JPS6322675Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6322675Y2
JPS6322675Y2 JP1983106057U JP10605783U JPS6322675Y2 JP S6322675 Y2 JPS6322675 Y2 JP S6322675Y2 JP 1983106057 U JP1983106057 U JP 1983106057U JP 10605783 U JP10605783 U JP 10605783U JP S6322675 Y2 JPS6322675 Y2 JP S6322675Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
support
wafer
fitting
semiconductor wafer
sliding rod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1983106057U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6013742U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP10605783U priority Critical patent/JPS6013742U/ja
Publication of JPS6013742U publication Critical patent/JPS6013742U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6322675Y2 publication Critical patent/JPS6322675Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【考案の詳細な説明】 (a) 考案の技術分野 本考案はウエーハ支持移動具に係り、特に半導
体ウエーハを枚葉処理する、いわゆるインライン
方式の半導体装置の製造装置内に半導体ウエーハ
を搬送するためのウエーハ支持移動具に関するも
のである。
(b) 従来技術と問題点 従来、半導体ウエーハを移動搬送する場合には
真空チヤツクが広く用いられている。
しかしながら真空チヤツクはウエーハの表面に
チヤツク面が接触するため、特に半導体ウエーハ
の表面の清浄さを維持しておくことが必要な、半
導体ウエーハ上に被膜を形成する工程等において
は、半導体ウエーハを移動搬送する場合に前記真
空チヤツクを用いると、接触する面における被膜
の膜質の均一性を損なうことがあるので、真空チ
ヤツクは不向きである。
そこで半導体ウエーハの表面に触れることなく
半導体ウエーハの側面を支持して移動する方法が
行われている。
その際に用いられている従来のウエーハ支持移
動具の平面図を第1図に示す。
第1図においてウエーハ支持移動具1は、移動
枠2に図示のごとく補強板3、回動支軸保持板
4、押さえ金具保持板5が設けられ、該移動枠2
内にはT字金具6に支持金具7と移動桿8が連結
されている。
支持金具7には半導体ウエーハ9を支持するた
め図示のように、支持金具7に対して垂直でない
方向に爪10が設けられており、移動桿8の前後
運動によつて支持金具7は回動支軸11を中心と
して回転し、支持金具7に設けた4本の爪10に
よつて半導体ウエーハ9を支持するよう構成され
ている。
半導体ウエーハ9は傾斜して支持金具7に設け
た4本の爪10により支持されるようになつてい
る。
又、移動桿8は押さえ金具保持板5上の押さえ
金具12によつて遊動が可能なように保持されて
いる。
このような構成のウエーハ支持移動具1を用い
て枚葉処理の半導体ウエーハ9を気相成長装置内
に移動搬送する場合には、移動桿8をA方向に移
動して支持金具7に設けた爪10によつて半導体
ウエーハ9を支持し、支持した状態のままで移動
枠2を気相成長装置のゲート口より装置内の所定
の位置まで移動して停止し、その後移動桿8をB
方向に摺動して半導体ウエーハ9を離脱する。
しかしながらこのような構造のウエーハ支持移
動具1は、図から明らかなように半導体ウエーハ
9の直径に比べて大型となり、それに伴つて重量
が増加する等の問題があり、更には半導体ウエー
ハ9を所定の位置に載置する際に、位置ずれが生
じ易く所定の位置に正確に載置するには高度の熟
練を要するという問題点があつた。
(c) 考案の目的 本考案の目的はこのような問題点に鑑み、より
軽量で小型化し、所定の位置に正確且つ容易に半
導体ウエーハを載置することが可能なウエーハ支
持移動具の提供にある。
(d) 考案の構成 この目的を達成するため本考案は、摺動桿がそ
の上を摺動する移動支持板と、前記摺動桿に直交
して設けた支持金具と、該支持金具の両端に設け
た、ウエーハを支持する爪と、上記摺動桿の先端
に設けたT字金具により、連結金具を介し上記移
動支持板上の軸を中心として回転する回転支持金
具と、該回転支持金具の先端に設けた、ウエーハ
を支持する爪とを具備してなることを特徴とす
る。
(e) 考案の実施例 以下本考案の一実施例について第2図〜第3図
により説明する。
第2図はウエーハ支持移動具の平面図であり、
aはウエーハを支持する前、bはウエーハを支持
した状態を示している。
第3図はウエーハ支持移動具のの正面図であ
る。
第2図及び第3図において、移動支持板21上
に設けたスライド軸受29及び30によつて摺動
桿22がスライドするように構成されている。
摺動桿22の図示の下方には支持金具27が設
けられており、図に示すように、この支持金具2
7の両端に半導体ウエーハ32を支持する爪28
が支持金具27に対して垂直でない半導体ウエー
ハ32を支える方向に設けられている。
一方摺動桿22は図示の上方の先端にT字金具
23を備え、このT字金具23は連結金具24を
介して、回転支持金具25を軸31を中心として
回転させるようになつている。
回転支持金具25の先端には図に示すように、
半導体ウエーハ32を支持する爪26が回転支持
金具25に対して垂直でない半導体ウエーハ32
を支える方向に設けられている。
このような構成のウエーハ支持移動具20を用
い、前記したと同様に枚葉処理を行う半導体ウエ
ーハ32を支持して移動する場合には、先ず始め
に第2図aに示すように移動支持板21上の摺動
桿22をスライド軸受29及び30にそつてC方
向に摺動させ、この摺動桿22の摺動によりT字
金具23、連結金具24を移動させ、回転支持金
具25を軸31を中心として回転させ、爪26が
第2図aに示す位置に来るようにし、半導体ウエ
ーハ32の周縁部に爪26及び28がくるように
ウエーハ支持移動具20を位置させる。
次に第2図bに示すように、摺動桿22を移動
支持板21上でD方向へ摺動すると、支持金具2
7が図示の上方へ移動すると同時に、摺動桿22
の先端のT字金具23により回転支持金具25が
軸31を中心として回転し、爪26及び28が半
導体ウエーハ32の周縁部に接触し、この4個の
爪により半導体ウエーハ32を支持する。
次いで半導体ウエーハ32を支持した状態のま
まで移動支持板21を気相成長装置のゲート口よ
り装置内の所定の位置まで移動して停止し、その
後摺動桿22をC方向に摺動して半導体ウエーハ
32を離脱して所定の位置に載置する。
なお、移動支持板21は軽量化のためアルミニ
ウム又はアルミニウム合金を用い、その他の部分
には強度の点からステンレス鋼を用いている。
このような構造のウエーハ支持移動具20は図
から明らかなように、従来のウエーハ支持移動具
と比較すると、外側に移動枠がないため小型化さ
れ、従つて軽量化されることになる。
半導体ウエーハ32の支持は、直径方向に力を
加えずに爪26及び28により行つているので、
半導体ウエーハ32に無理な力が加わることがな
い。
又、T字金具23と回転支持金具25を遊動可
能な二つの連結金具24によつて連結したことに
より、移動の自由度が増し、半導体ウエーハ32
の支持、離脱が容易になり、所定の位置に半導体
ウエーハ32を容易に移動して載置することが可
能となる。
(f) 考案の効果 以上説明したように本考案によれば、ウエーハ
支持移動具をウエーハ径に比べて小型軽量化する
ことが可能となり、半導体ウエーハを爪により支
持して搬送するので、半導体ウエーハに無理な力
を加えず、また二つの連結金具を設けることによ
り回転支持金具が円滑に回転するので、ウエーハ
の安全な支持、離脱が容易になり生産性向上の効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のウエーハ支持移動具、第2図は
本考案の一実施例のウエーハ支持移動具の平面
図、第3図は本考案の一実施例のウエーハ支持移
動具の正面図、である。 図において、20はウエーハ支持移動具、21
は移動支持板、22は摺動桿、23はT字金具、
24は連結金具、25は回転支持金具、26及び
28は爪、27は支持金具、29及び30はスラ
イド軸受、31は軸、32は半導体ウエーハ、を
示す。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 摺動桿22がその上を摺動する移動支持板21
    と、 前記摺動桿22に直交して設けた支持金具27
    と、 該支持金具27の両端に設けた、ウエーハ32
    の側面を支持する爪28と、 上記摺動桿22の先端に設けたT字金具23に
    より、連結金具24を介し上記移動支持板21上
    の軸31を中心として回転する2個の回転支持金
    具25と、 該回転支持金具25のそれぞれの先端に設け
    た、ウエーハ32の側面を支持する爪26と、 を具備してなることを特徴とするウエーハ支持
    移動具。
JP10605783U 1983-07-07 1983-07-07 ウエ−ハ支持移動具 Granted JPS6013742U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10605783U JPS6013742U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 ウエ−ハ支持移動具

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10605783U JPS6013742U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 ウエ−ハ支持移動具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6013742U JPS6013742U (ja) 1985-01-30
JPS6322675Y2 true JPS6322675Y2 (ja) 1988-06-22

Family

ID=30248349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10605783U Granted JPS6013742U (ja) 1983-07-07 1983-07-07 ウエ−ハ支持移動具

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6013742U (ja)

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5318389A (en) * 1976-08-04 1978-02-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Wafer holding and handling device
JPS5364362A (en) * 1976-11-22 1978-06-08 Hitachi Ltd Machine hand

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6013742U (ja) 1985-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002520860A (ja) ウェハーを極小接触でハンドリングするためのウェハーキャリア及び方法
JPH0573346B2 (ja)
JPS6322675Y2 (ja)
GB2320811A (en) Wafer handling apparatus
JP2019125756A (ja) ワークの搬送装置、及び、ワークの搬送方法
JPH04157752A (ja) 縦型半導体製造装置におけるキャリアステージ装置
US3009560A (en) Dice positioner
JP2000156391A (ja) 半導体ウェーハ検査装置
JP2002343844A (ja) ウェーハハンドリング機構
KR100583942B1 (ko) 양면 가공용 웨이퍼의 고정 장치
JPH01313953A (ja) ウェハー支持用のスパチュラ装置およびウェハーの配置方法
JPH11329989A (ja) 基板処理装置
JPH0837224A (ja) 半導体製造装置のカセット授受ユニット
JPH04113622A (ja) 熱処理装置
JPH0383730A (ja) 板状体の搬入搬出方法および搬入搬出装置
JPH0226382B2 (ja)
JPH064585Y2 (ja) 半導体ウエハの処理装置
JPH0679669A (ja) 搬送装置
JP2847759B2 (ja) 半導体基板収納容器
JPH0638111Y2 (ja) 成膜装置の試料台保持機構
JPH0429562Y2 (ja)
JPH0243656Y2 (ja)
JPH0810722B2 (ja) 移載装置
JPH09199447A (ja) ウェーハを垂直に載置したダイシング装置
JPH0837221A (ja) 半導体製造装置のカセット授受ユニット