JPS6353995A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
配線基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS6353995A JPS6353995A JP19661286A JP19661286A JPS6353995A JP S6353995 A JPS6353995 A JP S6353995A JP 19661286 A JP19661286 A JP 19661286A JP 19661286 A JP19661286 A JP 19661286A JP S6353995 A JPS6353995 A JP S6353995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- conductor
- layer
- conductor layer
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はヰ子機器に用いられるセラミックス基板を有す
る配線基板の製造方法に関する。
る配線基板の製造方法に関する。
[従来の技術]
セラミックス配線基板として、セラミックス基板の表面
上に導体層と絶縁層を交互に重合して形成することによ
り多層化し、各導体層を絶縁層を介して4通させてなる
多層配線基板が知られている。
上に導体層と絶縁層を交互に重合して形成することによ
り多層化し、各導体層を絶縁層を介して4通させてなる
多層配線基板が知られている。
従来、このセラミックス多層配線基板は、一般的に次の
ような方法で製造されている。第2図で示す多層配線基
板を例にとり従来の製造方法を説明する。まず、セラミ
ックスからなるグリーンシート1の表面に所定パターン
で第1の導体層2を形成し、矢にその上方に第1の絶縁
層3をスクリーン印刷で形成する。この絶縁層3は、第
1の導体層2に重合してこれと第2の導体層とを層間絶
縁する部分と、グリーンシート1の表面の導体層2を形
成していない箇所に充填する部分とからなるもので、こ
の画部分を一回のスクリーン印刷により一緒に形成する
。また、絶縁層3にスルーホール4を形成し、第1の絶
縁層3を形成した後にスルーホール4に導体ペースト5
を光9.スる。次いで、第1の絶縁層3の表面に第2の
導体層6を形成する。以後同様に第2の絶縁層7および
第3の導体層8全頭次形成し、最後にグリーンシート1
と各導体層と各絶縁層全同時焼結して全体を一体化する
。
ような方法で製造されている。第2図で示す多層配線基
板を例にとり従来の製造方法を説明する。まず、セラミ
ックスからなるグリーンシート1の表面に所定パターン
で第1の導体層2を形成し、矢にその上方に第1の絶縁
層3をスクリーン印刷で形成する。この絶縁層3は、第
1の導体層2に重合してこれと第2の導体層とを層間絶
縁する部分と、グリーンシート1の表面の導体層2を形
成していない箇所に充填する部分とからなるもので、こ
の画部分を一回のスクリーン印刷により一緒に形成する
。また、絶縁層3にスルーホール4を形成し、第1の絶
縁層3を形成した後にスルーホール4に導体ペースト5
を光9.スる。次いで、第1の絶縁層3の表面に第2の
導体層6を形成する。以後同様に第2の絶縁層7および
第3の導体層8全頭次形成し、最後にグリーンシート1
と各導体層と各絶縁層全同時焼結して全体を一体化する
。
[発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、このような従来の製造方法には次のよう
な問題があった。すなわち、絶縁層の印刷面は、グリー
ンシート1を例にとると、第1の導体層2とこの導体層
2を形成していないグリーンシート1の表面とが組合さ
れた凹凸面となる。
な問題があった。すなわち、絶縁層の印刷面は、グリー
ンシート1を例にとると、第1の導体層2とこの導体層
2を形成していないグリーンシート1の表面とが組合さ
れた凹凸面となる。
第1の絶縁層3では第2の導体層6と絶縁層3の表面と
が組合された凹凸面となる。このように凹凸を有する印
刷面上に、異なる導体層の間を絶縁する部分と同一導体
層の間隙を絶縁する部分とを1枚のスクリーン版を用い
て1回のスクリーン印。
が組合された凹凸面となる。このように凹凸を有する印
刷面上に、異なる導体層の間を絶縁する部分と同一導体
層の間隙を絶縁する部分とを1枚のスクリーン版を用い
て1回のスクリーン印。
刷で形成する場合には、凸部である導体層にスクリーン
版により大きな圧力が加わり、導体層の表面が変形して
絶縁層の接触が不均一となる。このため、同一の導体層
の各部分における抵抗にバラツキが生じる。また、同一
導体層の各部分の間隙ではスクリーン版が浮上シ、この
間隙に絶縁に一ストをきっちり入り込1せることかで@
ない。このため、同一の導体層の間隙の絶縁を確実に確
保することができない。
版により大きな圧力が加わり、導体層の表面が変形して
絶縁層の接触が不均一となる。このため、同一の導体層
の各部分における抵抗にバラツキが生じる。また、同一
導体層の各部分の間隙ではスクリーン版が浮上シ、この
間隙に絶縁に一ストをきっちり入り込1せることかで@
ない。このため、同一の導体層の間隙の絶縁を確実に確
保することができない。
本発明は前記事情に基づいてなされたもので、絶縁層全
導体層に悪影響を与えることなく形成し、電気特性に優
れたセラミックス配線基板を得ることができる配線基板
の製造方法を提惧するものである。
導体層に悪影響を与えることなく形成し、電気特性に優
れたセラミックス配線基板を得ることができる配線基板
の製造方法を提惧するものである。
[問題点を解決するための手段と作用]本発明の配線基
板の製造方法は、セラミックス基板の表面に所定パター
ンの導体層を形成し、次に前記セラミックス基板の表面
の前記導体層を形成していない箇所に前記導体層と同じ
厚さで絶縁層を形成し、その後前記導体層の表面と前記
絶縁層の表面とで形成される平面に絶縁層全形成するこ
とを特徴とするものである。
板の製造方法は、セラミックス基板の表面に所定パター
ンの導体層を形成し、次に前記セラミックス基板の表面
の前記導体層を形成していない箇所に前記導体層と同じ
厚さで絶縁層を形成し、その後前記導体層の表面と前記
絶縁層の表面とで形成される平面に絶縁層全形成するこ
とを特徴とするものである。
次に本発明の配線基板の製造方法金第1図で示す配線基
板を製造する場合を例にとり説明する。
板を製造する場合を例にとり説明する。
まず、セラミックス粉末からなるグリーンシート11を
用意し、このグリーンシート1ノの表面に導体ペースト
金円いてスクリーン印刷により所定パターンの第1の導
体層12を形成する。
用意し、このグリーンシート1ノの表面に導体ペースト
金円いてスクリーン印刷により所定パターンの第1の導
体層12を形成する。
次にグリーンシート1ノの表面におけるitの導体層1
2を形成していない箇所、すなわち第1の導体7112
の各部の間隙に、絶縁ペーストを用いてスクリーン印刷
により第1の導体層I2と同じ厚さの絶縁層13kf形
成する。この絶縁層12は第1の導体層12の間隙に絶
縁ペーストをきっちり充填して形成できる。そして、第
1の導体層12の表面と絶縁層13人の表面とは同一高
さ位置にあり、両刃の表面を組合せると平面となる。
2を形成していない箇所、すなわち第1の導体7112
の各部の間隙に、絶縁ペーストを用いてスクリーン印刷
により第1の導体層I2と同じ厚さの絶縁層13kf形
成する。この絶縁層12は第1の導体層12の間隙に絶
縁ペーストをきっちり充填して形成できる。そして、第
1の導体層12の表面と絶縁層13人の表面とは同一高
さ位置にあり、両刃の表面を組合せると平面となる。
次いで、第1の導体層12の表面と絶縁層13にの表面
の全体に、絶縁ペーストを用いてスクリーン印刷により
絶縁層13Bを形成する。絶縁層13Bには第1の導体
層12に対応してスルーホール14を形成する。この絶
縁層13Bは、第1の導体層12の表面と絶縁層13人
の表面とにより形成される平面を印刷面として形成する
ために。
の全体に、絶縁ペーストを用いてスクリーン印刷により
絶縁層13Bを形成する。絶縁層13Bには第1の導体
層12に対応してスルーホール14を形成する。この絶
縁層13Bは、第1の導体層12の表面と絶縁層13人
の表面とにより形成される平面を印刷面として形成する
ために。
−スクリーン版により第1の導体層12に大きな圧力が
加わることがない。そして、前記?!級層13にと、絶
R層13Bとで第1のP2縁層13を構成する。
加わることがない。そして、前記?!級層13にと、絶
R層13Bとで第1のP2縁層13を構成する。
すなわち、第1の絶縁N13を絶縁層13A。
13Bに分けて2回のスクリーン印刷により形成する。
さらに、スクリーン印刷により絶縁層13Bに形成した
スルーホール14に導体ペースト15を充填する。
スルーホール14に導体ペースト15を充填する。
その後、絶縁層13Bの表面に第2の導体層16を形成
する。以降前記した形成方法と同様に。
する。以降前記した形成方法と同様に。
絶縁層13Bの表面にかける第2の導体層16を形成し
ていない箇所に絶縁層J7Aを形成し、第2の導体層1
6の表面と絶縁層17にの表面とで形成される平面に絶
縁層17Bf形成して、両刃の絶縁層Z7Aと絶縁層1
7Bとで絶縁層17を構成する。絶縁層13Bに形成し
たスルーホール18には導体ペース) 19f充填する
。最後に絶縁層17Bの表面に第3の導体層2o全形底
する。
ていない箇所に絶縁層J7Aを形成し、第2の導体層1
6の表面と絶縁層17にの表面とで形成される平面に絶
縁層17Bf形成して、両刃の絶縁層Z7Aと絶縁層1
7Bとで絶縁層17を構成する。絶縁層13Bに形成し
たスルーホール18には導体ペース) 19f充填する
。最後に絶縁層17Bの表面に第3の導体層2o全形底
する。
そして、このように形成した積層体を加熱炉で同時焼成
する。これによりセラミックス基板11の表面に導体層
12,16.20と絶縁層13゜17とを交互に重合し
て多層化した配線基板を得る。
する。これによりセラミックス基板11の表面に導体層
12,16.20と絶縁層13゜17とを交互に重合し
て多層化した配線基板を得る。
この製造方法において、セラミックス基板(グリーンシ
ート)全形成するセラミックスには、アルミナ(At2
03)、AtNなどを用いる。導体層は白金(Pt )
とタングステン■との混合物により形成する。この混合
物における白金の割合は40〜90重量%がよい。導体
層の厚さは例えば20趨とする。絶縁層は、セラミック
ス基板(グリーンシート)と同じ材料すなわちセラミッ
クスで形成する。絶縁層における同一導体層の間隙を充
填する部分の厚さと異なる導体層の間に介在する部分の
厚さを夫々例えば201Bとする。
ート)全形成するセラミックスには、アルミナ(At2
03)、AtNなどを用いる。導体層は白金(Pt )
とタングステン■との混合物により形成する。この混合
物における白金の割合は40〜90重量%がよい。導体
層の厚さは例えば20趨とする。絶縁層は、セラミック
ス基板(グリーンシート)と同じ材料すなわちセラミッ
クスで形成する。絶縁層における同一導体層の間隙を充
填する部分の厚さと異なる導体層の間に介在する部分の
厚さを夫々例えば201Bとする。
しかして、前記方法により裏道した配線基板では、第1
の導体層12の間隙には絶縁層J、9Aが、第2の導体
層16の間隙には絶縁層77Aが夫々確実に形成されて
いるので、各導体層12.16における間隙の絶Rを充
分確保できる。また、第1の導体層12の表面は平滑で
絶縁層13T3に均一に接触し、第2の導体/816の
表面も平滑で絶縁層77Aに均一に接触しているので、
各導体層12.16の夫々の抵抗が均一でバラツキがな
い。
の導体層12の間隙には絶縁層J、9Aが、第2の導体
層16の間隙には絶縁層77Aが夫々確実に形成されて
いるので、各導体層12.16における間隙の絶Rを充
分確保できる。また、第1の導体層12の表面は平滑で
絶縁層13T3に均一に接触し、第2の導体/816の
表面も平滑で絶縁層77Aに均一に接触しているので、
各導体層12.16の夫々の抵抗が均一でバラツキがな
い。
[実施例]
本発明例として第1図で示す配線基板を製作した。この
場合、アルミナを主成分とする110m×80簡のグリ
ーンシートの表面に、白金とタングステンの混合物から
なる導体ペーストラ用いてスクリーン印刷により厚さ2
0μmの第1の導体層を形成し、この導体層の間隙にア
ルミナを主成分とする絶縁ペーストを用いてスクリーン
印刷により厚さ20趨の絶縁層を形成し、さらに絶縁層
と絶縁層の表面全体にスクリーン印刷により厚さ20繍
の絶縁層全形成した。以降同様にして他の導体層および
絶縁層を形成して多層構造とした。
場合、アルミナを主成分とする110m×80簡のグリ
ーンシートの表面に、白金とタングステンの混合物から
なる導体ペーストラ用いてスクリーン印刷により厚さ2
0μmの第1の導体層を形成し、この導体層の間隙にア
ルミナを主成分とする絶縁ペーストを用いてスクリーン
印刷により厚さ20趨の絶縁層を形成し、さらに絶縁層
と絶縁層の表面全体にスクリーン印刷により厚さ20繍
の絶縁層全形成した。以降同様にして他の導体層および
絶縁層を形成して多層構造とした。
このようにして得た積層体を還元雰囲気中にて温度15
50−1580℃で同時焼成して配線基板を得た。この
ような方法により10個の配線基板を製作した。そして
、各配線基板に対して導体抵抗のバラツキと、同一導体
相互間の絶縁抵抗の測定を行なった。この結果、導体抵
抗のバラツキは65Ω±5%、絶縁抵抗5×lOΩであ
った。
50−1580℃で同時焼成して配線基板を得た。この
ような方法により10個の配線基板を製作した。そして
、各配線基板に対して導体抵抗のバラツキと、同一導体
相互間の絶縁抵抗の測定を行なった。この結果、導体抵
抗のバラツキは65Ω±5%、絶縁抵抗5×lOΩであ
った。
また、従来例として第2図で示す配線基板全製作した。
この場合、本発明例と同じグリーンシートの表面に本発
明例と同じ第1の導体層全形成し、欠いて絶縁ペースト
を用いてスクリーン印刷により第1の導体層の間隙を埋
める部分と、第1の導体層とWfJ2の導体層との間に
介在する部分と1−緒にして第1の絶籟層を形成した。
明例と同じ第1の導体層全形成し、欠いて絶縁ペースト
を用いてスクリーン印刷により第1の導体層の間隙を埋
める部分と、第1の導体層とWfJ2の導体層との間に
介在する部分と1−緒にして第1の絶籟層を形成した。
以降同様にして他の導体層および絶縁層を形成して多層
構造とした。このようにして得た積層体を本発明例と同
様にして同時焼成し:rN線基板基板た。このような方
法により10個の配線基板を製作し、各配線基板に対し
て導体抵抗のバラツキと同一導体相互間の絶縁抵抗の測
定全行なった。この結果、導体抵抗のバラツキは650
±15%、絶縁抵抗は3×10 Ωであった。
構造とした。このようにして得た積層体を本発明例と同
様にして同時焼成し:rN線基板基板た。このような方
法により10個の配線基板を製作し、各配線基板に対し
て導体抵抗のバラツキと同一導体相互間の絶縁抵抗の測
定全行なった。この結果、導体抵抗のバラツキは650
±15%、絶縁抵抗は3×10 Ωであった。
本発明例と従来例の測定結果を比較すると、導体抵抗の
バラツキでは本発明例が従来例に比して173と格段に
小さく、同一導体相互間の絶縁抵抗でも本発明例が従来
例に比して格段に優れていることが判る。
バラツキでは本発明例が従来例に比して173と格段に
小さく、同一導体相互間の絶縁抵抗でも本発明例が従来
例に比して格段に優れていることが判る。
なお、本発明が対象とする配線基板は、第1図で水子多
層構造に限らず、少なくとも第1の導体層と第1の絶縁
層を重合(−たものであれば艮い。
層構造に限らず、少なくとも第1の導体層と第1の絶縁
層を重合(−たものであれば艮い。
[発明の効果]
以上説明したように本発明の配線基板の製造方法によれ
ば、絶縁層における同一導体層の間隙を埋める部分と、
異なる導体層の間に介在する部分とを2回のスクリーン
印刷に分けて形成するので、絶縁層を導体層に悪影響を
与えずに無理なく形成し、導体層の抵抗のバラツキをな
くすとともに同一導体層間の絶縁性全高めた電気特性に
優れたセラミックス配線基板を得ることができる。
ば、絶縁層における同一導体層の間隙を埋める部分と、
異なる導体層の間に介在する部分とを2回のスクリーン
印刷に分けて形成するので、絶縁層を導体層に悪影響を
与えずに無理なく形成し、導体層の抵抗のバラツキをな
くすとともに同一導体層間の絶縁性全高めた電気特性に
優れたセラミックス配線基板を得ることができる。
4.1゛η而の簡単な説明
第1図は本発明製造方法に工り裏道した配線基板の一実
施例を示す断面図、第2図は従来の製造方法により製造
した配線基板の一例を示す断面図である。
施例を示す断面図、第2図は従来の製造方法により製造
した配線基板の一例を示す断面図である。
1ノ・・・セラミックス基板、12・・・第1の導体す
、13.13に、13B・・・絶縁層、ノロ・・・第2
のと導体層、17.J7A、17B・・・絶縁層、20
・・・第3の導体層。
、13.13に、13B・・・絶縁層、ノロ・・・第2
のと導体層、17.J7A、17B・・・絶縁層、20
・・・第3の導体層。
Claims (1)
- セラミックス基板の表面に所定パターンの導体層を形成
する工程、前記セラミックス基板の表面の前記導体層を
形成していない箇所に前記導体層とほぼ同等の厚さで絶
縁層を形成する工程、前記導体層の表面と前記絶縁層の
表面に絶縁層を形成する工程を具備することを特徴とす
る配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196612A JPH0614593B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミックス多層配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196612A JPH0614593B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミックス多層配線基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6353995A true JPS6353995A (ja) | 1988-03-08 |
| JPH0614593B2 JPH0614593B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=16360652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61196612A Expired - Fee Related JPH0614593B2 (ja) | 1986-08-22 | 1986-08-22 | セラミックス多層配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0614593B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02197189A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-08-03 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 窒化アルミニウム回路基板及びその製造方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS501817A (ja) * | 1973-05-10 | 1975-01-09 | ||
| JPS59135797A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-04 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板の製造方法 |
| JPS60216599A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-30 | 沖電気工業株式会社 | 厚膜hicの製造方法 |
| JPS6167989A (ja) * | 1984-09-11 | 1986-04-08 | 三洋電機株式会社 | 多層配線基板の製造方法 |
| JPS61292994A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | 株式会社日立製作所 | 多層印刷配線基板およびその製造方法 |
-
1986
- 1986-08-22 JP JP61196612A patent/JPH0614593B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS501817A (ja) * | 1973-05-10 | 1975-01-09 | ||
| JPS59135797A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-04 | 日本電気株式会社 | 多層配線基板の製造方法 |
| JPS60216599A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-30 | 沖電気工業株式会社 | 厚膜hicの製造方法 |
| JPS6167989A (ja) * | 1984-09-11 | 1986-04-08 | 三洋電機株式会社 | 多層配線基板の製造方法 |
| JPS61292994A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | 株式会社日立製作所 | 多層印刷配線基板およびその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02197189A (ja) * | 1988-11-14 | 1990-08-03 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 窒化アルミニウム回路基板及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0614593B2 (ja) | 1994-02-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970004759B1 (ko) | 다층회로를 제작하는 방법 | |
| JPS62501181A (ja) | 寸法の安定した内部接続板の製造方法 | |
| US6891109B2 (en) | Monolithic ceramic substrate and method for making the same | |
| US4914260A (en) | Ceramic multi-layer printed circuit boards | |
| JPS6235257B2 (ja) | ||
| JPS6353995A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
| JP2555638B2 (ja) | 多層セラミック基板の製造方法 | |
| EP0359413A2 (en) | Hybrid circuits | |
| JPS5998597A (ja) | 多層プリント配線板 | |
| JPH0669663A (ja) | コンデンサ内蔵多層基板 | |
| JPS61161794A (ja) | 湿式多層セラミツク基板 | |
| JPH0645758A (ja) | 多層セラミック基板およびその製造方法 | |
| EP0390944B1 (en) | Manufacturing method for a multilayer ceramic substrate | |
| JP2555639B2 (ja) | 多層セラミック基板の製造方法 | |
| JP3176258B2 (ja) | 多層配線基板 | |
| JPS63288094A (ja) | セラミック多層基板及びその製造方法 | |
| JP3289430B2 (ja) | セラミック多層基板及びその製造方法 | |
| JP2001267743A (ja) | セラミック積層基板の製造方法 | |
| JP2874685B2 (ja) | 多層基板の製造方法 | |
| JPH10294561A (ja) | 高脱バインダ性多層配線基板およびその製法 | |
| JPH04221886A (ja) | 厚膜多層回路基板及びその製造方法 | |
| JPH1065342A (ja) | 多層回路基板およびその製造方法 | |
| JPH06120674A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| JPH0636935A (ja) | 厚膜磁性体チップ部品及びその製造方法 | |
| JPS6045095A (ja) | 厚膜多層基板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |