JPS63197937A - 塗布性が改良された写真感光材料 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 3
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract description 3
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract description 3
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract description 3
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims abstract description 3
- 125000005209 triethanolammonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical group CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 52
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 50
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 40
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 6
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract 1
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 28
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 12
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 12
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 12
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 12
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 5
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000001177 diphosphate Substances 0.000 description 3
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical class [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 2
- 229940101006 anhydrous sodium sulfite Drugs 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N benalaxyl-M Chemical compound CC=1C=CC=C(C)C=1N([C@H](C)C(=O)OC)C(=O)CC1=CC=CC=C1 CJPQIRJHIZUAQP-MRXNPFEDSA-N 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- BHOCTMHUVQJYHN-UHFFFAOYSA-N 1-aminoethyl dihydrogen phosphate Chemical class CC(N)OP(O)(O)=O BHOCTMHUVQJYHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHGVUZXYUVCIHT-UHFFFAOYSA-N 2-(n-ethyl-3-methylanilino)ethanol;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OCCN(CC)C1=CC=CC(C)=C1 MHGVUZXYUVCIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 241000594009 Phoxinus phoxinus Species 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical class [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- UMEAURNTRYCPNR-UHFFFAOYSA-N azane;iron(2+) Chemical compound N.[Fe+2] UMEAURNTRYCPNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound [CH]1C=CC=C2N=NN=C21 BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 1
- KYQODXQIAJFKPH-UHFFFAOYSA-N diazanium;2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O KYQODXQIAJFKPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXFZAZQUMXZWJV-UHFFFAOYSA-N diazanium;phosphono phosphate Chemical compound [NH4+].[NH4+].OP(O)(=O)OP([O-])([O-])=O AXFZAZQUMXZWJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQBBRRVRKFJRG-UHFFFAOYSA-L disodium pyrophosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])(=O)OP(O)([O-])=O GYQBBRRVRKFJRG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(O)=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940071106 ethylenediaminetetraacetate Drugs 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogen phosphate Chemical compound [Na+].OP(O)([O-])=O AJPJDKMHJJGVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- NHQVTOYJPBRYNG-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,7-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(C(C)C)=CC=C21 NHQVTOYJPBRYNG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000004886 thiomorpholines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- HERBOKBJKVUALN-UHFFFAOYSA-K trisodium;2-[bis(carboxylatomethyl)amino]acetate;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O HERBOKBJKVUALN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/38—Dispersants; Agents facilitating spreading
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真感光材料に関し、特に新規な塗布助剤を用
いて塗布性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料に関
する。
いて塗布性が改良されたハロゲン化銀写真感光材料に関
する。
一般に写真感光材料の支持体としては、a砒素エステル
またはポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート等の合成高分子物質または硝子、紙もし
くはポリミーオレフィンで被覆した紙等が用いられる。
またはポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレン
テレフタレート等の合成高分子物質または硝子、紙もし
くはポリミーオレフィンで被覆した紙等が用いられる。
これらの支持体上にハロゲン化ffl ?L乳剤層直接
または下引層を介して塗布されている。また、多くの感
光材料は同種または異種表面との接触によるくっつきや
スリ傷を防止するために写真乳剤層の上に保護層が塗布
される。また染料、帯電防止剤、硬膜剤、カプラー、ハ
レーシ1ン防止剤等の種々の添加剤を含むゼラチンもし
くは他の親水性コロイドまたはビニルポリマーラテック
スからなる塗布層、例えばハレーシタン防止層、フィル
タ一層、中間層、アンチスタチック層等が設けられる。
または下引層を介して塗布されている。また、多くの感
光材料は同種または異種表面との接触によるくっつきや
スリ傷を防止するために写真乳剤層の上に保護層が塗布
される。また染料、帯電防止剤、硬膜剤、カプラー、ハ
レーシ1ン防止剤等の種々の添加剤を含むゼラチンもし
くは他の親水性コロイドまたはビニルポリマーラテック
スからなる塗布層、例えばハレーシタン防止層、フィル
タ一層、中間層、アンチスタチック層等が設けられる。
このように多くの親木性有機コロイド層から形成される
写真感光材料の製造に際しては、これらの塗布液を全面
に均一の厚さに塗布することが極めて重要である。
写真感光材料の製造に際しては、これらの塗布液を全面
に均一の厚さに塗布することが極めて重要である。
しかしながら、実際にはしばしば縦ムラ、横ムラあるい
はハジキ、コメ7トと呼ばれる局部的塗布故障、更には
ヨリ、カケと呼ばれる塗布面の周辺に塗布液が寄って厚
くなったり、逆に退いて薄くなったりする不均一塗布を
生じ易い、そのため従来から各種塗布液の塗布助剤とし
て天然または合成の界面活性Mが用いられてきた。
はハジキ、コメ7トと呼ばれる局部的塗布故障、更には
ヨリ、カケと呼ばれる塗布面の周辺に塗布液が寄って厚
くなったり、逆に退いて薄くなったりする不均一塗布を
生じ易い、そのため従来から各種塗布液の塗布助剤とし
て天然または合成の界面活性Mが用いられてきた。
天然のものとして例えばサポニンは、写真工業に広範に
利用されてきたが、泡立ち易いこと、品質の変動が大き
く、しかも界面活性能も低い等の欠点があった。また、
合成界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、N−フルキルタウリンのナトリウム
塩、スルホコハク酸エステル、特公昭47−9037号
、同48−43130号、独国公開特許1,950,1
21号、同1,961,638号に開示される弗素化界
面活性剤等のアニオン、ノニオン、カチオンおよび両性
の界面活性剤が数多(あるが、これらは特定の写真用塗
布液にのみ良い結果番与えたり、塗布性能が不十分だっ
たり、写真特性に悪影響を与えたりするために、実用に
供されるのは限られた界面活性剤だけである。更に、そ
れらの有用な界面活性剤でも、支持体上に写真用塗布液
を単N塗布する場合には、支持体に対するヌレやムラ防
止にかなりの効果を与えるが、支持体上に複数の写真用
塗布液を重層塗布する場合には不均一塗布を招き易くな
り、重層塗布に有効に供される界面活性剤は更に厳選さ
れた極めて少数のものとなってしまう、単に支持体上に
写真用塗布液を単層塗布する場合に比べて、支持体上の
塗布直後の層あるいは塗布乾燥した層の上に、更に少な
くとも1つの写真用塗布液を重層塗布する場合および特
に2種以上の写真用塗布液を同時に重Ni塗布する場合
の困難性は、塗布層間の表面張力、粘度、親水性コロイ
ド含有量、塗布量、塗布方式および塗布条件(温度、湿
度など)等の物理的、化学的性質の僅かな相違でも微妙
に影響するためと考えられる。
利用されてきたが、泡立ち易いこと、品質の変動が大き
く、しかも界面活性能も低い等の欠点があった。また、
合成界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム、N−フルキルタウリンのナトリウム
塩、スルホコハク酸エステル、特公昭47−9037号
、同48−43130号、独国公開特許1,950,1
21号、同1,961,638号に開示される弗素化界
面活性剤等のアニオン、ノニオン、カチオンおよび両性
の界面活性剤が数多(あるが、これらは特定の写真用塗
布液にのみ良い結果番与えたり、塗布性能が不十分だっ
たり、写真特性に悪影響を与えたりするために、実用に
供されるのは限られた界面活性剤だけである。更に、そ
れらの有用な界面活性剤でも、支持体上に写真用塗布液
を単N塗布する場合には、支持体に対するヌレやムラ防
止にかなりの効果を与えるが、支持体上に複数の写真用
塗布液を重層塗布する場合には不均一塗布を招き易くな
り、重層塗布に有効に供される界面活性剤は更に厳選さ
れた極めて少数のものとなってしまう、単に支持体上に
写真用塗布液を単層塗布する場合に比べて、支持体上の
塗布直後の層あるいは塗布乾燥した層の上に、更に少な
くとも1つの写真用塗布液を重層塗布する場合および特
に2種以上の写真用塗布液を同時に重Ni塗布する場合
の困難性は、塗布層間の表面張力、粘度、親水性コロイ
ド含有量、塗布量、塗布方式および塗布条件(温度、湿
度など)等の物理的、化学的性質の僅かな相違でも微妙
に影響するためと考えられる。
近年、写真感光材料は量産化の要求に伴い、従来以上の
塗布スピード、例えば毎分50閣以上のスピードで塗布
されるものも多く、毎分100−以上のスピードで塗布
されるものも珍らしくない、このような高速塗布におい
ては、従来以上に塗布障害が生じ易い、更に、写真性能
および処理性向上のための薄膜化の要請も益々強く、薄
膜高速塗布において、より一層の塗布性改良が望まれる
。
塗布スピード、例えば毎分50閣以上のスピードで塗布
されるものも多く、毎分100−以上のスピードで塗布
されるものも珍らしくない、このような高速塗布におい
ては、従来以上に塗布障害が生じ易い、更に、写真性能
および処理性向上のための薄膜化の要請も益々強く、薄
膜高速塗布において、より一層の塗布性改良が望まれる
。
本発明の第1の目的は、ゼラチンまたは他の親水性コロ
イド溶液を支持体または他の写真層の上に塗布するに際
し、写真性能を損ねることなくノ1ジキ防止、均一性等
塗布性が改良された写真感光材料を提供することにある
。
イド溶液を支持体または他の写真層の上に塗布するに際
し、写真性能を損ねることなくノ1ジキ防止、均一性等
塗布性が改良された写真感光材料を提供することにある
。
本発明の第2の目的は、泡、ハジキその他の塗布故障な
く、高速薄膜塗布された写真感光材料を一提供すること
にある。
く、高速薄膜塗布された写真感光材料を一提供すること
にある。
本発明の上記目的は、写真感光材料の親木性有機コロイ
ド塗布層に下記一般式(r)で表される化合物を含有せ
しめることにより達成された。
ド塗布層に下記一般式(r)で表される化合物を含有せ
しめることにより達成された。
一般式(1)
式中、Rはカプリル基、ラウリル基、ミリスチル基、パ
ルミチル基、ステアリル基またはオレイル基を表し、A
は水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基、アリー
ル基または−C112CI+2Or’0(ON)2基を
表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム
基またはトリエタノールアンモニウム基を表す。
ルミチル基、ステアリル基またはオレイル基を表し、A
は水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基、アリー
ル基または−C112CI+2Or’0(ON)2基を
表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム
基またはトリエタノールアンモニウム基を表す。
以下、本発明をより具体的に説明する。
本発明に用いられる新規の塗布助剤はN−(3−アルコ
キシ−2−ヒドロキシプロピル)−N−置換または未置
換アミノエタノール燐酸エステル塩お上びN−(3−ア
ルコキシ−2−ヒドロキシプロピル)ジェタノールアミ
ン燐酸エステル塩から選ばれる界面活性剤である。
キシ−2−ヒドロキシプロピル)−N−置換または未置
換アミノエタノール燐酸エステル塩お上びN−(3−ア
ルコキシ−2−ヒドロキシプロピル)ジェタノールアミ
ン燐酸エステル塩から選ばれる界面活性剤である。
一般式〔■〕において、Aで表される炭素原子数1〜1
2のアルキル基としては、直鎖でも分岐でもよく、また
置換基を有していてもよい。具体的にはメチル、エチル
、2−クロロエチル、3−ニトロプロビル、t−ブチル
、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル等の基が挙
げられる。Aで表されるアリール基としては、フェニル
基、ナフチル基が挙げられ、これらの基は置換基を有し
ていてもよい。具体的にはフェニル、トリル、p−メチ
ルスルホンアミドフェニル、I−ニトロフェニル等の基
が挙げられる0M″C表されるアルカリ金JK/X子と
しては、好ましくはナトリウム、カリツム原子である。
2のアルキル基としては、直鎖でも分岐でもよく、また
置換基を有していてもよい。具体的にはメチル、エチル
、2−クロロエチル、3−ニトロプロビル、t−ブチル
、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシル等の基が挙
げられる。Aで表されるアリール基としては、フェニル
基、ナフチル基が挙げられ、これらの基は置換基を有し
ていてもよい。具体的にはフェニル、トリル、p−メチ
ルスルホンアミドフェニル、I−ニトロフェニル等の基
が挙げられる0M″C表されるアルカリ金JK/X子と
しては、好ましくはナトリウム、カリツム原子である。
以下に本発明に用いる一般式〔I〕で表される化合物(
以下、本発明の化合物という)の代表的具体例を示すが
、本発明はこれに限定されない。
以下、本発明の化合物という)の代表的具体例を示すが
、本発明はこれに限定されない。
(化合物例)
1、N−(3−ラウロキシ−2−ヒドロキシプロピル)
−N−メチルアミノエタ/−ル燐酸エステル1ナトリウ
ム塩 2、N−(3−ラウaキシ−2−ヒドロキシプロピル)
−N−プロピルアミノエタノール燐酸エステル1トリエ
タノールアミン塩 3、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル)
−N−メチルアミノエタノール燐酸エステル1アンモニ
ウム塩 4、N−(3−ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチルアミノエタノール燐酸エステル1ナトリ
ツム塩 5、N−(3−ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−オクチルアミノエタノール燐酸エステル1カリ
ウム塩 6、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチルアミ/エタノール燐酸エステル1ナトリ
ウム塩 ?、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−フェニルアミ/エタノール燐酸エステル1アン
モニウム塩 8、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチル7ミノエタ/−ル燐酸エステル1六ト鵞
ノウム塩 9、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−ペンタフルオロフェニルアミノエタノール燐酸
エステル1トリエタ/−ル7ミン塩10、 N−(3−
オレイaキシー2−ヒl″aキシプロピル)−N−メチ
ルアミノエタノール燐酸エステル1ナトリウム塩 11、 N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)−N−メチルアミ/エタノール燐酸エステル12
、 N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−2−クロロエチルアミノエタノール燐酸エステ
ル1ナトリウム塩 13、N−(3−ラウロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−t−ブチルアミ/エタノール燐酸エステル1カ
リウム塩 14、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−3−二トロプロピル7ミ/エタノール燐酸エス
テル1アンモニウム塩 15、 N−(3−ミリストキシ−2〜ヒドロキシプロ
ピル)−N−p−メチルスルホンアミドフェニルアミノ
エタノール燐酸エステル1ナトリウム塩18、 N−(
3−2ウロキシ−2−ヒドロキシプロピル)シエタ/−
ル7ミンニ燐酸エステル2ナトリウム恒 17、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)ノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2アンモニウム塩 18、N−(3〜ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ノエタノールアミンニ燐酸エステル2アンモニウム
塩 19、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2トリエタノー
ルアミン塩 20、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキンプロビ
ルンノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2ナトリウム塩 21、N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)クエタノールアミン二燐酸エステル2アンモニウム
塩 22、N−(3−ラウロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)アミノエタ/−ル燐酸エステル1ナトリウム塩本発明
の化合物は、N−(3−アルコキシ−2−ヒドロキシプ
ロピル)−N−置換または未置換アミ/エタノール ま
たはN−(3−フルコキシ−2−ヒドロキシプロピル)
ジェタノールアミンを出発原料として合成することがで
きる。すなわち、これらをベンゼン溶媒中で1〜10倍
のピロ燐酸と室温で2〜10時間反応させて燐酸エステ
ルを得、これを水溶液として塩基を加えρ11を6.O
I:調整した後、減圧濃縮して得られる残漬を分取高速
りaマドグラフィーを用いて精製することにより得られ
る。これについては、特開昭61−93822号、同6
1−149234号に記載される合成法を参考にできる
。
−N−メチルアミノエタ/−ル燐酸エステル1ナトリウ
ム塩 2、N−(3−ラウaキシ−2−ヒドロキシプロピル)
−N−プロピルアミノエタノール燐酸エステル1トリエ
タノールアミン塩 3、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル)
−N−メチルアミノエタノール燐酸エステル1アンモニ
ウム塩 4、N−(3−ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチルアミノエタノール燐酸エステル1ナトリ
ツム塩 5、N−(3−ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−オクチルアミノエタノール燐酸エステル1カリ
ウム塩 6、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチルアミ/エタノール燐酸エステル1ナトリ
ウム塩 ?、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−フェニルアミ/エタノール燐酸エステル1アン
モニウム塩 8、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−メチル7ミノエタ/−ル燐酸エステル1六ト鵞
ノウム塩 9、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−ペンタフルオロフェニルアミノエタノール燐酸
エステル1トリエタ/−ル7ミン塩10、 N−(3−
オレイaキシー2−ヒl″aキシプロピル)−N−メチ
ルアミノエタノール燐酸エステル1ナトリウム塩 11、 N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)−N−メチルアミ/エタノール燐酸エステル12
、 N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−2−クロロエチルアミノエタノール燐酸エステ
ル1ナトリウム塩 13、N−(3−ラウロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−t−ブチルアミ/エタノール燐酸エステル1カ
リウム塩 14、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)−N−3−二トロプロピル7ミ/エタノール燐酸エス
テル1アンモニウム塩 15、 N−(3−ミリストキシ−2〜ヒドロキシプロ
ピル)−N−p−メチルスルホンアミドフェニルアミノ
エタノール燐酸エステル1ナトリウム塩18、 N−(
3−2ウロキシ−2−ヒドロキシプロピル)シエタ/−
ル7ミンニ燐酸エステル2ナトリウム恒 17、N−(3−カプロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)ノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2アンモニウム塩 18、N−(3〜ミリストキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ノエタノールアミンニ燐酸エステル2アンモニウム
塩 19、N−(3−パルミトキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2トリエタノー
ルアミン塩 20、N−(3−ステアロキシ−2−ヒドロキンプロビ
ルンノエタ/−ルアミンニ燐酸エステル2ナトリウム塩 21、N−(3−オシイロキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)クエタノールアミン二燐酸エステル2アンモニウム
塩 22、N−(3−ラウロキシ−2−ヒドロキシプロピル
)アミノエタ/−ル燐酸エステル1ナトリウム塩本発明
の化合物は、N−(3−アルコキシ−2−ヒドロキシプ
ロピル)−N−置換または未置換アミ/エタノール ま
たはN−(3−フルコキシ−2−ヒドロキシプロピル)
ジェタノールアミンを出発原料として合成することがで
きる。すなわち、これらをベンゼン溶媒中で1〜10倍
のピロ燐酸と室温で2〜10時間反応させて燐酸エステ
ルを得、これを水溶液として塩基を加えρ11を6.O
I:調整した後、減圧濃縮して得られる残漬を分取高速
りaマドグラフィーを用いて精製することにより得られ
る。これについては、特開昭61−93822号、同6
1−149234号に記載される合成法を参考にできる
。
本発明の化合物は写真感光材料を構成する親水性コロイ
ド層 (ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィルタ一層、
ハレーシaン防止層、バッキング層、保護NJ等)のい
ずれに添加してもよい。
ド層 (ハロゲン化銀乳剤層、中間層、フィルタ一層、
ハレーシaン防止層、バッキング層、保護NJ等)のい
ずれに添加してもよい。
本発明の化合物は単に塗布助剤として使用されるだけで
なく、疎水性の写真用添加剤、特にカプラー、紫外線吸
収剤の分散助剤(乳化剤)としても有効である。
なく、疎水性の写真用添加剤、特にカプラー、紫外線吸
収剤の分散助剤(乳化剤)としても有効である。
添加量は化合物のNi類、感光材料のHIM、層構成等
により一定でないが塗布液1kg当り1mg〜20gの
範囲で用いるのが好ましく、特に50mg〜5gが好ま
しい、また乳化剤として用いる場合は、水に難溶性の写
真用添加剤に対し0.5〜50重量%が好ましく、特に
1〜10重量%が好ましい。
により一定でないが塗布液1kg当り1mg〜20gの
範囲で用いるのが好ましく、特に50mg〜5gが好ま
しい、また乳化剤として用いる場合は、水に難溶性の写
真用添加剤に対し0.5〜50重量%が好ましく、特に
1〜10重量%が好ましい。
本発明の化合物はisだけを用いても2種以上を用いで
もよく、また本発明の効果を損わない限りにおいて当分
野で公知の界面活性屑を併用することができる。
もよく、また本発明の効果を損わない限りにおいて当分
野で公知の界面活性屑を併用することができる。
本発明の感光材料に用いられるハロゲン化銀乳剤には、
ハロゲン化銀として通常使用される任意のものを用いる
ことがで終る。また、写真乳剤中のハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ分布は任意であるが、単分散であってもよい
。
ハロゲン化銀として通常使用される任意のものを用いる
ことがで終る。また、写真乳剤中のハロゲン化銀粒子の
粒子サイズ分布は任意であるが、単分散であってもよい
。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は、立方体、八面体、1
4面体、12面体のような規則的(regular)な
結晶体を有するものでもよく、また球状、板状などのよ
うな変則的(irregular)な結晶形をもつもの
、あるいはこれらの結晶形の複合形をもつものでもよい
0種々の結晶形の粒子の混合がら成ってもよい。
4面体、12面体のような規則的(regular)な
結晶体を有するものでもよく、また球状、板状などのよ
うな変則的(irregular)な結晶形をもつもの
、あるいはこれらの結晶形の複合形をもつものでもよい
0種々の結晶形の粒子の混合がら成ってもよい。
また、例えばPbOのような酸化物結晶と塩化銀のよう
なハロゲン化銀結晶を結合させた、接合型ハロゲン化銀
結晶、エピタキシャル成長をさせたハロゲン化銀結晶(
例えば臭化銀上に塩化銀、沃臭化銀、沃化銀等をエピタ
キシャルに成長させる。)、大方晶形、正八面体沃化銀
に正六面体の塩化銀が配向重複した結晶などでもよい。
なハロゲン化銀結晶を結合させた、接合型ハロゲン化銀
結晶、エピタキシャル成長をさせたハロゲン化銀結晶(
例えば臭化銀上に塩化銀、沃臭化銀、沃化銀等をエピタ
キシャルに成長させる。)、大方晶形、正八面体沃化銀
に正六面体の塩化銀が配向重複した結晶などでもよい。
また、粒子の直径がその厚みの5倍以上の超平板のハロ
ゲン化銀粒子が全投影面積の50%以上を占めるような
乳剤を使用してもよい、詳しくは、特開昭58−127
921号、同58−113927号などの明細書に記載
されている。
ゲン化銀粒子が全投影面積の50%以上を占めるような
乳剤を使用してもよい、詳しくは、特開昭58−127
921号、同58−113927号などの明細書に記載
されている。
特公昭41−2086号公報に記載された内部潜像型ハ
ロゲン化銀粒子と表面潜像型へログン化銀粒子とを組合
せて用いることもできる。
ロゲン化銀粒子と表面潜像型へログン化銀粒子とを組合
せて用いることもできる。
本発明の実施において、そのハロゲン化銀乳剤中に用い
るハロゲン化銀粒子は、写真分野でよく知られている中
性法、酸性法、アンモニア法、順混合法、逆混合法、ダ
ブルジェット法、コンドロールド・ダブルジェット法、
コンヴアーシBン法、コア/シェル法などの方法を適用
して製造することができる。
るハロゲン化銀粒子は、写真分野でよく知られている中
性法、酸性法、アンモニア法、順混合法、逆混合法、ダ
ブルジェット法、コンドロールド・ダブルジェット法、
コンヴアーシBン法、コア/シェル法などの方法を適用
して製造することができる。
またダブルジェット法の別の形式として異なる組成の可
溶性ハロゲン塩を各々独立に添加するトリプルジェット
法(例えば可溶性銀塩、可溶性臭素塩及び可溶性沃素塩
)も用いることができる。
溶性ハロゲン塩を各々独立に添加するトリプルジェット
法(例えば可溶性銀塩、可溶性臭素塩及び可溶性沃素塩
)も用いることができる。
粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわ
ゆる逆混合法)を用いることもできる。
ゆる逆混合法)を用いることもできる。
同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成され
る液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわち、いわゆ
るコンドロールド・ダブルジェット法を用いることもで
きる。
る液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわち、いわゆ
るコンドロールド・ダブルジェット法を用いることもで
きる。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
用いてもよい。
用いてもよい。
また、これらのハロゲン化銀粒子またはハロゲン化銀乳
剤中には、イリジウム、タリウム、パラジウム、ロジウ
ム、亜鉛、ニッケル、コバルト、ウラン、トリウム、ス
トロンチウム、タングステン、プラチナの塩(可溶性塩
)の内、少なくとも1種類が含有されるのが好ましい。
剤中には、イリジウム、タリウム、パラジウム、ロジウ
ム、亜鉛、ニッケル、コバルト、ウラン、トリウム、ス
トロンチウム、タングステン、プラチナの塩(可溶性塩
)の内、少なくとも1種類が含有されるのが好ましい。
その含有量は、好ましくは1モルAg当1) 10−’
〜10−1モルである。
〜10−1モルである。
特に好ましくは、タリウム、パラジウム、イリジウムの
塩の内の少なくとも1種類が含有されることである。こ
れらは単独でも混合しても用いられ、その添加位置(時
間)は任意である。これにより、閃光露光特性の改良、
圧力減感の防止、潜像退光の防止、増感その他の効果が
期待される。ハロゲン化銀乳剤は、化学増感しても、し
なくてもよい。
塩の内の少なくとも1種類が含有されることである。こ
れらは単独でも混合しても用いられ、その添加位置(時
間)は任意である。これにより、閃光露光特性の改良、
圧力減感の防止、潜像退光の防止、増感その他の効果が
期待される。ハロゲン化銀乳剤は、化学増感しても、し
なくてもよい。
すなわち、硫黄増感、全増感、還元増感、貴金属増感を
単独または組み合わせて用いることができる。
単独または組み合わせて用いることができる。
本発明に用いられる写真乳剤は、メチル色素類その他に
よって分光増感されてもよい、増感色素は単独に用いて
もよいが、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色
素の組み合わせは待に、強色増感の目的でしばしば用い
られる。
よって分光増感されてもよい、増感色素は単独に用いて
もよいが、それらの組み合わせを用いてもよく、増感色
素の組み合わせは待に、強色増感の目的でしばしば用い
られる。
本発明に用いられる写真乳剤には、感光材料の製造工程
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の安定剤、カプ
リ抑制剤を含有させることができる。
、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、あるい
は写真性能を安定化させる目的で、種々の安定剤、カプ
リ抑制剤を含有させることができる。
本発明の感光材料には親水性コロイド層にフィルター染
料として、あるいはイラノエーシ層ン防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を含有してよい。
料として、あるいはイラノエーシ層ン防止、ハレーショ
ン防止その他種々の目的で水溶性染料を含有してよい。
本発明の写真感光材料の写真乳剤層には感度上昇、コン
トラスト上昇、または現像促進の目的で、例えばポリア
ルキレンオキシドまたはそのエーテル、エステル、アミ
ンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルホリン
類、四級アンモニウム塩化合物、ウレタン誘導体、尿素
誘導体、イミグゾール誘導体、3−ピラゾリドン類等を
含んでもよい。
トラスト上昇、または現像促進の目的で、例えばポリア
ルキレンオキシドまたはそのエーテル、エステル、アミ
ンなどの誘導体、チオエーテル化合物、チオモルホリン
類、四級アンモニウム塩化合物、ウレタン誘導体、尿素
誘導体、イミグゾール誘導体、3−ピラゾリドン類等を
含んでもよい。
本発明の感光材料の乳剤層や中間層に用いることのでき
る結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチンを用い
るのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも単独
あるいはゼラチンと共に用いることができる。
る結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチンを用い
るのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも単独
あるいはゼラチンと共に用いることができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水不溶ま
たは難溶性合成ポリマーの分散物を含むことができる。
コロイド層に寸度安定性の改良などの目的で、水不溶ま
たは難溶性合成ポリマーの分散物を含むことができる。
本発明の感光材料には保護層が好ましく設けられるが、
この保wIMは親水性コロイドからなる層である、使用
される親水性コロイドとしては前述したものが用いられ
る。また保vI層は、単層でありでも重層となりでいて
もよい。
この保wIMは親水性コロイドからなる層である、使用
される親水性コロイドとしては前述したものが用いられ
る。また保vI層は、単層でありでも重層となりでいて
もよい。
本発明の感光材料の乳剤層または保護層中に、好ましく
は保護層中にはマット剤及び/または平滑剤などを添加
してもよい。
は保護層中にはマット剤及び/または平滑剤などを添加
してもよい。
本発明の感光材料には、その他必要に応じて種々の添加
剤を用いることができる0例えば、染料、現像促進斉呼
、蛍光増白剤、色カブリ防止剤、紫外線吸収剤などであ
る。具体的には、リサーチ・ディスクロージャー (R
ESEARCI(DISCLOSURE) 176号、
第22〜31頁(RD−17643,1978年)に記
載されたものを用いることができる。
剤を用いることができる0例えば、染料、現像促進斉呼
、蛍光増白剤、色カブリ防止剤、紫外線吸収剤などであ
る。具体的には、リサーチ・ディスクロージャー (R
ESEARCI(DISCLOSURE) 176号、
第22〜31頁(RD−17643,1978年)に記
載されたものを用いることができる。
本発明の感光材料において写真乳剤層その他の層は、感
光材料に通常用いられている可撓性支持体の片面または
両面に塗布されて具体化されることができる。
光材料に通常用いられている可撓性支持体の片面または
両面に塗布されて具体化されることができる。
本発明の感光材料は、具体的にはX−レイ感光材料、リ
ス感光材料、白黒撮影感光材料、カラーネが感光材料、
カラー反転感光材料、カラー印画紙、コロイド・トラン
ス77−・プロセス、銀塩拡散転写プロセス、グイトラ
ンス7アープロセス、銀色素漂白法、プリントアウト感
材、熱現像用感材などに用いることができる。
ス感光材料、白黒撮影感光材料、カラーネが感光材料、
カラー反転感光材料、カラー印画紙、コロイド・トラン
ス77−・プロセス、銀塩拡散転写プロセス、グイトラ
ンス7アープロセス、銀色素漂白法、プリントアウト感
材、熱現像用感材などに用いることができる。
写真像を得るための露光は、通常の方法を用いて行えば
よい。
よい。
本発明の感光材料の写真処理には、例えばリサーチ・デ
ィスクロージャー176号、第25〜30頁(RD−1
7643)に記載されているような、種々の方法及び種
々の処J!!aのいずれをも適用することができる。こ
の写真処理は、目的に応じて、銀画像を形成する写真処
理(黒白写真処理)、あるいは色素像を形成する写真処
理(カラー写真処理)のいずれであってもよい、処理温
度は普通18℃から50°Cの間に選ばれるが、18°
Cより低い温度または50℃を越える温度としてもよい
。
ィスクロージャー176号、第25〜30頁(RD−1
7643)に記載されているような、種々の方法及び種
々の処J!!aのいずれをも適用することができる。こ
の写真処理は、目的に応じて、銀画像を形成する写真処
理(黒白写真処理)、あるいは色素像を形成する写真処
理(カラー写真処理)のいずれであってもよい、処理温
度は普通18℃から50°Cの間に選ばれるが、18°
Cより低い温度または50℃を越える温度としてもよい
。
以下に具体的実施例を示して本発明を更に詳しく説明す
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されない。
るが、本発明の実施の態様はこれにより限定されない。
実施例1
平均粒径0.3μ輪の沃素2モル%塩素0,2モル%を
含有する単分散塩沃臭化銀の内部核およびその外側に、
沃素40モル%及び臭素60モル%の比率で沃臭化銀層
を設け、0.5μ論の粒径まで成長させ、引き続き沃素
1モル%、臭素99モル%の比率で0゜85μl*で沃
臭化銀層を成長させ、やや丸味を帯びた14面体状のハ
ロゲン化銀粒子を得た。
含有する単分散塩沃臭化銀の内部核およびその外側に、
沃素40モル%及び臭素60モル%の比率で沃臭化銀層
を設け、0.5μ論の粒径まで成長させ、引き続き沃素
1モル%、臭素99モル%の比率で0゜85μl*で沃
臭化銀層を成長させ、やや丸味を帯びた14面体状のハ
ロゲン化銀粒子を得た。
これらの粒子に塩化金酸塩、ログン7ンモン、チオ硫酸
ナトリウムおよびチオ尿素系化合物を添加し、化学熟成
した。
ナトリウムおよびチオ尿素系化合物を添加し、化学熟成
した。
この粒子70g当り可塑剤としてトメリチロールプロパ
ン11.及び安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a、7−チトラザインデン2gを加え、乳
剤調製液を作成した。この乳剤調製液と下記に記す保護
層液および該保護層液に第1表に示す塗布助剤を含有せ
しめて、乳剤液は銀量として4.8g/m2、ゼラチン
量として3.5g/輸2、保護層液はゼラチン量として
1.0g/m”となるように、塗布スピード150m/
+*inで下引済みのポリエチレンテレフタレート支持
体上に同時塗布し、2分30秒で乾燥させて15種のX
レイフィルム試料(1〜15)を得た。
ン11.及び安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a、7−チトラザインデン2gを加え、乳
剤調製液を作成した。この乳剤調製液と下記に記す保護
層液および該保護層液に第1表に示す塗布助剤を含有せ
しめて、乳剤液は銀量として4.8g/m2、ゼラチン
量として3.5g/輸2、保護層液はゼラチン量として
1.0g/m”となるように、塗布スピード150m/
+*inで下引済みのポリエチレンテレフタレート支持
体上に同時塗布し、2分30秒で乾燥させて15種のX
レイフィルム試料(1〜15)を得た。
(保護層液)
・ゼラチン 100g・平均
粒径4.0μ−のポリメチル メタクリレート粒子 3g ・′コロイダルシリカ (デュポン社製ルドツクスへM
)を固型分に換ヰして 5gとビニル
スルホン系硬膜剤と水を加えて1.5kgに仕上げる。
粒径4.0μ−のポリメチル メタクリレート粒子 3g ・′コロイダルシリカ (デュポン社製ルドツクスへM
)を固型分に換ヰして 5gとビニル
スルホン系硬膜剤と水を加えて1.5kgに仕上げる。
この表面保護層用塗布液の表面張力をウイルヘルミー吊
板法〔例えばイー・マテイジエヴイ (E。
板法〔例えばイー・マテイジエヴイ (E。
Matijevi5)”サーフェス・アンド・コロイド
・サイエンス (Surface and Co11o
id 5cience)” yl @ 、124−12
8i Jiley−1nterscienee刊 (1
989)参照〕で測定した。
・サイエンス (Surface and Co11o
id 5cience)” yl @ 、124−12
8i Jiley−1nterscienee刊 (1
989)参照〕で測定した。
また、各試料について1鴫2当りのハジキの数を調べた
。更に、塗布後1時間の未露光試料を25℃相対湿度2
0%で12時間調湿し、同一条件下の暗室内で試料を帯
電列を異にするネオプレンゴムローラ、ナイロンローラ
で摩擦した後、GX−300自動現像機(小西六写真工
業(株)!りとXD−90現像液(同社製)を用いて現
像(35℃、90秒)し、定着、水洗を行い発生するス
タチックマークを目視にて判定し帯電防止性能を評価し
た。評価基準は次の通りである。
。更に、塗布後1時間の未露光試料を25℃相対湿度2
0%で12時間調湿し、同一条件下の暗室内で試料を帯
電列を異にするネオプレンゴムローラ、ナイロンローラ
で摩擦した後、GX−300自動現像機(小西六写真工
業(株)!りとXD−90現像液(同社製)を用いて現
像(35℃、90秒)し、定着、水洗を行い発生するス
タチックマークを目視にて判定し帯電防止性能を評価し
た。評価基準は次の通りである。
A :全く発生しない
B :面積で3%%満発生する
C :面積で3%以以上10末
D 二面積で10%以上発生する
これらの結果を併せてff51表に示した。
尚、表中のカブリはベース濃度を差引し1だ値であ第1
表から明らかなように、本発明の化合物を用いた試料は
、いずれも塗布液の表面張力が低く、塗布工程でのハジ
キ敗者しく少なく、しかもスタチックマークの発生も減
少し、非常に優れている。
表から明らかなように、本発明の化合物を用いた試料は
、いずれも塗布液の表面張力が低く、塗布工程でのハジ
キ敗者しく少なく、しかもスタチックマークの発生も減
少し、非常に優れている。
DBSを用いた試料(3〜5)は、塗布液の表面張力を
低下させるが、ハジキ数が者しく多く、スタチックマー
クの発生も多く実用化できないことが判る。
低下させるが、ハジキ数が者しく多く、スタチックマー
クの発生も多く実用化できないことが判る。
実施例2
平均粒径1.2μ−の高感度ネガ用沃臭化銀乳剤(沃化
銀7モル%含有)を金および硫黄増感剤で最高感度まで
化学熟成した。
銀7モル%含有)を金および硫黄増感剤で最高感度まで
化学熟成した。
次いで、緑感性増感色素として、アンヒドロ−5,5°
−ノフェニルー9−エチル−3,3゛−ノーγ−スルホ
プロピルオキサカルボシアニンヒドロキシドナ) 17
ウム塩の適量を加え、緑感性ハロゲン化銀乳剤を作成し
た。
−ノフェニルー9−エチル−3,3゛−ノーγ−スルホ
プロピルオキサカルボシアニンヒドロキシドナ) 17
ウム塩の適量を加え、緑感性ハロゲン化銀乳剤を作成し
た。
次いで、ハロゲン化銀1モル当り、マゼンタカプラーと
して、1−(2,4,6−)リクaa7エ二ル)−3−
[3−(2,4−ノーt−7ミル7エ7キシアセトアミ
ド)ペンツ7ミド]−5−ピラゾロンを80g1カラー
ドマゼンタカプラーとして、1−(2,4,6−トリク
ロロフエニル)−4−(1−す7チルアゾ)−3−(2
−クロロ−5−オクタデセニルサクシンイミドアニリノ
)−5−ピラゾロンを2,5gそれぞれ秤量してからト
リクレジルホス7エー) 120g、酢酸エチル240
gを混合して加温溶解し、次いでトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム5gドア、5%ゼラチン水
溶液550m1の溶液中に乳化分散したカプラー溶液4
00.を前記の緑感性乳剤34g及びゼラチン40gを
含有する乳剤1kgに添加し、硬膜Mとして1,3−ジ
クロロ−5−ヒドロキシ−3−トリアジンナトリウム塩
の2%水溶液80−lを加えて乳剤塗布液とした。
して、1−(2,4,6−)リクaa7エ二ル)−3−
[3−(2,4−ノーt−7ミル7エ7キシアセトアミ
ド)ペンツ7ミド]−5−ピラゾロンを80g1カラー
ドマゼンタカプラーとして、1−(2,4,6−トリク
ロロフエニル)−4−(1−す7チルアゾ)−3−(2
−クロロ−5−オクタデセニルサクシンイミドアニリノ
)−5−ピラゾロンを2,5gそれぞれ秤量してからト
リクレジルホス7エー) 120g、酢酸エチル240
gを混合して加温溶解し、次いでトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム5gドア、5%ゼラチン水
溶液550m1の溶液中に乳化分散したカプラー溶液4
00.を前記の緑感性乳剤34g及びゼラチン40gを
含有する乳剤1kgに添加し、硬膜Mとして1,3−ジ
クロロ−5−ヒドロキシ−3−トリアジンナトリウム塩
の2%水溶液80−lを加えて乳剤塗布液とした。
別に紫外線吸収剤として2−(2−ヒドロキシ−3゜s
−y−t−7ミルフエニル)ベンゾトリアゾール15
gを酢酸エチルとシフニル7タレー) 15gに溶解し
た後、596のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
45m1を含む10%ゼラチン水溶液330輸lに添加
、分散せしめる。この分散液を更に10%ゼラチン水溶
Q320mlに加え、1,3−7クロロー5−ヒドロキ
ン−5−トリアノンナトリウム塩の2%水溶vLlow
1、第2表に示す塗布助剤0.5gずつを添加した後、
全量をIkgになるよう:14整し (ゼラチン濃度6
.5%)、紫外線吸収層用塗布液とした。
−y−t−7ミルフエニル)ベンゾトリアゾール15
gを酢酸エチルとシフニル7タレー) 15gに溶解し
た後、596のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
45m1を含む10%ゼラチン水溶液330輸lに添加
、分散せしめる。この分散液を更に10%ゼラチン水溶
Q320mlに加え、1,3−7クロロー5−ヒドロキ
ン−5−トリアノンナトリウム塩の2%水溶vLlow
1、第2表に示す塗布助剤0.5gずつを添加した後、
全量をIkgになるよう:14整し (ゼラチン濃度6
.5%)、紫外線吸収層用塗布液とした。
この塗布液の表面張力を実施例1と同様に測定した。
乳剤塗布液お上VT:外線吸収層塗布液を、下引を施し
た三酢酸セルロース支持体上に、乳1140g/鋤2(
湿分として)、紫外a吸収剤20g/1m’ (湿分と
して)になるようにスライドホッパ一方式により、塗布
スピードLoom/minで重層塗布し乾燥させて10
種の単色カラーフィルム試料(16〜25)を作成した
。
た三酢酸セルロース支持体上に、乳1140g/鋤2(
湿分として)、紫外a吸収剤20g/1m’ (湿分と
して)になるようにスライドホッパ一方式により、塗布
スピードLoom/minで重層塗布し乾燥させて10
種の単色カラーフィルム試料(16〜25)を作成した
。
各試料についてl112当りのハジキの数を調べると共
に、塗布ムラを以下の試験法によって評価した。
に、塗布ムラを以下の試験法によって評価した。
(塗布ムラ試験法)
i130cmXrgさ100c+aの試料を濃度1.0
になるように均一露光し、現像処理後の試料を目視によ
り↑り定する。
になるように均一露光し、現像処理後の試料を目視によ
り↑り定する。
く塗布ムラの評価〉
0:非常に良好
O:良好
Δ・:や)不良
× :不良
カプリも同時に測定し、結果を併せて第2表に示す。
現像処理は下記に従った。
処理工程〔処理温度38℃〕 処理時間° 発色
現像 3分15秒漂 白
6分30秒水 洗
3分15秒定 着
6分30秒水
洗 3分15秒安定化
1分30秒 乾 燥 各処理工程において使用した処IJ液組成は下記の如く
である。
現像 3分15秒漂 白
6分30秒水 洗
3分15秒定 着
6分30秒水
洗 3分15秒安定化
1分30秒 乾 燥 各処理工程において使用した処IJ液組成は下記の如く
である。
4−7ミノー3−メチル−N−エチル−N−(β−ヒド
ロキシエチル)アニリン硫酸塩 4.75g無
水亜硫酸ナトリウム 4,25゜ヒドロ
キシル7ミン1/2硫酸塩 2,0g無水炭酸カ
リウム 37.5 g臭化ナトリウム
1.3gニトリロ三酸酢酸3ナ
トリウム塩(1水塩)2.5g 水酸化カリウム 1.0g水を加
えて11とし、水酸化ナトリウムを用いて9810.6
に調整鋼る。
ロキシエチル)アニリン硫酸塩 4.75g無
水亜硫酸ナトリウム 4,25゜ヒドロ
キシル7ミン1/2硫酸塩 2,0g無水炭酸カ
リウム 37.5 g臭化ナトリウム
1.3gニトリロ三酸酢酸3ナ
トリウム塩(1水塩)2.5g 水酸化カリウム 1.0g水を加
えて11とし、水酸化ナトリウムを用いて9810.6
に調整鋼る。
エチレンジアミン四酢酸鉄アンモニウム塩100.0゜
エチレンノアミン四酢酸2アンモニウム塩10.0g
臭化アンモニウム 150,0g氷酢
酸 10.OB水を加え
て11とし、アンモニア水を用いてpH6,01,:調
整する。
酸 10.OB水を加え
て11とし、アンモニア水を用いてpH6,01,:調
整する。
チオ硫Rアンモニウム 175.0g無水
亜硫酸ナトリウム 8.6gメタ亜硫酸
ナトリウム 2.3g水を加えて11と
し、酢酸を用いてpH6,0に調整する。
亜硫酸ナトリウム 8.6gメタ亜硫酸
ナトリウム 2.3g水を加えて11と
し、酢酸を用いてpH6,0に調整する。
ホルマリン (37%水溶液) 1.5m
fコニダックス (小西六写真工業株式会社製)7.5
霞l 水を加えて11とする。
fコニダックス (小西六写真工業株式会社製)7.5
霞l 水を加えて11とする。
第 2 表
第2表から明らかなように、本発明に係る試料は紫外線
吸収剤のような疎水性の添加剤を含む親水性コロイド層
の塗布においても、写真特性に影響を与えることなくハ
ジキ、塗布ムラが着しく改善されている。
吸収剤のような疎水性の添加剤を含む親水性コロイド層
の塗布においても、写真特性に影響を与えることなくハ
ジキ、塗布ムラが着しく改善されている。
出願人 小西六写真工業株式会社
手続補正書
昭和63年 5月12日
1、事件の表示
昭和62年特許願第31045号
2、発明の名称
塗布性が改良された写真感光材料
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号連絡先
〒191
東京都日野市さくら町1番地
コニカ株式会社 (電話0425−83−1521)特
許 部 4、補正命令の日付 5、補正の対象 明a書の「発明の詳細な説明Jの欄。
許 部 4、補正命令の日付 5、補正の対象 明a書の「発明の詳細な説明Jの欄。
6、補正の内容
発明の詳細な説明を次の如く補正する。
(2)明細書第23頁の第1表を次の如く補正する。
(3)同第30頁中の第2表を次の如く補正する。
第2表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 親水性有機コロイド塗布層に、下記一般式〔 I 〕で表
される化合物を含有することを特徴とする写真感光材料
。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rはカプリル基、ラウリル基、ミリスチル基、
パルミチル基、ステアリル基またはオレイル基を表し、
Aは水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基、アリ
ール基または−CH_2CH_2OPO(OM)_2基
を表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウ
ム基またはトリエタノールアンモニウム基を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3104587A JPS63197937A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 塗布性が改良された写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3104587A JPS63197937A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 塗布性が改良された写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197937A true JPS63197937A (ja) | 1988-08-16 |
Family
ID=12320510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3104587A Pending JPS63197937A (ja) | 1987-02-12 | 1987-02-12 | 塗布性が改良された写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63197937A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0639790A3 (en) * | 1993-08-18 | 1995-08-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | A surfactant compound and a silver halide photographic material containing it. |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP3104587A patent/JPS63197937A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0639790A3 (en) * | 1993-08-18 | 1995-08-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | A surfactant compound and a silver halide photographic material containing it. |
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