−ジメチル−2−クロロピリミジン2.
5 g (I7,5ミリモル)を添加しt;のち、薄層
クロマトグラフィー(TLC)により監視しながら11
0℃に加温する。冷却後、この溶液を100 mQの水
に撹拌混入する。沈澱を吸引濾別し、シクロヘキサン/
酢酸エチル3:1を用いるシリカゲルのクロマトグラフ
ィーにかける。n−ヘキサンより結晶化させると、融点
69℃の4−(4,5−ジメチル−2−ピリミジルチオ
)−フェニルネオペンチルエーテル2.85 g (理
論量の53.9%)が得られる。
実施例 2
方法(B)
4−(4,6−シメチルー2−ピリミジルチオ)−フェ
ノール4.64 g (20ミリモル)を20 mQの
N−メチルピロリドンに入れたものに、カリウム第3ブ
チラード2.73 g (24ミリモル)を窒素雰囲気
下で添加し、この混合物を5分間撹拌し、メシル酸3.
3−ジメチル−1−ブチル3.96 g (22ミリモ
ル)を添加したのち、150℃に6時間加熱する。この
溶液を100 mQのIN水酸化ナトリウム溶液に撹拌
混入し、トルエンで3回抽出し、硫酸マグネシウムを用
いて乾燥する。有機相を真空中で蒸発させる。残留物を
シクロヘキサン/酢酸エチル3:1を用いるシリカゲル
のクロマトグラフィーにかける。−20℃でn−ヘキサ
ンより結晶化させると、融点57℃の4−(4,6−シ
メチルー2−ピリミジルチオ)−フェニル3.3−ジメ
チル−1−ブチルエーテル2.64 g (理論量の4
1.7%)が得られる。
ノール4.64 g (20ミリモル)を20 mQの
N−メチルピロリドンに入れたものに、カリウム第3ブ
チラード2.73 g (24ミリモル)を窒素雰囲気
下で添加し、この混合物を5分間撹拌し、メシル酸3.
3−ジメチル−1−ブチル3.96 g (22ミリモ
ル)を添加したのち、150℃に6時間加熱する。この
溶液を100 mQのIN水酸化ナトリウム溶液に撹拌
混入し、トルエンで3回抽出し、硫酸マグネシウムを用
いて乾燥する。有機相を真空中で蒸発させる。残留物を
シクロヘキサン/酢酸エチル3:1を用いるシリカゲル
のクロマトグラフィーにかける。−20℃でn−ヘキサ
ンより結晶化させると、融点57℃の4−(4,6−シ
メチルー2−ピリミジルチオ)−フェニル3.3−ジメ
チル−1−ブチルエーテル2.64 g (理論量の4
1.7%)が得られる。
実施例 3
方法(B)
4−(4,5−ジメチル−2−ピリミジルチオ)−フェ
ノール4−64 g (20ミリモル)を30 mQの
絶対アセトニトリルに入れj;ものに、粉末水酸化カリ
ウム1.24 g (24ミリモル)を添加し、この混
合物を15分間撹拌し、塩化メタリル2.44 mQ
(25ミリモル)を添加したのち、TLCで監視しなが
ら60°Cに加熱する。この溶液を150 rtrQの
IN水酸化ナトリウム溶液に撹拌混入し、塩化メチレン
で3回抽出し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥する。有
機相を真空中で蒸発させる。4−(4,5−ジメチル−
2−ピリミジルチオ)−フェニルメタリルエーテル4.
8 g (理論量の89.5%)が淡黄色の油状物とし
て得られる。
ノール4−64 g (20ミリモル)を30 mQの
絶対アセトニトリルに入れj;ものに、粉末水酸化カリ
ウム1.24 g (24ミリモル)を添加し、この混
合物を15分間撹拌し、塩化メタリル2.44 mQ
(25ミリモル)を添加したのち、TLCで監視しなが
ら60°Cに加熱する。この溶液を150 rtrQの
IN水酸化ナトリウム溶液に撹拌混入し、塩化メチレン
で3回抽出し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥する。有
機相を真空中で蒸発させる。4−(4,5−ジメチル−
2−ピリミジルチオ)−フェニルメタリルエーテル4.
8 g (理論量の89.5%)が淡黄色の油状物とし
て得られる。
’HNMR(200MHz、 CD CIs) :δ
−1,9CH。
−1,9CH。
■
(d、3H,C=C) 、2−15(s、3H,ピリミ
ジン!rCHs) 、2.38(s、3H,ピリミジン
4−CHs) /4.47 (s 、 2H,0−CH
z) 15.05CH。
ジン!rCHs) 、2.38(s、3H,ピリミジン
4−CHs) /4.47 (s 、 2H,0−CH
z) 15.05CH。
(d m”、 2H、CHx−C= CH2) /6−
95.7.55(AA’BB’m、4H,フェニル−H
) 、 8.14 (S 。
95.7.55(AA’BB’m、4H,フェニル−H
) 、 8.14 (S 。
IH,ピリミジン6−H)。
実施例 4
r
方法(B)
4−(4,6−シメチル−2−ピリミジルチオ)−7二
ノール4.64 g (20ミリモル)を3Q mQの
絶対アセトニトリルに入れたものに、粉末水酸化カリウ
ム1.23 g (22ミリモル)を添加し、この溶液
を10分間撹拌する。クロロメチルトリメチルシラン2
.8 rsQ (20ミリモル)を添加したのち、TL
Cで監視しながら、この混合物を60℃に加熱する。
ノール4.64 g (20ミリモル)を3Q mQの
絶対アセトニトリルに入れたものに、粉末水酸化カリウ
ム1.23 g (22ミリモル)を添加し、この溶液
を10分間撹拌する。クロロメチルトリメチルシラン2
.8 rsQ (20ミリモル)を添加したのち、TL
Cで監視しながら、この混合物を60℃に加熱する。
この溶液を濾過し、真空中で蒸発させる。残留物をシク
ロヘキサン/酢酸エチル2:1を用いてクロマトグラフ
ィーにかけ、残留する生成物を n−ヘキサンより結晶
化させる。融点75℃の4−(4゜6−シメチルー2−
ピリミジルチオ)−フェニルメチレントリメチルシリル
エーテル2.17 g (理論量の27.8%)が得ら
れる。
ロヘキサン/酢酸エチル2:1を用いてクロマトグラフ
ィーにかけ、残留する生成物を n−ヘキサンより結晶
化させる。融点75℃の4−(4゜6−シメチルー2−
ピリミジルチオ)−フェニルメチレントリメチルシリル
エーテル2.17 g (理論量の27.8%)が得ら
れる。
実施例 5
方法(B)
塩化ジメチル第3ブチルシリル3.31 g (22ミ
リモル)を20 mQの絶対塩化メチレンに溶解させ、
ジアザビシクロウンデセン(D B U) 3.66m
Qc24 ミリモル)を添加する。4−(4,6−シメ
チルー2−ピリミジルチオ)−フェノール4.64 i
(20ミリモル)を5Q mQの絶対塩化メチレンに
けん濁させたけん濁液を添加する。1時間後、この溶液
を塩化アンモニウム飽和溶液に撹拌混入し、塩化メチレ
ン相を分離し、IN 水酸化ナトリウム溶液で洗浄する
。硫酸ナトリウムを用いて乾燥したのち、この溶液を真
空中で蒸発させ、残留物をn−ヘキサンより再結晶させ
る。融点61°Cの4−(4,6−シメチルー2−ピリ
ミジルチオ)−7二二ルジメチル第3ブチルシリルエー
テル4.49 g (理論量の65%)が得られる。
リモル)を20 mQの絶対塩化メチレンに溶解させ、
ジアザビシクロウンデセン(D B U) 3.66m
Qc24 ミリモル)を添加する。4−(4,6−シメ
チルー2−ピリミジルチオ)−フェノール4.64 i
(20ミリモル)を5Q mQの絶対塩化メチレンに
けん濁させたけん濁液を添加する。1時間後、この溶液
を塩化アンモニウム飽和溶液に撹拌混入し、塩化メチレ
ン相を分離し、IN 水酸化ナトリウム溶液で洗浄する
。硫酸ナトリウムを用いて乾燥したのち、この溶液を真
空中で蒸発させ、残留物をn−ヘキサンより再結晶させ
る。融点61°Cの4−(4,6−シメチルー2−ピリ
ミジルチオ)−7二二ルジメチル第3ブチルシリルエー
テル4.49 g (理論量の65%)が得られる。
実施例 6
方法(A)
4−(ネオペンチルチオ)−チオフェノール4.03
g(I9ミリモル)を窒素下で20 mQのN−メチル
ピロリドンに導入し、粉末水酸化カリウム1.35g(
24ミリモル)を添加し、この混合物を15分間撹拌し
、4,6−シメチルー2−クロロピリミジン2.7 g
(I9ミリモル)を添加したのち、TLCにより監視
しなから110’cに加熱する。この反応混合物を水に
撹拌混入し、n−ヘキサンで5回抽出する。有機相を硫
酸マグネシウムで乾燥し、真空中で蒸発させる。残留物
を、シクロヘキサン/酢酸エチル3:Iを用いてクロマ
トグラフィーにかける。n−ヘキサンより結晶化させる
と、融点40℃の4−(4,6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−ネオペンチルチオフェニルエーテル3.0
8 g (理論量の50.9%)が得られる。
g(I9ミリモル)を窒素下で20 mQのN−メチル
ピロリドンに導入し、粉末水酸化カリウム1.35g(
24ミリモル)を添加し、この混合物を15分間撹拌し
、4,6−シメチルー2−クロロピリミジン2.7 g
(I9ミリモル)を添加したのち、TLCにより監視
しなから110’cに加熱する。この反応混合物を水に
撹拌混入し、n−ヘキサンで5回抽出する。有機相を硫
酸マグネシウムで乾燥し、真空中で蒸発させる。残留物
を、シクロヘキサン/酢酸エチル3:Iを用いてクロマ
トグラフィーにかける。n−ヘキサンより結晶化させる
と、融点40℃の4−(4,6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−ネオペンチルチオフェニルエーテル3.0
8 g (理論量の50.9%)が得られる。
実施例 7
方法(A)
4−(ネオペンチルスルホキシ
3、88 g (I7ミリモル)を20 mQのN−メ
チルピロリドンに入れたものに、粉末水酸化カリウム1
、12 g (20 ミリモル)を窒素下で添加し、こ
の混合物を15分間撹拌し、4,6−シメチルー2−ク
ロロピリミジン2−42 g (I7ミリモル)を添加
したのち、TLCで監視しながら110℃に加熱する。
チルピロリドンに入れたものに、粉末水酸化カリウム1
、12 g (20 ミリモル)を窒素下で添加し、こ
の混合物を15分間撹拌し、4,6−シメチルー2−ク
ロロピリミジン2−42 g (I7ミリモル)を添加
したのち、TLCで監視しながら110℃に加熱する。
この反応混合物を100 raQの水に撹拌混入し、ト
ルエンで3回抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾
燥し、真空中で蒸発させる。残留物を、シクロヘキサン
/酢酸エチル2:1を用いるシリカゲルのクロマトグラ
フィーにかける。4−(4.6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−ネオペンチルスルホキンフェニルエーテル
2.75 g (理論Jiの48.4%)が高度に粘稠
な油状物として得られる。
ルエンで3回抽出する。有機相を硫酸マグネシウムで乾
燥し、真空中で蒸発させる。残留物を、シクロヘキサン
/酢酸エチル2:1を用いるシリカゲルのクロマトグラ
フィーにかける。4−(4.6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−ネオペンチルスルホキンフェニルエーテル
2.75 g (理論Jiの48.4%)が高度に粘稠
な油状物として得られる。
’H NMR (200 MHz,CDC13) :
δ −1.23(s 、 9H, −C(CHs)3)
、2−36 (S 、6H, ピリミジン4−CH
,および6−c H3) 、2.58 (AB 。
δ −1.23(s 、 9H, −C(CHs)3)
、2−36 (S 、6H, ピリミジン4−CH
,および6−c H3) 、2.58 (AB 。
IH.So−CHH−C(CHs)i) 、2.85
(AG。
(AG。
LH,So−C H H−C(C H 3)り 、6−
75 ( s 。
75 ( s 。
IH,ピリミジン5−H) 、7.63, 7.78
(AA’。
(AA’。
BB’m,4H,フェニル−H)。
実施例 8
方法(C)
4、6−シメチルー2−メルカプトピリミジン塩酸塩5
、36 g (30ミリモル)を20 mQのN−メチ
ルピロリドンに入れたものに、粉末水酸化カリウム3、
7 g (66 ミリモル)を窒素下で添加し、この混
合物を15分間撹拌し、4−(ネオペンチルスルホニル
)−クロロベンゼン7、4 g (30 ミリモル)を
添加したのち、TLC で監視しながら150°Cに加
熱する。冷却後、この反応混合物を150 mQの水に
撹拌混入し、トルエンで3回抽出する。有機相を硫酸マ
グネシウムを用いて乾燥し、真空中で蒸発させる。シク
ロヘキサン/酢酸エチル2:1を用いるクロマトグラフ
ィーとトルエン/ n −ヘキサンよりの結晶化ののち
、融点98°Cの4−(4,6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−フェニルネオペンチルスルホン1.79
g (理論量の17%)が得られる。
、36 g (30ミリモル)を20 mQのN−メチ
ルピロリドンに入れたものに、粉末水酸化カリウム3、
7 g (66 ミリモル)を窒素下で添加し、この混
合物を15分間撹拌し、4−(ネオペンチルスルホニル
)−クロロベンゼン7、4 g (30 ミリモル)を
添加したのち、TLC で監視しながら150°Cに加
熱する。冷却後、この反応混合物を150 mQの水に
撹拌混入し、トルエンで3回抽出する。有機相を硫酸マ
グネシウムを用いて乾燥し、真空中で蒸発させる。シク
ロヘキサン/酢酸エチル2:1を用いるクロマトグラフ
ィーとトルエン/ n −ヘキサンよりの結晶化ののち
、融点98°Cの4−(4,6−シメチルー2−ピリミ
ジルチオ)−フェニルネオペンチルスルホン1.79
g (理論量の17%)が得られる。
以下の表に式を用いて示した式(I)の化合物は、上記
の実施例および表中の記述に特定した方法により製造す
ることができる。
の実施例および表中の記述に特定した方法により製造す
ることができる。
及1a C続き)
実施例 R’ R2H” 、’I B
n XNo。
n XNo。
317 C1l、 i+ 11
N −00YZ ra点 °C 11ル 出発物質 実施例1t−1 方法(D) p−ネオペンチルオキシアニリン71.4 g (0,
4モル)を150 mQ (0,9モル)の手製塩酸に
けん濁させ、亜硝酸ナトリウム27.6 g (0,4
モル)を170 mQの水に入れたものを0°Cで滴々
添加する。キサントゲン酸カリウム64 g (0,4
モル)と炭酸ナトリウム53 g (0,5モル)とを
450 mQの水に入れ、70°Cに加温した混合物に
、このジアゾニウム塩を滴々添加し、続いて、この混合
物を70°Cで1時間撹拌する。生成する油状物をエー
テルにとり、濃縮する。残留物を水酸化カリウム56g
(Iモル)とともに400 rnQの80%強度エタノ
ールにとり、この混合物を窒素雰囲気下で2時間還流す
る。蒸留により溶媒を除去したのち、残留物に600
mQの水を氷冷しながら添加し、続いて、この反応混合
物を濾過する。125m(lの20%強度硫酸を用いて
濾液のpHを2に調節する。生成する油状物をエーテル
にとり、乾燥し、濃縮し、高真空で蒸留する。沸点73
−75℃10.2 ミリバールの、ガスクロマトグラフ
ィーで測定して97%の含有量を有する4−不才ペンチ
ルオキシチオフェノール39.2 g (理論量の50
%)が得られる。
N −00YZ ra点 °C 11ル 出発物質 実施例1t−1 方法(D) p−ネオペンチルオキシアニリン71.4 g (0,
4モル)を150 mQ (0,9モル)の手製塩酸に
けん濁させ、亜硝酸ナトリウム27.6 g (0,4
モル)を170 mQの水に入れたものを0°Cで滴々
添加する。キサントゲン酸カリウム64 g (0,4
モル)と炭酸ナトリウム53 g (0,5モル)とを
450 mQの水に入れ、70°Cに加温した混合物に
、このジアゾニウム塩を滴々添加し、続いて、この混合
物を70°Cで1時間撹拌する。生成する油状物をエー
テルにとり、濃縮する。残留物を水酸化カリウム56g
(Iモル)とともに400 rnQの80%強度エタノ
ールにとり、この混合物を窒素雰囲気下で2時間還流す
る。蒸留により溶媒を除去したのち、残留物に600
mQの水を氷冷しながら添加し、続いて、この反応混合
物を濾過する。125m(lの20%強度硫酸を用いて
濾液のpHを2に調節する。生成する油状物をエーテル
にとり、乾燥し、濃縮し、高真空で蒸留する。沸点73
−75℃10.2 ミリバールの、ガスクロマトグラフ
ィーで測定して97%の含有量を有する4−不才ペンチ
ルオキシチオフェノール39.2 g (理論量の50
%)が得られる。
実施例I11
方法(E)
亜鉛末60 g (0,9グラム原子)を70 mQの
エタノール中で沸騰状態にまで加熱し、塩化 p−ネオ
ペンチルオキシベンゼンスルホニル5 g (0,02
モル)と濃塩酸1rRQとを添加して反応を開始させる
。ついで、さらに55.4 g (0,21モル)の塩
化 p−不才ペンチルオキシベンゼンスルホニルを導入
して反応混合物を沸騰状態に保ち、さらに10分間還流
させる。105 mQの濃塩酸を添加したのち、この混
合物をさらに3時間還流させる。
エタノール中で沸騰状態にまで加熱し、塩化 p−ネオ
ペンチルオキシベンゼンスルホニル5 g (0,02
モル)と濃塩酸1rRQとを添加して反応を開始させる
。ついで、さらに55.4 g (0,21モル)の塩
化 p−不才ペンチルオキシベンゼンスルホニルを導入
して反応混合物を沸騰状態に保ち、さらに10分間還流
させる。105 mQの濃塩酸を添加したのち、この混
合物をさらに3時間還流させる。
この反応混合物を200 mQの石油エーテルとともに
撹拌する。を機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濃縮し、蒸留する。57°C10,07ミリバールの沸
点を有する4−不才ペンチルオキシチオフェノール23
.9 g (理論量の53%)が得られる。
撹拌する。を機相を分離し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
濃縮し、蒸留する。57°C10,07ミリバールの沸
点を有する4−不才ペンチルオキシチオフェノール23
.9 g (理論量の53%)が得られる。
以下の式(II)の化合物は実施例(II−1)および
製造の一般的指示より類推して得られる。
製造の一般的指示より類推して得られる。
表4
11−2 − 0 0 HCHI−(、(CH
I)3 80℃10.2ミリバール11−3 3−C
H310HH−C(CH3)3 78°O10,2ミリ
バールn−43−CH,l OHH−C(CH3)3
93−95°O10,13ミリバール 11−5 3−CQ 1 0 HH−C(CH3
)3 97°C10,2ミリバール11−6 2−
CQ 1 0 HH−C(CH3)3 98−10
2°(:!10.05ミリノ(−ル n−7−OS HH−C(CH3)3 86°C!1
0.07ミリバール 4−ネオペンチルオキシニトロベンゼン276g(I,
32モル)を1300 mQのメタノールに導入し、3
0 gのラネーニッケルを用いて70°0180バール
で水素化する。計算量の水素が吸収されたところで反応
混合物を濾過し、濾液を濃縮し、残留物を真空蒸留する
。78℃10.07 ミリバールの沸点と 36−39
°Cの融点とを有する4−ネオペンチルオキシチオアニ
リン202 g (理論量の85%)が得られる。
I)3 80℃10.2ミリバール11−3 3−C
H310HH−C(CH3)3 78°O10,2ミリ
バールn−43−CH,l OHH−C(CH3)3
93−95°O10,13ミリバール 11−5 3−CQ 1 0 HH−C(CH3
)3 97°C10,2ミリバール11−6 2−
CQ 1 0 HH−C(CH3)3 98−10
2°(:!10.05ミリノ(−ル n−7−OS HH−C(CH3)3 86°C!1
0.07ミリバール 4−ネオペンチルオキシニトロベンゼン276g(I,
32モル)を1300 mQのメタノールに導入し、3
0 gのラネーニッケルを用いて70°0180バール
で水素化する。計算量の水素が吸収されたところで反応
混合物を濾過し、濾液を濃縮し、残留物を真空蒸留する
。78℃10.07 ミリバールの沸点と 36−39
°Cの融点とを有する4−ネオペンチルオキシチオアニ
リン202 g (理論量の85%)が得られる。
以下の化合物は実施例VllI−1と同様にして得られ
る。
る。
実施例 構造 沸点/圧力、
CI ネオペンタノール92.4 g (I,05モル)と
4−クロロニトロベンゼン156.5 g (Iモル)
とを800 mQのジメチルスルホキシドに溶解させた
溶液に、粉末水酸化カリウム64.5 g (I,15
モル)を室温で導入する。続いて、−の反応混合物を8
0°Cで3時間撹拌する。ついで、これを3Qの氷水に
注ぎ入れる。生成物を塩化メチレンで抽出する。有機相
を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃
縮する。真空中で蒸留すると、102−110°(!1
0.05ミリバールの沸点と38−40℃の融点とを存
する4−不才ペンチルオキシニトロベンゼン127.3
g (理論量の59%)が得られる。
CI ネオペンタノール92.4 g (I,05モル)と
4−クロロニトロベンゼン156.5 g (Iモル)
とを800 mQのジメチルスルホキシドに溶解させた
溶液に、粉末水酸化カリウム64.5 g (I,15
モル)を室温で導入する。続いて、−の反応混合物を8
0°Cで3時間撹拌する。ついで、これを3Qの氷水に
注ぎ入れる。生成物を塩化メチレンで抽出する。有機相
を水で2回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、濃
縮する。真空中で蒸留すると、102−110°(!1
0.05ミリバールの沸点と38−40℃の融点とを存
する4−不才ペンチルオキシニトロベンゼン127.3
g (理論量の59%)が得られる。
以下の化合物は実施例X−1と同様にして得られる。
実施例X−2
ゝ’CI
融点: 73−75°C
実施例X−3
沸点:110°C10,26ミリバ一ル実施例1x−1
ネオペンチルオキシベンゼン98.6 g (0,6モ
ル)を200 mQのクロロホルムに溶解させ、〇−5
℃で167.8 g (I,44モル)のクロロスルホ
ン酸に滴々添加する。気体の発生が静まったところで、
この混合物を室温で気体の発生が完了するまで撹拌する
。ついで、この反応混合物を500gの氷に注ぎ、クロ
ロホルム相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用
いて乾燥し、濃縮する。
ル)を200 mQのクロロホルムに溶解させ、〇−5
℃で167.8 g (I,44モル)のクロロスルホ
ン酸に滴々添加する。気体の発生が静まったところで、
この混合物を室温で気体の発生が完了するまで撹拌する
。ついで、この反応混合物を500gの氷に注ぎ、クロ
ロホルム相を分離し、水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用
いて乾燥し、濃縮する。
紫色の物質87 gが残留する。これを50°Cで60
0mαの石油エーテルにとり、6Cmのシリカゲルカラ
ムを通して濾過することにより精製する。
0mαの石油エーテルにとり、6Cmのシリカゲルカラ
ムを通して濾過することにより精製する。
濾液を約200 rrrQに濃縮し、−20℃に冷却す
る。
る。
結晶を吸引濾別することにより、融点80−82°Cの
塩化4−ネオペンチルオキシベンゼンスルホニル68.
3 g (理論量の43%)が得られる。
塩化4−ネオペンチルオキシベンゼンスルホニル68.
3 g (理論量の43%)が得られる。
以下のものは実施例lX−1と同様にして得られる。
実施例lX−2
融点: 88−91’0
実施例VII−1用の出発物質の製造と同様にしてチオ
フェノールよりネオペンチルフェニルチオエーテルが得
られる。収率85%、沸点92−960C/6 ミリバ
ール。
フェノールよりネオペンチルフェニルチオエーテルが得
られる。収率85%、沸点92−960C/6 ミリバ
ール。
実施例IV−1
CH。
純度約85%の粉末水酸化カリウム42.2 g(0,
64モル)を384 mQのN−メチルピロリジン−2
−オンに導入し、窒素下、60°Cで80.6 g(0
,64モル)の4−メルカプトフェノールを滴々添加す
る。ついで、2−クロロ−4,5,6−トリメチルピリ
ミジン100 g (0,64モル)を128 mQの
N−メチルピロリジン−2−オンに入れたものを 10
0°Cで滴々添加する。この反応混合物を100°Cで
3時間、転化の完了が薄層クロマトグラフィーにより測
定されるまで撹拌する。10ミリバールで蒸留して溶媒
の約273を除去し、残留物を2リツトルの氷水に撹拌
混入する。生成物を吸引濾別し、水で注意深く洗浄し、
50℃710ミリバールで乾燥し、メタノールより再結
晶させる。182−186℃の融点を有する2−(p−
ヒドロキシフェニルチオ)−4,5,6−トリメチルピ
リミジン128 g (理論量の81%)が得られる。
64モル)を384 mQのN−メチルピロリジン−2
−オンに導入し、窒素下、60°Cで80.6 g(0
,64モル)の4−メルカプトフェノールを滴々添加す
る。ついで、2−クロロ−4,5,6−トリメチルピリ
ミジン100 g (0,64モル)を128 mQの
N−メチルピロリジン−2−オンに入れたものを 10
0°Cで滴々添加する。この反応混合物を100°Cで
3時間、転化の完了が薄層クロマトグラフィーにより測
定されるまで撹拌する。10ミリバールで蒸留して溶媒
の約273を除去し、残留物を2リツトルの氷水に撹拌
混入する。生成物を吸引濾別し、水で注意深く洗浄し、
50℃710ミリバールで乾燥し、メタノールより再結
晶させる。182−186℃の融点を有する2−(p−
ヒドロキシフェニルチオ)−4,5,6−トリメチルピ
リミジン128 g (理論量の81%)が得られる。
以下の化合物は実施例IV−1と同様にして得られる。
実施例 構造 融点CH。
CH。
*)反応温度150°C
実施例Vlll
p−ネオペンチルチオクロロベンゼン42.9 g(0
,2モル)を100 mQアセトンに溶解させ、塩化テ
トラブチルアンモニウム2gと (N H4)zMoo 4100 mgとを200 m
Qの水に入れたものを添加する。約30%強度のH2O
2溶液50 mQ (0,44モル)を添加したのち、
この反応混合物を24時間還流させる。蒸留によりアセ
トンを実質的に除去し、残留物を吸引濾過する。
,2モル)を100 mQアセトンに溶解させ、塩化テ
トラブチルアンモニウム2gと (N H4)zMoo 4100 mgとを200 m
Qの水に入れたものを添加する。約30%強度のH2O
2溶液50 mQ (0,44モル)を添加したのち、
この反応混合物を24時間還流させる。蒸留によりアセ
トンを実質的に除去し、残留物を吸引濾過する。
残留物をシクロヘキサン/酢酸エチル1:1を用いてク
ロマトグラフィーにかける。n−ヘキサンより結晶化さ
せると、融点67°Cの p−ネオペンチルスルホニル
クロロベンゼン25.2 g (理論量の51%)が得
られる。
ロマトグラフィーにかける。n−ヘキサンより結晶化さ
せると、融点67°Cの p−ネオペンチルスルホニル
クロロベンゼン25.2 g (理論量の51%)が得
られる。
純度約85%の粉末水酸化カリウム20.1 g(0,
31モル)を200 mQのグリコールモノメチルエー
テルに導入し、p−クロロチオフェノール43.3 g
(0,3モル)を100 mQのグリコールモノメチ
ルエーテルに溶解させた溶液を窒素下で滴々添加する。
31モル)を200 mQのグリコールモノメチルエー
テルに導入し、p−クロロチオフェノール43.3 g
(0,3モル)を100 mQのグリコールモノメチ
ルエーテルに溶解させた溶液を窒素下で滴々添加する。
この混合物を室温でさらに10分間撹拌し、ついで、融
解 p−トルエンスルホン酸ネオペンチル72.4 g
(0,3モル)を滴々添加する。
解 p−トルエンスルホン酸ネオペンチル72.4 g
(0,3モル)を滴々添加する。
この反応混合物を沸点まで徐々に加熱し、さらに5時間
還流させる。ついで、この混合物を2リツトルの氷水に
注ぎ入れ、生成物を石油エーテルにとり、有機相を硫酸
ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮し、真空中で蒸留する
。62−63°c10.03 ミリバールの沸点を有す
る4−クロロフェニルネオペンチルチオエーテル52.
3 g (理論量の81%)が得られる。
還流させる。ついで、この混合物を2リツトルの氷水に
注ぎ入れ、生成物を石油エーテルにとり、有機相を硫酸
ナトリウムを用いて乾燥し、濃縮し、真空中で蒸留する
。62−63°c10.03 ミリバールの沸点を有す
る4−クロロフェニルネオペンチルチオエーテル52.
3 g (理論量の81%)が得られる。
使用実施例
実施例 A
発芽後試験
溶剤: 5重量部のアセトン
乳化剤= 1重量部のアルキルアリールポリグリコール
エーテル 活性化合物の適当な配合液を作るには、1重量部の活性
化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を添加
し、この濃厚液を水で所望の濃度に希釈する。
エーテル 活性化合物の適当な配合液を作るには、1重量部の活性
化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量の乳化剤を添加
し、この濃厚液を水で所望の濃度に希釈する。
草丈5−15 cmの試験植物に活性化合物の配合液を
、単位面積あたりに特定量の所望の活性化合物が適用さ
れるような方法でスプレーする。スプレー液の濃度は特
定量の所望の活性化合物がlヘクタールあたり 2,0
00 Qの水で適用されるように選択する。3週間後、
植物の損傷の程度を未処理対照例の成長と比較して、%
損傷率で測定する。数字は次の意味を表す。
、単位面積あたりに特定量の所望の活性化合物が適用さ
れるような方法でスプレーする。スプレー液の濃度は特
定量の所望の活性化合物がlヘクタールあたり 2,0
00 Qの水で適用されるように選択する。3週間後、
植物の損傷の程度を未処理対照例の成長と比較して、%
損傷率で測定する。数字は次の意味を表す。
0%=作用なしく未処理対照例と同様)100%=全数
枯死 この試験において、たとえば製造実施例L 4.6.1
1.39.45.48.57.58.69.71.73
.85.89.93.96.99.107.109.1
20および143に記載した化合物が、単子葉雑草およ
び双子葉雑草に対して極めて良好な除草作用を示し、同
時に栽培植物、特にコムギにより極めて良好な許容性が
示される。
枯死 この試験において、たとえば製造実施例L 4.6.1
1.39.45.48.57.58.69.71.73
.85.89.93.96.99.107.109.1
20および143に記載した化合物が、単子葉雑草およ
び双子葉雑草に対して極めて良好な除草作用を示し、同
時に栽培植物、特にコムギにより極めて良好な許容性が
示される。
さらに、この試験において、たとえば製造実施例2記載
の化合物が雑草、たとえばサトウダイコン中のヒュ、ガ
リンソガまたはミチヤナギに対して極めて良好な選択活
性を示す。
の化合物が雑草、たとえばサトウダイコン中のヒュ、ガ
リンソガまたはミチヤナギに対して極めて良好な選択活
性を示す。
実施例 B
溶剤:30重量部のジメチルホルムアミド乳化剤= 1
重量部のポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート 活性化合物の適当な配合液を作るには、1重量部の活性
化合物を上記量の溶剤および乳化剤と混合し、この混合
物を水で所望の濃度に仕上げる。
重量部のポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート 活性化合物の適当な配合液を作るには、1重量部の活性
化合物を上記量の溶剤および乳化剤と混合し、この混合
物を水で所望の濃度に仕上げる。
ワタの苗を温室内で、5枚目の本葉が完全にひろがるま
で成育させる。この段階で、この苗に活性化合物の配合
液を液滴がしたたるほど濡れるまでスプレーする。1週
間後、葉の脱落と葉の脱水とを対照例の植物と比較して
測定する。
で成育させる。この段階で、この苗に活性化合物の配合
液を液滴がしたたるほど濡れるまでスプレーする。1週
間後、葉の脱落と葉の脱水とを対照例の植物と比較して
測定する。
成果の記号は以下の意味を有する。
0は葉の脱水なし、葉の脱落なしを表
し、
+は葉の僅かな脱水、葉の僅かな脱落
を表し、
++は葉の深刻な脱水、葉の深刻な脱落を表し、
+++ は葉の極めて深刻な脱水、葉の極めて深刻な脱
落を表す。
落を表す。
この試験において、たとえば製造実施例4.6および8
9に記載した化合物が、未処理対照例との比較で明らか
な活性を示す。
9に記載した化合物が、未処理対照例との比較で明らか
な活性を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1、R^2およびR^3は相互に独立に、いずれも
水素またはアルキルを表し、 Aは−CH基または窒素原子を表し、 Bはハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 アルキル、アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲ
ノアルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 nは数0、1、2、3または4を表し、 Xは酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホ ニルを表し、 Yは基▲数式、化学式、表等があります▼または基▲数
式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^4およびR^5は相互に独立に、いずれも水素、ア
ルキル、アルコキシアルキルまたはハロゲノアルキルを
表し、 R^6およびR^7はいずれもアルキルを表す)を表し
、 Zは基▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式
、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R^■、R^1^3およびR^1^4は相互に独立に水
素、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表し
、 R^3は水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アル
コキシアルキル、アルキルチオまたはハロゲノアルキル
を表し、 R^1^0水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル、
アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、アル
キルチオアルキル、ニトリルアルキル、アルキルカルボ
ニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、ホル
ミル、アルケニル、アルキニル、ハロゲノアルキル、ハ
ロゲノアルケニル、ハロゲノアルキニル、アミノ、アル
キルアミノ、ジアルキルアミノ、アミノ−もしくはアル
キルアミノ−置換アルキル、アルキルおよび/またはハ
ロゲンにより置換されていることもあるシクロアルキル
;開鎖のもしくは環状のアセタールまたは開鎖のもしく
は環状のチオアセタールを表すか、 または、 R^9とR^1^0とが、その結合している炭素原子と
ともに、環形成員として炭素以外に酸素および/または
硫黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ
基を含有していてもよく、そしてハロゲン、アルキル、
アルコキシおよび/またはアルコキシアルキルにより置
換されていてもよく、1個または2個 以上の二重結合を含有していてもよい3−8員の環を形
成しているか、 または、 R^8、R^9およびR^1^0がその結合している炭
素原子とともに ▲数式、化学式、表等があります▼ の構造の飽和の、または不飽和の基を表し、Eは酸素ま
たは硫黄を表し、 R^1^1およびR^1^2は相互に独立に水素、ハロ
ゲン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表す) を表す、 但し、 R^1およびR^3がメチルを表し、R^2が水素を表
し、Aが窒素を表し、Xが酸素を表 し、nが0を表すならば、 YとZとで基 −C_2H_5、n−C_3H_7、イソ−C_3H_
7、n−C_4H_9、イソ−C_4H_9、n−C_
5H_1_1、イソ−C_5H^1^1、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、n−C_5H_1
_7、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、n−C_5H_1
_7、 −CH_2CH_2CH_2Cl−CH_2CH_2C
H_2I、−CH_2−CH=CH_2、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、および −(CH_2)_4−CH=CH_2を表すことはない
、の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類。 2、式中の、 R^1、R^2およびR^3が相互に独立に、いずれも
水素またはC_1−C_4−アルキルを表し、Aが−C
H基または窒素原子を表し、 Bがハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 C_1−C_4−アルキル、C_1−C_4−アルコキ
シ、ハロゲノ−C_1−C_4−アルキルまたはハロゲ
ノ−C_1−C_4−アルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 nが数0、1、2、3または4を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホ ニルを表し、 Yが基▲数式、化学式、表等があります▼または基▲数
式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^4およびR^5は相互に独立に、いずれも水素、C
_1−C_4−アルキル、C_1−C_4−アルコキシ
−C_1−C_4−アルキルまたはハロゲノ−C_1−
C_4−アルキルを表し、 R^6およびR^7は相互に独立に、いずれもメチルま
たはエチルを表す) を表し、 Zが基▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R^8、R^1^3およびR^1^4は相互に独立に水
素、ハロゲン、C_1−C_4−アルキルまたはハロゲ
ノ−C_1−C_4−アルキルを表し、 R^9は水素、ハロゲン、C_1−C_■−アルキル、
C_1−C_6−アルコキシ、C_1−C_4−アルコ
キシ−C_1−C_4−アルキル、C_1−C_4−ア
ルキルチオまたはハロゲノ−C_1−C_4−アルキル
を表し、R^1^0は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、
C_1−C_6−アルキル、C_1−C_6−アルコキ
シ、C_1−C_4−アルコキシ−C_1−C_6−ア
ルキル、C_1−C_■−アルキルチオ、C_1−C_
■−アルキルチオ−C_1−C_6−アルキル、ニトリ
ロ−C_1−C_■−アルキル、C_1−C_■−アル
キルカルボニル、C_1−C_6−アルコキシカルボニ
ル、アミノカルボニル、ホルミル、C_2−C_■−ア
ルケニル、C_2C_■−アルキニル、ハロゲノ−C_
1−C_5−アルキル、ハロゲノ−C_2−C_6−ア
ルケニル、ハロゲノ−C_2−C_6−アルキニル、ア
ミノ、C_1−C_4−アルキルアミノ、ジ−C_1−
C_4−アルキルアミノ、アミノ−もしくはC_1−C
_4−アルキルアミノ−置換C_1−C_4−アルキル
;メチル、エチルおよび/またはハロゲンにより置換さ
れていることもある3ないし6個の炭素原子を有するシ
クロ アルキル;開鎖のアセタール、5もしくは6個の環形成
員を有する環状アセタール、開鎖のチオアセタールまた
は、5もしくは6個 の環形成員を有する環状チオアセタールを表すか、 または、 R^9とR^1^0とが、その結合している炭素原子と
ともに、環形成員として炭素以外に酸素および/または
硫黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ
基を含有していてもよく、そしてフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素、C_1−C_4−アルキル、C_1−C_4−
アルコキシおよび/またはC_1−C_4−アルコキシ
−C_1−C_4−アルキルにより置換されていてもよ
く、さらに1個または2個以上の二重結合を含有してい
てもよい5員または6員の環を形成して いるか、または、 R^8、R^9およびR^1^0がその結合している炭
素原子とともに ▲数式、化学式、表等があります▼ の構造の飽和の、または−不飽和の基を表し、Eは酸素
または硫黄を表し、 R^1^1およびR^1^2は相互に独立に水素、ハロ
ゲン、C_1−C_6−アルキルまたはハロゲノC_1
−C_6−アルキルを表す) を表す、但し、 R^1およびR^3がメチルを表し、R^2が水素を表
し、Aが窒素を表し、Xが酸素を表 し、nが0を表すならば、 YとZとで基 −C_2H_5、n−C_3H_7、イソ−C_3H_
7、n−C_4H_9、イソ−C_4H_9、n−C_
5H_1_1、イソ−C_5H_1_1、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、n−C_6H_1
_3、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼n−C_8H_1_
7、 −CH_2CH_2CH_2Cl、−CH_2CH_2
CH_2I、−CH_2−CH=CH_2、▲数式、化
学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼および −(CH_2)_4−CH=CH_2を表すことはない
、ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の式(
I )の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類。 3、式中の、 R^1およびR^3がメチルを表し、 R^2が水素を表し、 Aが窒素を表し、 nが0を表し、 Xが酸素を表し、 Yが基▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^4は水素、メチル、エチル、n−もしくはイソプロ
ピル、n−、イソ、第2もしくは第3ブチル、メトキシ
メチル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエトキ
シエチルを表す)を表し、 Zは基▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式
、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^8およびR^9は相互に独立にメチル、エチル、n
−もしくはイソ−プロピルまたはn−、イソ−、第2−
もしくは第3−ブチルを表し、R^1^0はメチル、エ
チル、n−もしくはイソ−プロピル、n−、イソ−、第
2−もしくは第3−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−
もしくはイソ−プロボキシ、n−、イソ−、第2−もし
くは第3−ブトキシ、ハロゲノ−C_1−C_4−アル
キル、C_1−C_4−アルコキシ−C_1−C_4−
アルキルまたはC_1−C_4−アルキルチオ−C_1
−C_4−アルキルを表し、かつ、 (A)R^1^5、R^1^6およびR^1^7が相互
に独立にメチル、エチル、n−もしくはイソプロピル、
n−、イソ−、第2−もしくは第3−ブチル、メトキシ
、エトキシ、n−もしくはイソ−プロボキシを表すか、
または、 (B)R^1^5およびR^1^6が相互に独立に水素
、メチル、エチル、n−もしくはイソ−プロピル、n−
、イソ−、第2−もしくは第3−ブチル、メトキシ、エ
トキシ、n−もしくはイソ−プロボキシ、n−、イソ−
、第2−もしくは第3−ブトキシ、メチルチオ、エチル
チオ、n−もしくはイソ−プロピルチオ、n−、イソ−
、第2−もしくは第3−ブチルチオを表し、R^1^7
がメトキシ、エトキシ、n−もしくはイソ−プロボキシ
、n−、イソ−、第2−もしくは第3−ブトキシ、メチ
ルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソ−プロピルチオ
、n−、イソ−、第2−もしくは第3−ブチルチオを表
すか、または、 (C)R^1^5が水素、メチル、エチル、n−もしく
はイソ−プロピル、n−、イソ−、第2−もしくは第3
−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはイソ−プ
ロボキシ、メチルチオ、エチルチオ、n−もしくはイソ
−プロピルチオを表し、 R^1^6およびR^1^7がその結合している炭素原
子とともに、いずれもメチル、フッ素および/または塩
素により置換されているシクロプロピル、シクロペンチ
ルまたはシクロヘキシルを表す) を表す ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の式( I
)の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類。 4、式中の、 R^1、R^2およびR^3が相互に独立に、いずれも
水素、メチルまたはエチルを表す、但しR^2が水素を
表し、Aが窒素を表し、Xが酸素を表し、nが0を表す
ならば、R^1とR^3とが同時にメチルを表すことは
なく、Aが−CH基または窒素原子を表し、 Bがハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、ハロゲノ−C_
1−C_2−アルキルまたはハロゲノ−C_1−C_2
−アルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 nが数0、1または2を表し、 Xが酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホ ニルを表し、 Yが基▲数式、化学式、表等があります▼または基▲数
式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^4およびR^5は相互に独立に、いずれも水素、メ
チル、エチル、メトキシメチル、メトキシエチル、エト
キシメチル、エトキシエチルまたはハロゲノ−C_1−
C_2−アルキルを表し、 R^6およびR^7はいずれもメチルを表す)を表し、 Zが基▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化
学式、表等があります▼、 または▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R^8、R^1^3およびR^1^4は相互に独立に水
素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C_1−C_4−ア
ルキルまたはハロゲノ−C_1−C_4−アルキルを表
し、 R^9は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、C_1−
C_4−アルキル、C_1−C_4−アルコキシ、C_
1−C_4−アルコキシ−C_1−C_4−アルキル、
C_1−C_4−アルキルチオまたはハロゲノ−C_1
−C_4−アルキルを表し、 R^1^0は水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、ヒド
ロキシル、C_1−C_5−アルキル、C_1−C_5
−アルコキシ、C_1−C_4−アルコキシ−C_1−
C_4−アルキル、C_1−C_4−アルキルチオ、C
_1−C_4−アルキルチオ−C_1−C_4−アルキ
ル、ニトリロ−C_1−C_4−アルキル、C_1−C
_4−アルキルカルボニル、アミノカルボニル、ホルミ
ル、C_2−C_5−アルケニル、C_2−C_4−ア
ルキニル、ハロゲノ−C_1−C_4−アルキル、ハロ
ゲノ−C_2−C_4−アルケニル、ハロゲノ−C_2
−C_4−アルキニル、アミノ、C_1−C_2−アル
キルアミノ、ジ−C_1−C_2−アルキルアミノ;メ
チル、フッ素および/または塩素により置換されている
こともあるシクロプロピル、シクロペンチルもしくはシ
クロヘキシル;開鎖のアセタール、5もしくは6個の環
形成員を有する環状アセター ル、開鎖のチオアセタールまたは5もしく は6個の環形成員を有する環状チオアセタ ールを表すか、 または、 R^9とR^1^0とが、その結合している炭素原子と
ともに、環形成員として炭素以外に酸素および/または
硫黄および/または窒素を含有していてもよく、オキソ
基を含有していてもよく、そしてフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メトキ
シメチル、メトキシエチル、エトキシメチルまたはエト
キシエチルにより置換されていてもよく、さらに1個ま
たは2個以上の二 重結合を含有していてもよい5員または6 員の環を形成しているか、 または、 R^8、R^9およびR^1^0がその結合している炭
素原子とともに ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
式、表等があります▼ の構造の基を表し、 Eは酸素または硫黄を表し、 R^1^1およびR^1^2は相互に独立に、水素、ハ
ロゲン、C_1−C_2−アルキルまたはハロゲノ−C
_1−C_2−アルキルを表す) を表す ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の式( I
)の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類。 5、A)式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、 R^4およびR^5は相互に独立に、いずれも水素、ア
ルキル、アルコキシアルキルまたはハロゲノアルキルを
表し、 Bはハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 アルキル、アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲ
ノアルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 Xは酸素、硫黄、スルホキシまたはスルホ ニルを表し、 Zは基▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式
、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 Dは炭素またはケイ素を表し、 R^8、R^1^3およびR^1^4は相互に独立に水
素、ハロゲン、アルキルまたはハロゲノア ルキルを表し、 R^9は水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アル
コキシアルキル、アルキルチオ またはハロゲノアルキルを表し、 R^1^0は水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルキル
、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオ、ア
ルキルチオアルキル、ニ トリロアルキル、アルキルカルボニル、ア ルコキシカルボニル、アミノカルボニル、 ホルミル、アルケニル、アルキニル、ハロ ゲノアルキル、ハロゲノアルケニル、ハロ ゲノアルキニル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキル
アミノ、アミノ−もしくはアル キルアミノ−置換アルキル、アルキルおよび/またはハ
ロゲンにより置換されているこ ともあるシクロアルキル;開鎖のもしくは 環状のアセタールまたは開鎖のもしくは環 状のチオアセタールを表すか、 または、 R^9とR^1^0とが、その結合している炭素原子と
ともに、環形成員として炭素以外に 酸素および/または硫黄および/または窒 素を含有していてもよく、オキソ基を含有 していてもよく、そしてハロゲン、アルキ ル、アルコキシおよび/またはアルコキシ アルキルにより置換されていてもよく、さ らに1個または2個以上の二重結合を含有 していてもよい3−8員の環を形成してい るか、 または、 R^8、R^9およびR^1^0がその結合している炭
素原子とともに ▲数式、化学式、表等があります▼ の構造の飽和の、または不飽和の基を表し、Eは酸素ま
たは硫黄を表し、 R^1^1およびR^1^2は相互に独立に水素、ハロ
ゲン、アルキルまたはハロゲノアルキルを表す) を表し、 nは数0、1、2、3または4を表す、 のチオフェノール誘導体を式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、 R^1、R^2およびR^3は相互に独立に、いずれも
水素またはアルキルを表し、 Aは−CH基または窒素原子を表し、 R^1^5はハロゲン、C_1−C_4−アルキルスル
ホニル、フェニルスルホニルまたは置換フェニルスルホ
ニルを表す のピリ(ミ)ジル誘導体と、希釈剤の存在下に、かつ、
酸結合剤の存在下に反応させるか、または、B)式(I
V) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 式中、 A、B、R^1、R^2、R^3およびnは上記の意味
を有し、 X^1は酸素または硫黄を表す のピリ(ミ)ジルチオ−(チオ)フェノールを式(V)
G−Y−Z(V) 式中、 Zは上記の意味を有し、 Yは基▲数式、化学式、表等があります▼または基▲数
式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^4およびR^5は上記の意味を有し、 R^6およびR^7はいずれもアルキルを表す)を表し
、 Gはハロゲン、C_1〜C_4−アルキルスルホニルオ
キシ、ハロゲノ−C_1〜C_4−アルキルスルホニル
オキシ、フェニルスルホニルオキシ、又は置換されたフ
ェニルスルホニルオキシを表わす、 の化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、適宜に酸結合剤
の存在下に反応させるか、または、 C)式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 式中、 R^1、R^2、R^3およびAは上記の意味を有する の化合物を式(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 式中、 B、Y、Zおよびnは上記の意味を有し、 Halはハロゲンを表す の化合物と、希釈剤の存在下に、かつ、適宜に酸結合剤
の存在下に反応させる、 ことを特徴とする式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、 R^1、R^2、R^3、A、B、X、Y、Zおよびn
は上記の意味を有する、但し R^1およびR^3がメチルを表し、R^2が水素を表
し、Aが窒素を表し、Xが酸素を表 し、nが0を表すならば、 YとZとで基 −C_2H_5、n−C_3H_7、イソ−C_3H_
7、n−C_4H_9、イソ−C_4H_9、n−C_
5H_1_1、イソ−C_5H_1_1、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、n−C_6H_1
_3、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、n−C_8H_1
_7、 −CH_2CH_2CH_2Cl、−CH_2CH_2
CH_2I、−CH_2−CH=CH_2、▲数式、化
学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、および −(CH_2)_6−CH=CH_2を表すことはなく
、Gはハロゲン、C_1−C_4−アルキルスルホニル
オキシ、ハロゲノ−C_1−C_4−アルキルスルホニ
ルオキシ、フェニルスルホニルオキシまたは置換フェニ
ルスルホニルオキシを表す、の2−ピリ(ミ)ジルチオ
アリールエーテルの製造方法。 6、特許請求の範囲第1ないし第5項記載の式( I )
の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類を少なく
とも1種含有することを特徴とする除草剤および植物成
長調節剤。 7、特許請求の範囲第1ないし第5項記載の式( I )
の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類を雑草お
よび/またはその環境に作用させることを特徴とする雑
草防除方法。 8、特許請求の範囲第1ないし第5項記載の式( I )
の2−ピリ(ミ)ジルチオアリールエーテル類の雑草防
除用の、および/または植物成長調節剤としての使用。 9、式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) 式中、 R^4およびR^5は相互に独立に水素、アルキル、ア
ルコキシアルキルまたはハロゲノアルキルを表し、 X^2は酸素または硫黄を表し、 Zは基▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、 R^8^−^1はアルキルを表し、 R^9^−^1はアルキル、アルコキシ、アルコキシア
ルキル、アルキルチオまたはハロゲノアルキルを表し、 R^1^0^−^1はアルキルを表す) を表し、 Bはハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 アルキル、アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲ
ノアルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 nは数0、1、2、3または4を表す のチオフェノール誘導体。 10、式(IVa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IVa) 式中、 R^1R^2およびR^3は相互に独立に、いずれも水
素またはアルキルを表し、 Aは−CH基または窒素原子を表し、 Bはハロゲン、ニトロ、シアノ、アミノ、 アルキル、アルコキシ、ハロゲノアルキルまたはハロゲ
ノアルコキシを表し、 このBは同一であっても異なっていてもよ く、 nは数0、1、2、3または4を表し、 X^1は酸素または硫黄を表す、但し Aが−CH基を表す場合にはR^1、R^2およびR^
3が同時に水素を表すことはなく、かつ、化合物4−(
4,6−ジメチル−2−ピリミジルチオ)−フェノール
を除外する の化合物。 11、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物。
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| JP2017505765A (ja) * | 2014-01-17 | 2017-02-23 | バレント・バイオサイエンシーズ・コーポレイションValent Biosciences Corporation | S−ベンジルチオウラシル化合物および植物根の成長の促進方法 |
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