JPS6330702B2 - - Google Patents
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- JPS6330702B2 JPS6330702B2 JP1730981A JP1730981A JPS6330702B2 JP S6330702 B2 JPS6330702 B2 JP S6330702B2 JP 1730981 A JP1730981 A JP 1730981A JP 1730981 A JP1730981 A JP 1730981A JP S6330702 B2 JPS6330702 B2 JP S6330702B2
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- Japan
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- scanning needle
- slope
- track
- scanning
- slopes
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- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
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- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B9/00—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor
- G11B9/06—Recording or reproducing using a method not covered by one of the main groups G11B3/00 - G11B7/00; Record carriers therefor using record carriers having variable electrical capacitance; Record carriers therefor
- G11B9/07—Heads for reproducing capacitive information
- G11B9/075—Heads for reproducing capacitive information using mechanical contact with record carrier, e.g. by stylus
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は走査針及びその製造方法に関するもの
で、成形のための作業性を向上させ、もつて低廉
な走査針を提供することを目的とする。
で、成形のための作業性を向上させ、もつて低廉
な走査針を提供することを目的とする。
情報信号が幾何学的形状の変化として記録され
た記録媒体、例えばビデオ情報等を収録したビデ
オデイスクに当接して該ビデオデイスクのトラツ
クに沿つて相対的に走行して該ビデオ情報等を例
えば静電容量の変化として検知再生する走査針と
して、ビデオデイスク上のトラツクが該走査針を
機械的に案内するための溝を有するもの(CED
方式)とそのような溝をもたないもの(VHD方
式)とに対して、それぞれ第1図イ,ロに示す如
く成形されたものが提案されている。いずれの走
査針においてもそのビデオデイスクに対接する係
合面は良好な再生特性を得るために所定の大きさ
に成形しなければならず、例えばCED方式の走
査針について言えば電極先端部の幅1が2μm、高
さ2が3〜5μmに規定され、かつ、トラツク延在
方向に長さ3が3〜5μmに規定されている。この
ように複細な針先形状は、先ず例えば天然のダイ
ヤモンド結晶を角柱状に成形してなる走査針出発
材料の先端部を除去して斜面4,5を成形し、次
いで該加工を行つたものを断面が略U字状の研磨
溝(図示省略)内で相対的に走行させて係合面6
を成形するようにしているが、従来の製造方法で
は上記長さ3を規定値内に収めるために斜面4,
5を、係合面6と同様のいわゆるラツピング加工
によつて精密に成形するようにしていた。しか
し、この製造方法になる走査針はその加工に著し
い手間を要し低廉化に寄与しない。斜面4,5成
形時の加工量が著しく多いこと、異なる2面をそ
れぞれ機械にアクセスさせる必要があること、さ
らに加工程度を監視するために都度機械に着脱し
なければならないこと、などの作業性に難点があ
るためである。尚、斜面4,5の成形にあたり上
記ラツピング加工に比べてラフな加工方法、例え
ばレーザービームによる切断或いはグラインデイ
ング加工などによると上述の欠点は除去される
が、第2図に示す如く、先鋭性の良い先端部7を
得ることができず例えば10μR程度の丸味をもつ
てしまうことになる。これを、係合面6の加工時
に除去するようにすると、上記長さ3を最早、規
定値内に収めることができなくなる。第1図イ,
ロにおいて、ハツチング部分8は走出面に成形し
た電極を示し、角度9は斜面4,5を画定する稜
線10とトラツクの延在方向11との為す角であ
り、これをもつてトラツクの相対的進入を許容す
るようにしている。
た記録媒体、例えばビデオ情報等を収録したビデ
オデイスクに当接して該ビデオデイスクのトラツ
クに沿つて相対的に走行して該ビデオ情報等を例
えば静電容量の変化として検知再生する走査針と
して、ビデオデイスク上のトラツクが該走査針を
機械的に案内するための溝を有するもの(CED
方式)とそのような溝をもたないもの(VHD方
式)とに対して、それぞれ第1図イ,ロに示す如
く成形されたものが提案されている。いずれの走
査針においてもそのビデオデイスクに対接する係
合面は良好な再生特性を得るために所定の大きさ
に成形しなければならず、例えばCED方式の走
査針について言えば電極先端部の幅1が2μm、高
さ2が3〜5μmに規定され、かつ、トラツク延在
方向に長さ3が3〜5μmに規定されている。この
ように複細な針先形状は、先ず例えば天然のダイ
ヤモンド結晶を角柱状に成形してなる走査針出発
材料の先端部を除去して斜面4,5を成形し、次
いで該加工を行つたものを断面が略U字状の研磨
溝(図示省略)内で相対的に走行させて係合面6
を成形するようにしているが、従来の製造方法で
は上記長さ3を規定値内に収めるために斜面4,
5を、係合面6と同様のいわゆるラツピング加工
によつて精密に成形するようにしていた。しか
し、この製造方法になる走査針はその加工に著し
い手間を要し低廉化に寄与しない。斜面4,5成
形時の加工量が著しく多いこと、異なる2面をそ
れぞれ機械にアクセスさせる必要があること、さ
らに加工程度を監視するために都度機械に着脱し
なければならないこと、などの作業性に難点があ
るためである。尚、斜面4,5の成形にあたり上
記ラツピング加工に比べてラフな加工方法、例え
ばレーザービームによる切断或いはグラインデイ
ング加工などによると上述の欠点は除去される
が、第2図に示す如く、先鋭性の良い先端部7を
得ることができず例えば10μR程度の丸味をもつ
てしまうことになる。これを、係合面6の加工時
に除去するようにすると、上記長さ3を最早、規
定値内に収めることができなくなる。第1図イ,
ロにおいて、ハツチング部分8は走出面に成形し
た電極を示し、角度9は斜面4,5を画定する稜
線10とトラツクの延在方向11との為す角であ
り、これをもつてトラツクの相対的進入を許容す
るようにしている。
本発明は上記欠点に鑑みなされたもので、ビデ
オデイスクに対する係合面を、該ビデオデイスク
の相対的進入を所定の開角をもつて許容する稜線
を画定する一組の斜面に比べてその面粗さを滑ら
かにしてなる走査針、及びその製造方法を提供し
ようするものである。
オデイスクに対する係合面を、該ビデオデイスク
の相対的進入を所定の開角をもつて許容する稜線
を画定する一組の斜面に比べてその面粗さを滑ら
かにしてなる走査針、及びその製造方法を提供し
ようするものである。
説明の便宜上、先ず本発明に係る走査針の製造
方法の1実施例について説明する。天然のダイヤ
モンド結晶体(六八面体)を出発材料として第3
図イに示す直方体形状の走査針出発材料12(こ
れは、例えば縦横がそれぞれ0.2〜0.25mmで、長
さが1〜1.5mmである)を成形する。走査針出発
材料12の走出面(電極形成面に相当)13はラ
ツピング加工により鏡面に加工されている。次い
で、このように成形した複数の走査針出発材料の
それぞれを、くし歯状の治具14の各くし歯に接
合、固定させる(第3図ロ)。次いで、このよう
に支持した各走査針出発材料について、レーザー
ビーム加工機を使つて走査針出発材料12の走出
面13側からレーザビームを照射して、第3図
ハ,ニに示す如く稜線15によつて画定された一
組の斜面16,17を形成する。図中18はレー
ザービームによる切りしろ、19は切断された残
渣物であり、20は稜線15のビデオデイスク面
21に対する傾斜角、22は一組の斜面16,1
7の内包角である。尚レーザーは、波長1.06μm、
シングルモード、連続発振タイプのNd:YAGレ
ーザーであり、Qスイツチパルス状に発振させて
切断を行なう。ビーム径は小さい程好ましい結果
が得られ、計算上で7μm程度となつている。かか
る条件で切断したとき、切りしろ18の巾は20〜
30μm程度となり、また、針先部は第3図ニに於
いてハツチングで示す如く約10μmR程度のダレ
23を生ずる。このダレは、熱エネルギーの集中
するこの針先部において特に顕著に現われる。
方法の1実施例について説明する。天然のダイヤ
モンド結晶体(六八面体)を出発材料として第3
図イに示す直方体形状の走査針出発材料12(こ
れは、例えば縦横がそれぞれ0.2〜0.25mmで、長
さが1〜1.5mmである)を成形する。走査針出発
材料12の走出面(電極形成面に相当)13はラ
ツピング加工により鏡面に加工されている。次い
で、このように成形した複数の走査針出発材料の
それぞれを、くし歯状の治具14の各くし歯に接
合、固定させる(第3図ロ)。次いで、このよう
に支持した各走査針出発材料について、レーザー
ビーム加工機を使つて走査針出発材料12の走出
面13側からレーザビームを照射して、第3図
ハ,ニに示す如く稜線15によつて画定された一
組の斜面16,17を形成する。図中18はレー
ザービームによる切りしろ、19は切断された残
渣物であり、20は稜線15のビデオデイスク面
21に対する傾斜角、22は一組の斜面16,1
7の内包角である。尚レーザーは、波長1.06μm、
シングルモード、連続発振タイプのNd:YAGレ
ーザーであり、Qスイツチパルス状に発振させて
切断を行なう。ビーム径は小さい程好ましい結果
が得られ、計算上で7μm程度となつている。かか
る条件で切断したとき、切りしろ18の巾は20〜
30μm程度となり、また、針先部は第3図ニに於
いてハツチングで示す如く約10μmR程度のダレ
23を生ずる。このダレは、熱エネルギーの集中
するこの針先部において特に顕著に現われる。
このレーザービームによる加工を行つた走査針
材料は第4図イに示す如く成形されている。一組
の斜面16,17を画定する各稜線には波線で誇
張して示すダレを持つており、このダレはレーザ
ービームの照射方向24に方向性をもつている。
次いで、この走査針材料の先端部に於ける先鋭性
を出すために、該走査針材料を、第4図ロ,ハに
示す如く所定の開口角25の研磨溝26を有する
研磨デイスク27に傾角28をもつて圧接させ、
両者を相対的に走行させてラツピング加工を行
う。第4図ニ,ホ,ヘはこの加工を行つた走査針
材料の先端部の斜視図、側面図、及び正面図を示
したものであり、図示の如く、上記一組の第1斜
面16,17に比べてより滑らかな、そして内包
角29が上記内包角22より大きくかつビデオデ
イスク面21に対する稜線30の傾角31が上記
傾角20より少さい一組の第2斜面32,33を
備えるようにしている。34は第1斜面16と第
2斜面32を画定する稜線である。
材料は第4図イに示す如く成形されている。一組
の斜面16,17を画定する各稜線には波線で誇
張して示すダレを持つており、このダレはレーザ
ービームの照射方向24に方向性をもつている。
次いで、この走査針材料の先端部に於ける先鋭性
を出すために、該走査針材料を、第4図ロ,ハに
示す如く所定の開口角25の研磨溝26を有する
研磨デイスク27に傾角28をもつて圧接させ、
両者を相対的に走行させてラツピング加工を行
う。第4図ニ,ホ,ヘはこの加工を行つた走査針
材料の先端部の斜視図、側面図、及び正面図を示
したものであり、図示の如く、上記一組の第1斜
面16,17に比べてより滑らかな、そして内包
角29が上記内包角22より大きくかつビデオデ
イスク面21に対する稜線30の傾角31が上記
傾角20より少さい一組の第2斜面32,33を
備えるようにしている。34は第1斜面16と第
2斜面32を画定する稜線である。
次いで、この第2工程を経て得た走査針材料の
走出面13上に周知のスパツタリング技術を用い
て電極金属であるタンタルを所定の膜厚になるよ
うに付着せしめて電極35(第5、第6図参照)
を形成する。次いで、CED方式に適する走査針
を得るためには第5図に示す加工、すなわち走査
針材料12を径方向断面が略U字状の研磨溝36
を有する研磨板37に電極35面が略垂直になる
ように当接させ、両者を相対的に走行させる加工
を行ない、一方、VHD方式に適する走査針を得
るためには第6図に示す加工、すなわち走査針材
料12を径方向断面が略V字状でありかつその開
口角38が所定角である研磨溝39を有する研磨
板40に電極35面が研磨溝39の延在方向に対
して所定角41を持つように当接させ、両者を相
対的に走行させる加工を行ない、それぞれ第7、
第8図に示すような針先形状を有する走査針を成
形する。
走出面13上に周知のスパツタリング技術を用い
て電極金属であるタンタルを所定の膜厚になるよ
うに付着せしめて電極35(第5、第6図参照)
を形成する。次いで、CED方式に適する走査針
を得るためには第5図に示す加工、すなわち走査
針材料12を径方向断面が略U字状の研磨溝36
を有する研磨板37に電極35面が略垂直になる
ように当接させ、両者を相対的に走行させる加工
を行ない、一方、VHD方式に適する走査針を得
るためには第6図に示す加工、すなわち走査針材
料12を径方向断面が略V字状でありかつその開
口角38が所定角である研磨溝39を有する研磨
板40に電極35面が研磨溝39の延在方向に対
して所定角41を持つように当接させ、両者を相
対的に走行させる加工を行ない、それぞれ第7、
第8図に示すような針先形状を有する走査針を成
形する。
次にこれら走査針について説明する。上述の通
り、第7図の走査針はCED方式の、そして第8
図の走査針はVHD方式の各ビデオデイスクプレ
ヤーに適合するものであり、これらは走査針基台
50と該走査針基台50の走出面51に成形した
電極52とを備えており、また走査針基台50は
その先端部に、ビデオデイスク53上に形成され
たトラツクの相対的進入を所定の開角54をもつ
て許容する稜線55、該稜線55を画定する一組
の斜面56,57、トラツクに当接する係合面5
8,59、及び上記走出面51を備えており、と
くに係合面58,59はその表面粗さが一組の斜
面56,57のそれに比べて滑らかにされてい
る。そして第7図の走査針では、係合面58は
CED方式ビデオデイスクのV字状トラツク溝に
適合するように稜線55の走出面51側に延在し
かつ該トラツク溝の溝壁に係合する略U字状面に
成形されており、一方第8図の走査針では、その
係合面59はVHD方式ビデオデイスクのトラツ
ク表面に平行なそしてトラツクピツチに比べて大
きい横幅60を有する平面に成形されている。か
かる係合面58,59について第1図に関連して
述べた走査針先端部のトラツク延在方向の長さ3
を所定値内に規定するため、各走査針はそれぞれ
該係合面58,59と一組の斜面56,57との
間に、傾斜角(α1)61が第1稜線55のそれ
(α2)54に比べて小さい第2稜線62によつて
画定された、斜面の内包角(β2)63が第1斜面
56,57のそれ(β1)64に比べて大きい一組
の第2斜面65,66を備えている。この第2斜
面65,66の表面粗さは係合面58,59のそ
れと略同程度とされ、第1斜面56,57に比べ
て滑らかにされている。
り、第7図の走査針はCED方式の、そして第8
図の走査針はVHD方式の各ビデオデイスクプレ
ヤーに適合するものであり、これらは走査針基台
50と該走査針基台50の走出面51に成形した
電極52とを備えており、また走査針基台50は
その先端部に、ビデオデイスク53上に形成され
たトラツクの相対的進入を所定の開角54をもつ
て許容する稜線55、該稜線55を画定する一組
の斜面56,57、トラツクに当接する係合面5
8,59、及び上記走出面51を備えており、と
くに係合面58,59はその表面粗さが一組の斜
面56,57のそれに比べて滑らかにされてい
る。そして第7図の走査針では、係合面58は
CED方式ビデオデイスクのV字状トラツク溝に
適合するように稜線55の走出面51側に延在し
かつ該トラツク溝の溝壁に係合する略U字状面に
成形されており、一方第8図の走査針では、その
係合面59はVHD方式ビデオデイスクのトラツ
ク表面に平行なそしてトラツクピツチに比べて大
きい横幅60を有する平面に成形されている。か
かる係合面58,59について第1図に関連して
述べた走査針先端部のトラツク延在方向の長さ3
を所定値内に規定するため、各走査針はそれぞれ
該係合面58,59と一組の斜面56,57との
間に、傾斜角(α1)61が第1稜線55のそれ
(α2)54に比べて小さい第2稜線62によつて
画定された、斜面の内包角(β2)63が第1斜面
56,57のそれ(β1)64に比べて大きい一組
の第2斜面65,66を備えている。この第2斜
面65,66の表面粗さは係合面58,59のそ
れと略同程度とされ、第1斜面56,57に比べ
て滑らかにされている。
第9図は別の実施例を示したものである。第4
図イに示す如く成形した走査針材料について同図
ロ,ハに示す加工を行う代りに、走出面51を実
線67で示す如くそれに平行に、或いは破線68
で示す如く該走出面51に対して所定の角度をも
つてラツピング加工を行い、ダレ23を除去する
ようにしたものである。この加工を行つた後、該
走出面に電極を形成し、次いで第5図或いは第6
図の加工を行つて、それぞれ第7図或いは第8図
に類似する走査針をそれぞれ得ることができる。
図イに示す如く成形した走査針材料について同図
ロ,ハに示す加工を行う代りに、走出面51を実
線67で示す如くそれに平行に、或いは破線68
で示す如く該走出面51に対して所定の角度をも
つてラツピング加工を行い、ダレ23を除去する
ようにしたものである。この加工を行つた後、該
走出面に電極を形成し、次いで第5図或いは第6
図の加工を行つて、それぞれ第7図或いは第8図
に類似する走査針をそれぞれ得ることができる。
叙上の如く本発明ではビデオデイスクのトラツ
クの相対的進入を所定の開角をもつて許容する稜
線を画定する一組の斜面を、ラツピング加工に比
べてラフな例えばレーザービームによる切断加工
でもつて成形することができるので、走査針の加
工時間を大幅に短縮することができ、低廉な走査
針を大量に供給でき極めて有用である。尚、本発
明はビデオデイスクプレヤー用に限らず、各種の
記録媒体のための走査針に適用できることは言う
までもない。また、出発材料は実施例の如く天然
のダイヤモンドに限らず、合成のダイヤモンドそ
の他の材料をシヤンクに取付けたものであつても
良い。
クの相対的進入を所定の開角をもつて許容する稜
線を画定する一組の斜面を、ラツピング加工に比
べてラフな例えばレーザービームによる切断加工
でもつて成形することができるので、走査針の加
工時間を大幅に短縮することができ、低廉な走査
針を大量に供給でき極めて有用である。尚、本発
明はビデオデイスクプレヤー用に限らず、各種の
記録媒体のための走査針に適用できることは言う
までもない。また、出発材料は実施例の如く天然
のダイヤモンドに限らず、合成のダイヤモンドそ
の他の材料をシヤンクに取付けたものであつても
良い。
第1図イ,ロは従来の2種の走査針の斜視図、
第2図はその成形動作説明のための針先斜視図で
ある。第3図イ〜ホは本発明の製造方法の第1工
程に至る迄の動作説明図(第3図ニ,ホはそれぞ
れ同図ニの側面図、及び部分拡大図である)、第
4図イ〜ヘは第2工程の動作説明図(第4図ロ,
ハは成形動作の正面及び側面図、同図ホ,ヘは同
図ニの側面及び正面図である)、第5図イ,ロ及
び第6図イ,ロはそれぞれ異なる最終成形動作説
明に供する正面及び側面図である。第7、第8各
図のイ,ロ,ハはそれぞれ本発明の走査針の異な
る態様の正面、側面、及び底面図である。第9図
は本発明方法の他の実施例の説明図である。 主な図番の説明、50……走査針基台、52…
…電極、55……第1稜線、56,57……一組
の第1斜面、58,59……係合面、51……走
出面、62……第2稜線、65,66……一組の
第2斜面。
第2図はその成形動作説明のための針先斜視図で
ある。第3図イ〜ホは本発明の製造方法の第1工
程に至る迄の動作説明図(第3図ニ,ホはそれぞ
れ同図ニの側面図、及び部分拡大図である)、第
4図イ〜ヘは第2工程の動作説明図(第4図ロ,
ハは成形動作の正面及び側面図、同図ホ,ヘは同
図ニの側面及び正面図である)、第5図イ,ロ及
び第6図イ,ロはそれぞれ異なる最終成形動作説
明に供する正面及び側面図である。第7、第8各
図のイ,ロ,ハはそれぞれ本発明の走査針の異な
る態様の正面、側面、及び底面図である。第9図
は本発明方法の他の実施例の説明図である。 主な図番の説明、50……走査針基台、52…
…電極、55……第1稜線、56,57……一組
の第1斜面、58,59……係合面、51……走
出面、62……第2稜線、65,66……一組の
第2斜面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 情報信号が幾何学的形状の変化として記録さ
れた記録媒体に当接して該記録媒体のトラツクに
沿つて相対的に走行して上記情報信号を検知再生
する走査針において、該走査針は走査針基台と該
走査針基台の走出面に成形した電極とを備えてお
り、前記走査針基台はその先端部に、該走査針の
走入面から走出面に向けて記録媒体に対して下り
傾斜(傾斜角はα2)となる第1稜線によつて画成
されかつ斜面の内包角がβ1である一組の第1斜面
と、更に前記下り傾斜に比して小さい傾斜角α1
(α2>α1)の下り傾斜となる第2稜線によつて画
成されかつ斜面の内包角が前記第1斜面の内包角
に比して大きいβ2(β2>β1)である一組の第2斜
面と、前記トラツクに当接する係合面、及び前記
走出面を備えており、前記係合面及び前記第2斜
面はその面粗さが前記第1斜面に比べて滑らかに
されていることを特徴とする走査針。 2 前記トラツクは径方向断面が略V字状溝であ
り、前記係合面は前記稜線の前記走出面側に延在
しかつ前記V字状溝の溝壁に係合する略U字状面
である特許請求の範囲第1項記載の走査針。 3 前記トラツクは走査針を機械的に案内するた
めの溝をもたないものであり、前記係合面は該ト
ラツクの表面に平行なそして該トラツクのピツチ
に比べて大きい横幅を有する平面である特許請求
の範囲第1項記載の走査針。 4 情報信号が幾何学的形状の変化として記録さ
れた記録媒体に当接して該記録媒体のトラツクに
沿つて相対的に走行して上記情報信号を検知再生
する走査針の製造方法において、柱状の走査針出
発材料の先端部に、走査針の走入面から走出面に
向けて記録媒体に対して下り傾斜(傾斜角はα2)
となる第1稜線によつて画成されかつ斜面の内包
角がβ1である一組の第1斜面を形成する第1工程
と、該第1工程を経た走査針材料の先端部に、さ
らに前記下り傾斜に比して小さい傾斜角α1(α2>
α1)の下り傾斜となる第2稜線によつて画成され
かつ斜面の内包角が前記第1斜面の内包角に比し
て大きいβ2(β2>β1)で前記第1斜面より面粗さ
が滑らかな一組の第2斜面を形成する第2工程
と、前記トラツクに当接し前記第1斜面より面粗
さが滑らかな係合面を形成する第3工程とを有す
ることを特徴とする走査針の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1730981A JPS57133535A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Scanning stylus and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1730981A JPS57133535A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Scanning stylus and its production |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57133535A JPS57133535A (en) | 1982-08-18 |
| JPS6330702B2 true JPS6330702B2 (ja) | 1988-06-20 |
Family
ID=11940403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1730981A Granted JPS57133535A (en) | 1981-02-06 | 1981-02-06 | Scanning stylus and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57133535A (ja) |
-
1981
- 1981-02-06 JP JP1730981A patent/JPS57133535A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57133535A (en) | 1982-08-18 |
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